技术特征：
1.一种温场装置，其特征在于，所述温场装置放置于晶体生长炉内，且位于所述晶体生长炉内的感应线圈中；所述温场装置包括底板、第一盖板、第一筒、第二筒以及填充体；所述底板设置于所述温场装置底部，覆盖于所述第一筒一开口端；其中，所述第一盖板设置于所述温场装置顶部，覆盖于所述第一筒另一开口端；所述第二筒设置于所述第一筒内部；所述填充体填充于所述第二筒内部和所述第二筒和所述第一筒之间的空隙中；位于所述第二筒内部的填充体至少用于支撑埚并包覆所述埚的至少一部分。2.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述埚的上沿高出位于所述第二筒内部的填充体的填充高度。3.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述填充体的填充高度导致其支撑的所述埚的上沿与位于所述温场装置外的感应线圈上沿的垂直间距为0至
“‑”
表示所述埚的上沿低于所述感应线圈上沿，“ ”表示所述埚的上沿高于所述感应线圈上沿。4.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述填充体为颗粒状、砖状、和/或毡状，由耐高温材料制成。5.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述填充体为以下之中的一种或多种：锆砂、氧化锆颗粒、氧化铝颗粒、氧化锆毡、氧化锆砖、和氧化铝砖。6.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述填充体的粒度为5-200目。7.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述第一筒为石英管，或刚玉管，或由耐高温材料制成。8.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述第一筒的厚度为1-15mm，高度为600-1600mm。9.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述温场装置进一步包括第二盖板，所述第二盖板设置于所述第一筒内部，覆盖于所述第二筒靠近所述第一盖板的开口端；所述第二盖板上对应于第一盖板通孔的位置处开亦设有通孔。10.根据权利要求9所述的温场装置，其特征在于，所述第二盖板为氧化铝板或氧化锆板，或由耐高温材料制成。11.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述气体包括氧气和/或惰性气体中的一种或多种；或者，所述气体包括氧气与惰性气体中的一种和多种的组合；或者，所述气体包括一氧化碳或氢气与惰性气体中的一种和多种的组合。12.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述气体包括氮气、氩气、氧气、一氧化碳中的一种或多种。13.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述第一通孔用于观察；所述第一通孔上设置有观察件；所述观察件具有与所述第一通孔连通的腔室，且观察件上设置有与所述腔室连通的第三通孔，所述第三通孔用于通过气体；所述观察件上还设置有观察窗。14.根据权利要求13所述的温场装置，其特征在于，所述观察窗设置于所述观察件顶部。
15.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述底板或所述第一盖板设置有循环冷却液通路。16.根据权利要求15所述的温场装置，其特征在于，所述循环冷却液通路的形状包括螺旋状或蛇形状。17.根据权利要求15所述的温场装置，其特征在于，所述循环冷却液通路的冷却方式包括是液冷、风冷或气冷。18.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述第一盖板的厚度为40-100mm。19.根据权利要求9所述的温场装置，其特征在于，所述第二盖板的厚度为20-35mm。20.根据权利要求1所述的温场装置，其特征在于，所述第二筒的厚度为8-30mm。
技术总结
本说明书实施例提供一种温场装置，该温场装置放置于晶体生长炉内，且位于晶体生长炉内的感应线圈中；温场装置包括底板、第一盖板、第一筒、第二筒以及填充体；底板设置于温场装置底部，覆盖于第一筒一开口端；其中，第一盖板设置于温场装置顶部，覆盖于第一筒另一开口端；第二筒设置于第一筒内部；填充体填充于第二筒内部和第二筒和第一筒之间的空隙中；位于第二筒内部的填充体至少用于支撑埚并包覆埚的至少一部分。少一部分。少一部分。
技术研发人员：王宇 官伟明 梁振兴
受保护的技术使用者：眉山博雅新材料股份有限公司
技术研发日：2019.08.21
技术公布日：2022/3/22
再多了解一些
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