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一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带的制作方法

2022-05-19 05:13:59 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型属于聚酯薄膜胶带技术领域的一种膜层结构,具体涉及一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带。


背景技术:

2.市场上一直流通的绿色聚酯薄膜胶带是在聚酯薄膜上涂绿色胶水,得到绿色聚酯薄膜胶带,用于ccd识别。但是由于锂电行业要求越来越严格,绿色胶水容易在电解液环境中析出,从而产生识别失效的情况。因此需要替换绿色胶水,从源头解决电解液析出后仍能有效识别的情况。通过芯层添加绿色色母粒的方法,达到绿色在电解液浸泡环境下不析出,实现ccd识别。绿色色母粒的添加剂一般为价格较为低的含卤素的产品,但是在锂电行业,处于防火防烟雾、环保的考虑,禁用含卤素的产品。普通的聚酯薄膜胶带产品主要使用pet材料,力学强度、阻隔性能较低,耐高温性能不如聚萘二甲酸乙二酯材料。


技术实现要素:

3.为了解决背景技术中的问题,本实用新型提出了一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,绿色颜料不含卤素,并且通过表层保护的方法,使绿色颜料不容易穿透表层,从而降低在电解液中的析出情况,具有耐高温、高阻隔性能,可通过ccd检测设备识别,主要应用于锂电行业。
4.本实用新型采用的技术方案如下:
5.包括自上而下依次叠置而成的聚萘二甲酸乙二醇酯上层、绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层、聚萘二甲酸乙二醇酯下层、压敏胶层和离型膜层。
6.所述高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带厚度为70~130μm。
7.所述聚萘二甲酸乙二醇酯上层、聚萘二甲酸乙二醇酯下层厚度均为1~3μm。
8.所述绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层厚度为8~30μm。
9.所述压敏胶层厚度为20~35μm,离型膜层厚度为40~60μm。
10.所述聚萘二甲酸乙二醇酯上层和下层均由pen切片制成。
11.所述离型膜为pet离型膜。
12.本实用新型的有益效果如下:
13.1)本实用新型具有ccd可识别绿色颜色,在电解液中浸泡48小时不脱色。
14.2)本实用新型力学强度、阻隔性能、耐高温性能较高。
附图说明
15.图1为本实用新型结构示意图。
16.图中:1-聚萘二甲酸乙二醇酯上层,2-绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层,3-聚萘二甲酸乙二醇酯下层,4-压敏胶层,5-离型膜层。
具体实施方式
17.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
18.如图1所示,本实用新型包括自上而下依次叠置的聚萘二甲酸乙二醇酯上层1、绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层2、聚萘二甲酸乙二醇酯下层3、压敏胶层4和离型膜层5。
19.聚萘二甲酸乙二醇酯上层1和聚萘二甲酸乙二醇酯下层3能有效阻止绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层2中绿色颜料在电解液中的析出。聚萘二甲酸乙二醇酯的尺寸在高温下具有稳定性,并且具有较高的阻隔性和力学强度。绿色颜料不含卤素,使得在电解液中浸泡不脱色。
20.具体实施中,高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带厚度为82μm,聚萘二甲酸乙二醇酯上层1厚度为1μm,绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层2厚度为10μm,聚萘二甲酸乙二醇酯下层3厚度为1μm压敏胶层4厚度为20μm,离型膜层5厚度为50μm。
21.以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效变换,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。


技术特征:
1.一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:包括自上而下依次叠置而成的聚萘二甲酸乙二醇酯上层(1)、绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层(2)、聚萘二甲酸乙二醇酯下层(3)、压敏胶层(4)和离型膜层(5)。2.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带厚度为70~130μm。3.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述聚萘二甲酸乙二醇酯上层(1)、聚萘二甲酸乙二醇酯下层(3)厚度均为1~3μm。4.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层(2)厚度为8~30μm。5.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述压敏胶层(4)厚度为20~35μm,离型膜层(5)厚度为40~60μm。6.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述聚萘二甲酸乙二醇酯上层和下层均由pen切片制成。7.根据权利要求1所述的一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带,其特征在于:所述离型膜为pet离型膜。

技术总结
本实用新型公开了一种高阻隔无卤绿色聚酯薄膜胶带。包括自上而下依次叠置的聚萘二甲酸乙二醇酯上层、绿色聚萘二甲酸乙二醇酯芯层、聚萘二甲酸乙二醇酯下层、压敏胶层和离型膜层。本实用新型不含卤素,在电解液中浸泡不脱色,具有耐高温、高阻隔性能,可通过CCD检测设备识别,主要应用于锂电行业。主要应用于锂电行业。主要应用于锂电行业。


技术研发人员:张敏 孙江华 黄建波 韩龙 王利
受保护的技术使用者:杭州大华塑业有限公司
技术研发日:2022.01.06
技术公布日:2022/5/17
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