包含氢氟醚的溶剂以及使用包含氢氟醚的溶剂的基板处理方法与流程

技术特征：
1.一种基板处理方法，其包括：用水系洗涤液洗涤基板；用含有碳原子数为1以上5以下的醇的第一溶剂置换附着于所述基板的所述水系洗涤液；用含有以下式(1)所表示的氢氟醚的第二溶剂置换附着于所述基板的所述第一溶剂；使附着于所述基板的第二溶剂所包含的所述氢氟醚转变为超临界状态；以及去除超临界状态的所述氢氟醚，[化学式1]rf1与rf2各自独立地为氟原子、碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基，r3为碳原子数为1以上4以下的直链烷基、碳原子数为3或4的支链烷基、碳原子数为1以上4以下的直链氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链氟烷基，rf1与rf2中的至少一个为碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基。2.一种基板处理方法，其包括：用水系洗涤液洗涤基板；用含有碳原子数为1以上5以下的醇的第一溶剂置换附着于所述基板的所述水系洗涤液；用含有以下式(1)所表示的氢氟醚的第二溶剂置换附着于所述基板的所述第一溶剂；用氟溶剂置换附着于所述基板的所述第二溶剂；使附着于所述基板的所述氟溶剂转变为超临界状态；以及去除超临界状态的所述氟溶剂，[化学式2]rf1与rf2各自独立地为氟原子、碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基，r3为碳原子数为1以上4以下的直链烷基、碳原子数为3或4的支链烷基、碳原子数为1以上4以下的直链氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链氟烷基，rf1与rf2中的至少一个为碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基。3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述转变在处理腔内进行。4.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，以使所述氢氟醚不经过液体状态的方式进行所述去除。5.根据权利要求2所述的基板处理方法，其中，以使所述氟溶剂不经过液体状态的方式
进行所述去除。6.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述氢氟醚在20℃下的对水的溶解度为0.03g/100g以上0.2g/100g以下。7.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述氢氟醚的含氟率为40重量％以上70重量％以下。8.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述氢氟醚的全球变暖潜能值为0以上500以下。9.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，rf1与rf2各自独立地为碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基，r3为碳原子数为1以上4以下的直链烷基、或者碳原子数为3或4的支链烷基。10.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，rf1与rf2各自独立地为三氟甲基或五氟乙基，r3为甲基或乙基。11.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述氢氟醚为选自由1,1,1,3,3,3-六氟-2-甲氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-乙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-正丙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-异丙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-正丁氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-叔丁氧基丙烷、1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-甲氧基丁烷及1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-乙氧基丁烷组成的组中的至少一种。12.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述第二溶剂中的所述氢氟醚的浓度为90重量％以上100重量％以下。13.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述醇选自甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、1-丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、丙二醇单甲醚。14.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，所述水系洗涤液为水。15.根据权利要求2所述的基板处理方法，其中，所述氟溶剂选自cf3cf2ch2ochf2、cf3cf2och2cf3、cf3cf2cf2och3、(cf3)2cfoch3、cf3cf2cf2cf2och3、(cf3)2cfcf2och3、cf3cf2(cf3)cfoch3、(cf3)3coch3、cf3cf2cf2cf2och2ch3、(cf3)2cfcf2och2ch3、cf3cf2(cf3)cfoch2ch3、(cf3)3coch2ch3、(cf3)2cfcf(och3)cf2cf3、chf2cf2och2cf3、c4f9h、c5f
11
h、c6f
13
h、c4f9ch2ch3、c6f
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ch2ch3、cf3ch2cf2ch3、c-c5f7h3、cf3cf2chfchfcf3、cf3ch2chf2、(cf3cf2cf2cf2)3n及全氟己烷。16.一种溶剂，其含有以下式(1)所表示的氢氟醚，[化学式3]rf1与rf2各自独立地为氟原子、碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基，r3为碳原子数为1以上4以下的直链烷基、碳原子数为3或4的支链烷基、碳原子数为1以上4以下的直链氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链氟烷基，rf1与rf2中的至少一个为碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基或者碳原子数为3或4
的支链全氟烷基。17.根据权利要求16所述的溶剂，其中，所述氢氟醚的纯度为99.0％以上100％以下。18.根据权利要求17所述的溶剂，其中，所述氢氟醚为选自由1,1,1,3,3,3-六氟-2-甲氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-乙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-正丙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-异丙氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-正丁氧基丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2-叔丁氧基丙烷、1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-甲氧基丁烷及1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-乙氧基丁烷组成的组中的至少一种。19.根据权利要求16所述的溶剂，其为用于洗涤基板的洗涤溶剂。20.根据权利要求16所述的溶剂，其为用于将半导体基板干燥的洗涤溶剂。

技术总结
本发明提供一种溶剂，其含有以下式(1)所表示的氢氟醚。Rf1与Rf2各自独立地为氟原子、碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基。R3为碳原子数为1以上4以下的直链烷基、碳原子数为3或4的支链烷基、碳原子数为1以上4以下的直链氟烷基、或者碳原子数为3或4的支链氟烷基。Rf1与Rf2中的至少一个为碳原子数为1以上4以下的直链全氟烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基；烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基；烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基；烷基或者碳原子数为3或4的支链全氟烷基；


技术研发人员：柏叶崇 细井健史
受保护的技术使用者：中央硝子株式会社
技术研发日：2020.09.11
技术公布日：2022/5/20