一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法与流程

技术特征：
1.一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下合成路线：其中，r1为c1～c6的烷基，r2为氢原子或c1～c6的烷基；所述制备方法包括如下步骤：a)将式ⅱ化合物、催化剂加入至有机溶剂中，然后加入式ⅲ化合物，经过加成反应，得到式ⅰ化合物；b)将步骤a)中的反应液进行碱洗，分子膜短程蒸馏，得到所述含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体。2.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述催化剂选择甲苯磺酸吡啶盐或对甲苯磺酸三乙胺盐中的至少一种。3.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述加入式ⅱ化合物和式ⅲ化合物的摩尔比为1:(1～2)。4.如权利要求1-3任一所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述催化剂为式ⅱ化合物的1wt％～10wt％。5.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述有机溶剂选自二氯甲烷或二氯乙烷中至少一种。6.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，加入式ⅲ化合物的温度≤12℃。7.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述反应的温度为28～32℃，反应的时间为12～24h。8.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤b)中，所述碱洗为用5wt％的氢氧化钠溶液洗涤。9.如权利要求1所述的含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，步骤b)中，所述分子膜短程蒸馏的夹套油温为35～40℃。

技术总结
本发明涉及一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法，所述制备方法包括如下合成路线：其中，R1为C1～C6的烷基，R2为氢原子或C1～C6的烷基；所述制备方法包括如下步骤：a)将式Ⅱ化合物、催化剂加入至有机溶剂中，然后加入式Ⅲ化合物，经过加成反应，得到式Ⅰ化合物；b)将步骤a)中的反应液进行碱洗，分子膜短程蒸馏，得到所述含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体。本发明的制备方法使产物收率高，纯度高。纯度高。纯度高。


技术研发人员：傅志伟 潘新刚 余文卿 纪兴跃 邵严亮
受保护的技术使用者：徐州博康信息化学品有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/4/5