一种光学预型体清洗托盘的制作方法

1.本实用新型属于光学预型体清洗设备技术领域，具体涉及一种光学预型体清洗托盘。


背景技术：

2.采用模造技术制造非球面玻璃透镜工艺中，一般使用预型体作为原材料。预型体在加工过程中存在研磨粉残留、异物污染等品质异常，在包装、运输环节存在二次污染等品质异常。为保证模压后非球面玻璃透镜的品质，原材料在模造前需超声波清洗，以保证原材料的洁净度；传统的预型体超洗工艺，采用人工一枚一枚夹取的方法，效率低、人工夹取易碰到原材料有效径内的表面，导致品质低下,同时常规的治具放入预型体后，预型体与治具板表面接触很容易造成原材料污染。
3.因此，有必要设计一种光学预型体清洗托盘来解决上述技术问题。


技术实现要素：

4.为克服上述现有技术中的不足，本实用新型目的在于提供一种光学预型体清洗托盘。
5.为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供的技术方案是：一种光学预型体清洗托盘，包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位置。
6.优选的，所述定位槽的顶部和底部都为圆柱形，槽壁均为垂直面，同时所述预型体的正反两个圆弧面的厚度均小于所述定位槽顶部和顶部两个圆柱形槽体的高度。
7.优选的，所述托盘本体上开设的定位槽有若干个，同时若干个定位槽均匀分布在托盘平面上。
8.优选的，所述托盘本体表面设置有凸起的识别凸点。
9.优选的，开设在所述托盘本体边缘部位的所述定位槽与所述托盘本体端部之间设置有预留面。
10.由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有的优点如下：
11.本方案设计的一种光学预型体清洗托盘，将原材料预型体放置在托盘的定位槽内，然后统一放入清洗设备内进行清洗，通过定位槽槽壁锥形斜面的设计，使预型体最大程度地与定位槽的槽底以及槽壁之间不接触，从而避免材料受到污染而影响产品质量，托盘整体结构设计简单巧妙，使用方便快捷。
附图说明
12.图1为托盘俯视图。
13.图2为定位槽内部结构示意图。
14.以上附图中，托盘本体1、定位槽2、预型体3、锥形斜面4、识别凸点5、预留面6。
具体实施方式
15.以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
16.请参阅图1~图2。须知，在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
17.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
18.实施例：如图1 ~图2所示，一种光学预型体清洗托盘，包括托盘本体1，所述托盘本体1上开设有定位槽2，定位槽2有若干个，都均匀分布在托盘平面上；预型体3放置在所述定位槽2内，所述定位槽2的中间部位槽壁为锥形斜面4，同时所述锥形斜面4垫设在所述预型体3的边缘位置；所述定位槽2的顶部和底部都为圆柱形，槽壁均为垂直面，同时所述预型体3的正反两个圆弧面的厚度均小于所述定位槽2顶部和顶部两个圆柱形槽体的高度；此托盘结构设计将原材料预型体3放置在托盘的定位槽2内，然后统一放入清洗设备内进行清洗，通过定位槽2槽壁锥形斜面4的设计，使预型体3最大程度地与定位槽2的槽底以及槽壁之间不接触，斜面的倾斜度根据不同的预形体型号设计，上下圆柱形槽体设计可以使预型体3的底端圆弧面不会接触到定位槽2的槽底，同时预型体3顶部圆弧面不会露出定位槽2外部，保证预型体3原材料不会受外界影响而造成材料污染，提高产品质量。
19.优选的实施方式如下：
20.所述托盘本体1表面设置有凸起的识别凸点5；识别凸点5可以判别托盘的方向，使托盘放入清洗设备内时位置保证正确。
21.开设在所述托盘本体1边缘部位的所述定位槽2与所述托盘本体1端部之间设置有预留面6；预留面6可以使操作人员更好翻转托盘，从而将定位槽内的预型体快速取出。
22.上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。


技术特征：
1.一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位置。2.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：所述定位槽的顶部和底部都为圆柱形，槽壁均为垂直面，同时所述预型体的正反两个圆弧面的厚度均小于所述定位槽顶部和顶部两个圆柱形槽体的高度。3.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：所述托盘本体上开设的定位槽有若干个，同时若干个定位槽均匀分布在托盘平面上。4.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：所述托盘本体表面设置有凸起的识别凸点。5.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：开设在所述托盘本体边缘部位的所述定位槽与所述托盘本体端部之间设置有预留面。

技术总结
一种光学预型体清洗托盘，包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位置；本方案设计的一种光学预型体清洗托盘，将原材料预型体放置在托盘的定位槽内，通过定位槽槽壁锥形斜面的设计，使预型体最大程度地与定位槽的槽底以及槽壁之间不接触，从而避免材料受到污染而影响产品质量。避免材料受到污染而影响产品质量。避免材料受到污染而影响产品质量。


技术研发人员：彭建 裴绪杨
受保护的技术使用者：苏州普锐仕精密光学科技有限公司
技术研发日：2021.12.27
技术公布日：2022/5/17