一种基于UV激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法与流程

技术特征：
1.一种基于uv激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a：设计好构成双胶合微透镜的单个微透镜的尺寸，将每个所述单个微透镜分解为2个透镜，每个所述透镜的一面均为平面；步骤b：将分解后的每个透镜分别形成为微透镜阵列组，并在每个所述微透镜阵列组旁边形成一组或两组对准标记，并制作相应的灰度图；步骤c：根据所述灰度图基于uv激光直写光刻技术制作微透镜阵列组和相应的对准标记；以及步骤d：通过步骤c中制作好的所述对准标记将制作好的所述微透镜阵列组进行对准，并组成双胶合微阵列透镜。2.根据权利要求1所述的，其特征在于，步骤b中，所述每组对准标记具有3个对准标记，用于微阵列透镜的对准。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述3个对准标记中，第一个对准标记用于粗对准，第二个对准标记用于水平方向对准，第三个对准标记用于竖直方向对准。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述对准标记为摩尔条纹。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤b中，所述灰度图包括微透镜阵列组的灰度图及对准标记的灰度图。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤c进一步包括如下步骤。步骤c1：取一块干净基底，旋涂光刻胶，并进行前烘；步骤c2：将所述灰度图输入uv激光直写设备，制作各微透镜阵列组及其对准标记的模板；步骤c3；运用转运模板制作得到所述微透镜阵列组及其对准标记。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a中还包括对单个微透镜的尺寸进行优化的步骤。

技术总结
本发明提出了一种基于UV激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法，包括以下步骤：步骤a：设计好构成双胶合微透镜的单个微透镜的尺寸，将每个所述单个微透镜分解为2个透镜，每个所述透镜的一面均为平面；步骤b：将分解后的每个透镜分别形成为微透镜阵列组，并在每个所述微透镜阵列组旁边形成一组或两组对准标记，并制作相应的灰度图；步骤c：根据所述灰度图基于UV激光直写光刻技术制作微透镜阵列组和相应的对准标记；以及步骤d：通过步骤c中制作好的所述对准标记将制作好的所述微透镜阵列组进行对准，并组成双胶合微阵列透镜。本发明方法的技术原理简单可行。另外，本发明方法对微阵列透镜进行拼接胶合，可有效减小透镜像的像差及色差。的像差及色差。的像差及色差。


技术研发人员：栾世奕 桂成群 宋毅 薛兆丰
受保护的技术使用者：矽万（上海）半导体科技有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/4/5