光刻用工艺液体组合物及利用其的图案形成方法与流程

技术特征：
己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁烷-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己烷-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6,-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氢萘-1,6,7-三醇、5-羟甲基苯-1,2,3-三醇、5-异丙基-2-甲基-5-环己烯-1,2,4-三醇、4-异丙基-4-环己烯-1,2,3-三醇或它们的混合物所组成的组；及由c4～c14组成的四元醇衍生物物质，选自由1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己炔-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己炔-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或它们的混合物所组成的组。9.一种光致抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，包括如下步骤：(a)在半导体基板上涂覆光致抗蚀剂而形成膜；(b)曝光所述光致抗蚀剂的膜后进行显影而形成图案；及(c)使用权利要求1至8中任一项的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物洗涤所述光致抗蚀剂图案。

技术总结
本申请发明涉及一种在光致抗蚀剂图案工艺中改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物及利用其的图案形成方法。其中，所述光致抗蚀剂图案具有对光致抗蚀剂表面的水的接触角为75


技术研发人员：李秀珍 金起洪 李昇勋 李昇炫
受保护的技术使用者：荣昌化学制品株式会社
技术研发日：2020.06.24
技术公布日：2022/5/6