涂布薄膜的制造方法以及涂布薄膜的制造装置与流程

技术特征：
1.一种涂布薄膜的制造方法，其特征在于，所述涂布薄膜的制造方法具有以下步骤：(a)将涂布液涂布至自搬出部中取出的基材的第一面上的步骤；(b)通过使所述基材上的涂布液干燥，以于所述基材的第一面上形成涂层的步骤；(c)于搬入部中收纳形成有所述涂层的所述基材的步骤，其中，所述基材由所述搬出部至所述搬入部连续地配置，且在自所述搬出部被取出之后，所述步骤(b)之前，通过第一吸引辊进行张力调整，形成有所述涂层的所述基材在所述步骤(c)之前，通过第二吸引辊进行张力调整。2.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述第一吸引辊及所述第二吸引辊的吸引压力分别为3mpa以下。3.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述基材为多孔膜。4.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，形成有所述涂层的所述基材为电池用的隔膜。5.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述基材的膜厚小于9μm。6.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述基材的膜厚为7μm以下，且于所述搬入部中的搬入张力小于12n。7.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，于所述搬入部中的所述基材的搬入速度为30m/min以上。8.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述干燥温度小于75℃。9.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述步骤(a)使用凹版涂布机进行，且所述凹版涂布机具有：用以容置所述涂布液的腔室、以及涂布辊，且所述腔室配置为横向。10.根据权利要求1所述的涂布薄膜的制造方法，其中，所述步骤(b)于干燥处理部当中进行，所述干燥处理部自配置于干燥室的喷嘴导入加热流体，通过温度传感器来控制所述干燥室的温度，所述温度传感器配置于所述喷嘴、所述干燥室中于所述基材的搬运方向的上游侧的侧壁之间。11.一种涂布薄膜的制造装置，其特征在于，具有：搬出部，其将基材取出；涂布部，其将涂布液涂布至所述基材的第一面上；干燥部，其通过使所述基材上的涂布液干燥，以于所述基材的第一面上形成涂层；及搬入部，其收纳形成有所述涂层所述基材，其中，于所述搬出部与所述干燥部之间配置有第一吸引辊，于所述干燥部与所述搬入部之间配置有第二吸引辊。12.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述第一吸引辊及所述第二吸引辊的吸引压力分别为3mpa以下。13.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述基材为多孔膜。14.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，形成有所述涂层的所述基材为电池用的隔膜。15.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述基材的膜厚小于9μm。16.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述基材的膜厚为7μm以下，且
于所述搬入部中的搬入张力小于12n。17.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，于所述搬入部中的所述基材的搬入速度为30m/min以上。18.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述干燥部的温度小于75℃。19.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述涂布部具有：用以容置所述涂布液的腔室、以及涂布辊，且所述腔室配置为横向。20.根据权利要求11所述的涂布薄膜的制造装置，其中，所述干燥部具有干燥室，所述干燥室自喷嘴导入加热流体，通过温度传感器来控制所述干燥室的温度，且所述温度传感器配置于所述喷嘴、所述干燥室中于所述基材的搬运方向的上游侧的侧壁之间。

技术总结
为了制造特性良好的涂布薄膜。本申请所公开的涂布薄膜的制造方法具有：(a)将涂布液20a涂布至自解卷部UW中取出的基材1的第一面上的步骤；(b)通过使基材1上的涂布液(涂膜3a)干燥，以于基材的第一面上形成涂层3b的步骤；(c)于卷绕部中WD中卷绕形成有涂层3b的基材1的步骤。而且，基材1由解卷部UW至卷绕部WD连续地配置，且在自解卷部UW被取出之后，(b)步骤之前，通过第一吸引辊SR进行张力调整，形成有涂层3b的基材1的步骤在(c)步骤之前，通过第二吸引辊SR进行张力调整。SR进行张力调整。SR进行张力调整。


技术研发人员：石黑亮 中村谕
受保护的技术使用者：株式会社日本制钢所
技术研发日：2020.07.22
技术公布日：2022/4/26