具有调制光源的对准传感器的制作方法

技术特征：
1.一种用于测量衬底上的对准标记的设备，所述设备包括：辐射源，所述辐射源适于照射所述对准标记，所述辐射源被配置成具有第一状态和第二状态，在所述第一状态下所述辐射源产生具有第一强度的辐射，在所述第二状态下所述辐射源产生具有小于所述第一强度的第二强度的辐射；检测器，所述检测器被布置成检测由所述对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；以及转换器，所述转换器被布置成接收所述信号并且至少部分地基于所述信号来产生数字信号，所述转换器被配置成具有第一模式和第二模式，在所述第一模式下所述转换器对所述信号进行采样，在所述第二模式下所述转换器不对所述信号进行采样，所述辐射源被配置成在当所述转换器处于所述第二模式时的时间段的至少一部分内产生具有所述第二强度的辐射。2.根据权利要求1所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，还包括衰减器轮，所述衰减器轮被光学地定位成使来自所述辐射源的辐射衰减。3.根据权利要求1所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，其中，所述转换器被配置成产生指示所述转换器是否处于所述第二模式的信号，并且所述设备还包括控制器，所述控制器被布置成接收所述信号并且被配置成至少部分地基于所述信号来控制所述辐射源的强度。4.根据权利要求1所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，其中，所述第一模式是采样模式并且所述第二模式是保持模式。5.一种用于测量衬底上的对准标记的参数的设备，所述设备包括：辐射源，所述辐射源适于照射所述对准标记；检测器，所述检测器被布置成检测由所述对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；以及转换器，所述转换器被布置成接收所述信号并且至少部分地基于所述信号来产生数字信号，所述转换器具有第一模式和第二模式，在所述第一模式下所述转换器对所述信号进行采样，在所述第二模式下所述转换器不对所述信号进行采样，所述辐射源被配置成在当所述转换器处于所述第二模式时的时间段的至少一部分内降低由所述辐射源输出的辐射的强度。6.根据权利要求5所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，其中，所述辐射源包括衰减器轮。7.根据权利要求5所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，其中，所述转换器被配置成产生指示所述转换器是否处于所述第二模式的信号，并且所述设备还包括控制器，所述控制器被布置成接收所述信号并且被配置成至少部分地基于所述信号来控制所述辐射源的强度。8.根据权利要求5所述的用于测量衬底上的对准标记的设备，其中，所述第一模式是采样模式并且所述第二模式是保持模式。9.一种光刻方法，包括以下步骤：使用辐射源照射至少一个对准标记，所述辐射源被配置成具有第一状态和第二状态，在所述第一状态下所述辐射源产生具有第一强度的辐射，在所述第二状态下所述辐射源产
生具有小于所述第一强度的第二强度的辐射；使用检测器来检测由所述至少一个对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；以及使用被配置成接收所述信号的转换器至少部分地基于所述信号来产生数字信号，所述转换器具有采样模式和保持模式，在所述采样模式下所述转换器对所述信号进行采样，在所述保持模式下所述转换器不对所述信号进行采样，当所述转换器处于所述保持模式时，所述辐射源产生具有所述第二强度的辐射。10.一种光刻方法，包括以下步骤：照射至少一个对准标记，辐射源被配置成具有第一状态和第二状态，在所述第一状态下所述辐射源产生具有第一强度的辐射，在所述第二状态下所述辐射源产生具有小于所述第一强度的第二强度的辐射；检测由所述至少一个对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；至少部分地基于所述信号来产生数字信号，其中，所述产生步骤包括对所述信号进行采样的采样阶段和不对所述信号进行采样的保持阶段；以及当所述产生步骤处于所述保持阶段时，产生具有所述第二强度的辐射。11.一种光刻方法，包括以下步骤：照射至少一个对准标记；检测由所述至少一个对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；至少部分地基于所述信号来产生数字信号，其中，所述产生步骤包括对所述信号进行采样的采样阶段和不对所述信号进行采样的保持阶段；以及当所述产生步骤处于所述保持阶段时，降低在所述照射步骤中的辐射的强度。

技术总结
一种用于确定衬底的对准的设备和方法，其中，对对准标记进行照射的辐射源的强度是根据系统中的用于将模拟信号转换成数字信号的元件处于对所述信号进行采样的模式还是处于对所述信号进行转换并且因此对所述信号中的改变不敏感的模式而变化的，因而降低了所述衬底或系统光学部件暴露于所述照射辐射的量。或系统光学部件暴露于所述照射辐射的量。或系统光学部件暴露于所述照射辐射的量。


技术研发人员：阿里
受保护的技术使用者：ASML控股股份有限公司
技术研发日：2020.09.14
技术公布日：2022/5/6