曝光装置以及物品的制造方法与流程

技术特征：
1.一种曝光装置，以将形成于原版的图案转印到基板的方式对所述基板进行曝光，其特征在于，具备：第1载置台，配置有与第1方向垂直的第1反射面，并且一边保持所述基板及所述原版中的一方，一边在所述第1方向上以预定的频率往返移动；第1测量部，通过在朝向所述第1反射面射出第1测量光之后对由所述第1反射面反射的所述第1测量光进行接收，测量所述第1载置台在所述第1方向上的位置；第2载置台，配置有与所述第1方向垂直的第2反射面，并且保持所述基板及所述原版中的另一方；第2测量部，通过在朝向所述第2反射面射出第2测量光之后对由所述第2反射面反射的所述第2测量光进行接收，测量所述第2载置台在所述第1方向上的位置；第3测量部，比所述第2载置台接近所述第1载置台地配置，并且测量在内部传输的第3测量光的波长；以及控制部，根据所述第3测量部的测量结果和所述预定的频率，校正所述第2测量部的测量结果。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第2载置台以在所述第1载置台向所述第1方向的一方的朝向移动时向另一方的朝向移动的方式在所述第1方向上以所述预定的频率往返移动。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第1测量光以及所述第3测量光各自的波长与所述第1载置台的移动相应地变化，所述第2测量光的波长与所述第2载置台的移动相应地变化。4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化输入给低通滤波器、带通滤波器以及高通滤波器中的至少一个，取得所述第3测量光的波长的时间变化中的预定的频率区域的分量。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述第1载置台以及所述第2载置台分别以在对所述基板进行曝光时在所述第1方向上以所述预定的频率往返的方式进行多个扫描移动，所述预定的频率区域根据所述预定的频率而决定。6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，具备：第1低通滤波器，具有比所述预定的频率高的第1截止频率；以及第2低通滤波器，具有比所述预定的频率低的第2截止频率，所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化分别输入给该第1低通滤波器以及该第2低通滤波器，取得所述第3测量光的波长的时间变化中的第1频率区域的分量以及第2频率区域的分量。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，在将所述第1频率区域的分量设为λ
wlpf_high
(t)、将所述第2频率区域的分量设为λ
wlpf_low
(t)、将预定的系数设为a、将所述第2测量光的波长的时间变化设为λ
r
(t)时，所述控制部通过以满足下式的方式校正所述第2测量光的波长，校正所述第2测量部的测量结果，
λ
r
(t)＝λ
wlpf_low
(t)－a(λ
wlpf_high
(t)－λ
wlpf_low
(t))。8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述a的值根据所述第2载置台的所述扫描移动中的最大速度相对于所述第1载置台的所述扫描移动中的最大速度的比而决定。9.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，在将所述第1测量光的波长的时间变化设为λ
w
(t)时，所述控制部通过以满足下式的方式校正所述第1测量光的波长，校正所述第1测量部的测量结果，λ
w
(t)＝λ
wlpf_high
(t)。10.一种曝光装置，以将形成于原版的图案转印到基板的方式对所述基板进行曝光，其特征在于，具备：基板载置台，配置有与第1方向垂直的第1反射面以及和与所述第1方向垂直的第2方向垂直的第2反射面，一边保持所述基板，一边在所述第1方向上以预定的频率往返移动；第1测量部，通过在朝向所述第1反射面射出第1测量光之后对由所述第1反射面反射的所述第1测量光进行接收，测量所述基板载置台在所述第1方向上的位置；第2测量部，通过在朝向所述第2反射面射出第2测量光之后对由所述第2反射面反射的所述第2测量光进行接收，测量所述基板载置台在所述第2方向上的位置；第3测量部，比所述第2反射面接近所述第1反射面地配置，并且测量在内部传输的第3测量光的波长；以及控制部，根据所述第3测量部的测量结果和所述预定的频率，校正所述第2测量部的测量结果。