一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质与流程

技术特征：
1.一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤s10：获取不同去除函数的有效去除速率谱，所述有效去除速率谱为去除函数修正各空间频率误差体积的收敛速率；步骤s20：获取光学元件的体积谱密度函数，所述体积谱密度函数为光学元件的面形误差在各频率下所含残余误差材料体积的密度；步骤s30：通过所述有效去除速率谱和体积谱密度函数得到优选加工工艺。2.如权利要求1所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，步骤s10还包括：通过面形误差体积变化量与加工时间的比值，得到有效去除速率谱。3.如权利要求2所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，通过所述有效去除速率谱和所述体积谱密度函数得到优选加工工艺。4.如权利要求3所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，步骤s20还包括，通过所述有效去除速率谱和所述体积谱密度函数计算得到时间谱密度函数，对所述时间谱密度函数进行积分得到所述去除函数的加工时间；当所述去除函数的加工时间最小时，所述去除函数为优选加工工艺。5.如权利要求2所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，步骤s20中，时间谱密度函数为体积谱密度函数与有效去除速率谱相除。6.如权利要求1所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，步骤s20还包括：在预设空间频段对所述体积谱密度函数进行积分得到光学元件在该预设空间频段下的面形误差体积，计算所述去除函数截止频率外的面形误差体积，选择体积差值最小的去除函数作为优选加工工艺。7.如权利要求1所述的一种子口径加工工艺的自动优选方法，其特征在于，所述体积谱密度函数为二维体积谱密度函数或一维体积谱密度函数。8.一种子口径加工工艺的优选系统，其特征在于，包括有效去除速率谱获取模块、体积谱密度函数获取模块和优选加工工艺获取模块；所述有效去除速率谱获取模块用于获取不同去除函数的有效去除速率谱；所述体积谱密度函数获取模块用于获取光学元件的体积谱密度函数；所述优选加工工艺获取模块用于通过所述有效去除速率谱和所述体积谱密度函数得到优选加工工艺。9.一种可读存储介质，其特征在于，用于存储程序，所述程序被执行时，用于实现如权利要求1-7之一所述的子口径加工工艺的自动优选方法。

技术总结
发明适用于光学加工技术领域，提供了一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质，子口径加工工艺的自动优选方法包括如下步骤：获取不同去除函数的有效去除速率谱，所述有效去除速率谱为去除函数修正各空间频率误差体积的收敛速率；获取光学元件的体积谱密度函数，所述体积谱密度函数为光学元件的面形误差在各频率下所含残余误差材料体积的密度；通过所述有效去除速率谱和体积谱密度函数得到优选加工工艺。本发明提供的一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质具有加工效率高、生产成本低的优势。生产成本低的优势。生产成本低的优势。


技术研发人员：邓文辉 许乔 王健 樊非 钟波 石琦凯 侯晶 郑楠
受保护的技术使用者：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
技术研发日：2022.04.06
技术公布日：2022/5/5