一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置的制作方法

技术特征：
1.一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，包括：连续激光器(13)、第一光电探测器(11)、三维平移台(1)、第二光电探测器(8)；连续激光器(13)的激光发射端一侧依次装设有扩束系统(12)、分光平片(14)、双腔三棱镜(5)、挡光板(4)；第一光电探测器(11)的上端依次装设有第一共焦针孔(10)、第一收集透镜(9)；第二光电探测器(8)的下端依次装设有第二共焦针孔(7)、第二收集透镜(6)；三维平移台(1)的上侧放置有待测样品(2)，待测样品(2)的正上方装设有测量物镜(3)，其中，双腔三棱镜(5)位于第二收集透镜(6)与测量物镜(3)之间。2.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述双腔三棱镜(5)的斜边面镀有高反膜，双腔三棱镜(5)的直角边面镀有增透膜。3.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述第二收集透镜(6)位于测量物镜(3)的正上方。4.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述双腔三棱镜(5)的截面为直角三角形。5.根据权利要求4所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述双腔三棱镜(5)的斜面朝向分光平片(14)，双腔三棱镜(5)的两直角面分别朝向第二收集透镜(6)、挡光板(4)。6.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述分光平片(14)位于第一收集透镜(9)的正上方，且分光平片(14)倾斜设置。7.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述第一共焦针孔(10)装设在第一光电探测器(11)的输入端，第二共焦针孔(7)装设在第二光电探测器(8)的输入端。8.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述双腔三棱镜(5)位于分光平片(14)与挡光板(4)之间。9.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述第一收集透镜(9)位于第一共焦针孔(10)的正上方。10.根据权利要求1所述的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，其特征在于，所述测量物镜(3)位于待测样品(2)的正上方。

技术总结
本发明的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，包括：连续激光器、第一光电探测器、三维平移台、第二光电探测器；连续激光器的激光发射端一侧依次装设有扩束系统、分光平片、双腔三棱镜、挡光板；第一光电探测器的上端依次装设有第一共焦针孔、第一收集透镜。本发明装置通过双腔三棱镜，利用反射光与散射光在空间方向上的差异性，有效将样品的反射光与散射光在空间上进行分离，并分别进行明场成像与暗场成像，而且很好地保证了成像的原位性，且可以对待测样品同时进行明场与暗场高分辨显微成像，在传统共聚焦显微成像系统的基础上，利用常规的光电器件即可实现系统改进，方便快捷。便快捷。便快捷。


技术研发人员：吴寒旭 薛潇博 李昂 王海峰 王宏博
受保护的技术使用者：北京无线电计量测试研究所
技术研发日：2021.12.30
技术公布日：2022/4/26