一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜与流程

技术特征：
1.一种ni/ti非周期多层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在n2、o2和ar的混合气氛中，在基底表面溅射ni层，得到nin
x
o
y
层；所述x的取值范围为0≤x<1，所述y的取值范围为0≤y<1；在ar气氛中，在所述nin
x
o
y
层的表面溅射ti层，得到ti层；重复上述溅射ni层和溅射ti层的过程，得到所述ni/ti非周期多层膜；所述重复的次数≥1。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述n2、o2和ar的混合气氛中n2和o2的总体积百分含量为10～50％。3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溅射ni层和溅射ti层的方式为直流磁控溅射。4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述溅射ni层的条件参数为：n2的流量为10～40sccm，o2的流量为2.5～7.5sccm，ar的流量为100sccm；本底真空度为(2～7)
×
10-4
pa；工作气压为0.1～0.8pa。5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述nin
x
o
y
层的厚度为1～20nm。6.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述溅射ti层的条件参数为：ar的流量为100sccm；本底真空度为(2～7)
×
10-4
pa；工作气压0.1～0.8pa。7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述ti层的厚度为1～20nm。8.权利要求1～7任一项所述的制备方法制备得到的ni/ti非周期多层膜，其特征在于，包括交替层叠设置的nin
x
o
y
层和ti层；所述交替的次数≥2；所述nin
x
o
y
层和ti层之间的界面粗糙度为1～3nm。9.权利要求8所述的ni/ti非周期多层膜在中子超反射镜中的应用。10.一种ni/ti非周期多层膜中子超反射镜，其特征在于，包括依次层叠设置的衬底、打底层、ni/ti非周期多层膜和ni帽层；所述ni/ti非周期多层膜为权利要求8所述的ni/ti非周期多层膜。

技术总结
本发明涉及中子超反射镜技术领域，尤其涉及一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜。本发明提供了一种Ni/Ti非周期多层膜的制备方法，包括以下步骤：在N2、O2和Ar的混合气氛中，在基底表面溅射Ni层，得到NiN


技术研发人员：朱京涛 孙航 林旺 陈溢祺 屠洛涔 郭汉明
受保护的技术使用者：苏州闻道电子科技有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/5/5