11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载置台以在对所述基板进行曝光时在所述第1方向上以所述预定的频率往返的方式进行多个扫描移动，并且在所述第2方向上进行多个步进移动。12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，所述第1测量光以及所述第3测量光各自的波长与所述基板载置台的所述扫描移动相应地变化。13.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化输入给低通滤波器、带通滤波器以及高通滤波器中的至少一个，取得所述第3测量光的波长的时间变化中的预定的频率区域的分量。14.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，所述预定的频率区域是比所述预定的频率低的频率区域。15.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，具备低通滤波器，该低通滤波器具有比所述预定的频率低的截止频率，所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化输入给该低通滤波器，取得所述预定的频率区域的分量。16.根据权利要求15所述的曝光装置，其特征在于，在将所述预定的频率区域的分量设为λ
ylpf_low
(t)、将所述第2测量光的波长的时间变化
设为λ
x
(t)时，所述控制部通过以满足下式的方式校正所述第2测量光的波长，校正所述第2测量部的测量结果，λ
x
(t)＝λ
ylpf_low
(t)。17.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第1测量部是根据由所述第1反射面反射的所述第1测量光和第1参照光的干涉来测量所述第1测量部与所述第1反射面之间的距离的第1干涉仪，所述第2测量部是根据由所述第2反射面反射的所述第2测量光和第2参照光的干涉来测量所述第2测量部与所述第2反射面之间的距离的第2干涉仪。18.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第3测量部是通过比较基于在预定的空间内传输的所述第3测量光的针对预定的对象的测量结果和基于在真空空间内传输的第4测量光的针对所述预定的对象的测量结果来测量所述第3测量光的波长的波长跟踪器。19.一种物品的制造方法，其特征在于，包括：使用权利要求1至18中的任意一项所述的曝光装置对所述基板进行曝光的工序；对曝光后的所述基板进行显影的工序；以及从显影后的所述基板制造物品的工序。20.一种在以将形成于原版的图案转印到基板的方式对所述基板进行曝光的曝光装置中测量第1载置台及第2载置台各自的位置的方法，所述曝光装置具备：所述第1载置台，配置有与第1方向垂直的第1反射面，并且一边保持所述基板及所述原版中的一方，一边在所述第1方向上以预定的频率往返移动；以及所述第2载置台，配置有与所述第1方向垂直的第2反射面，并且保持所述基板及所述原版中的另一方，所述方法的特征在于，包括：第1测量步骤，通过在朝向所述第1反射面射出第1测量光之后对由所述第1反射面反射的所述第1测量光进行接收，测量所述第1载置台在所述第1方向上的位置；第2测量步骤，通过在朝向所述第2反射面射出第2测量光之后对由所述第2反射面反射的所述第2测量光进行接收，测量所述第2载置台在所述第1方向上的位置；第3测量步骤，测量在比所述第2载置台接近所述第1载置台的空间传输的第3测量光的波长；以及校正步骤，根据所述第3测量步骤中的测量结果和所述预定的频率，校正所述第2测量步骤中的测量结果。

技术总结
本发明涉及曝光装置以及物品的制造方法。为了提供能够考虑载置台的移动而校正载置台的位置的测量结果从而提高曝光性能的曝光装置，本发明涉及的曝光装置具备：第1载置台，具有第1反射面，一边保持基板及原版中的一方，一边以预定的频率往返移动；第1测量部，通过对由第1反射面反射的第1测量光进行接收，测量第1载置台的位置；第2载置台，具有第2反射面，保持基板及原版中的另一方；第2测量部，通过对由第2反射面反射的第2测量光进行接收，测量第2载置台的位置；第3测量部，比第2载置台接近第1载置台地配置，并且测量在内部传输的第3测量光的波长；以及控制部，根据第3测量部的测量结果和预定的频率，校正第2测量部的测量结果。校正第2测量部的测量结果。校正第2测量部的测量结果。


技术研发人员：山田雅教
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2021.09.09
技术公布日：2022/3/15