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一种绝缘保护的倒装LED芯片结构及其制作方法与流程

2022-03-09 01:09:44 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种绝缘保护的倒装led芯片结构,其特征在于:在芯片衬底(1)上生长led芯片外延结构,制作芯片电流分层结构以及n、p焊盘区(5),在切片后的芯片单元上沉积致密的绝缘薄膜作为绝缘保护层(6),绝缘保护层(6)包裹覆盖在芯片结构上除n、p焊盘区(5)外的位置,包括芯片单元的正面、背面及侧面。2.根据权利要求1所述的绝缘保护的倒装led芯片结构,其特征在于:对倒置的芯片单元背面的绝缘保护层(6)做图形化处理,芯片单元背面形成粗化表面,粗化形貌为半球形、梯台形、圆锥形或不规则形状。3.根据权利要求1所述的绝缘保护的倒装led芯片结构,其特征在于:芯片单元倒置与封装基板(8)结合,芯片单元的背面向上。4.根据权利要求3所述的绝缘保护的倒装led芯片结构,其特征在于:绝缘保护层(6)还覆盖在封装基板(8)上。5.根据权利要求1所述的绝缘保护的倒装led芯片结构,其特征在于:绝缘保护层(6)是al2o3、aln、sin、sio2、alon薄膜中的一种或多种。6.一种绝缘保护的倒装led芯片结构的制作方法,其特征在于:至少包括以下步骤:步骤s1:在芯片衬底(1)上生长led芯片外延结构,制作芯片电流分层结构以及n、p焊盘区(5);步骤s2:将切割后的芯片单元翻模置于耐高温蓝膜(7)上或者与封装基板(8)结合,芯片单元的背面向上,芯片单元的正面朝下,对上述结构沉积致密的绝缘薄膜作为绝缘保护层(6),绝缘保护层(6)包裹覆盖在芯片结构上除n、p焊盘区(5)外的位置,包括芯片单元的正面、背面及侧面。7.根据权利要求6所述的绝缘保护的倒装led芯片结构的制作方法,其特征在于:还包括步骤s3:对倒置的芯片单元背面的绝缘保护层(6)做图形化处理,形成粗化表面,进一步提高出光效率。8.根据权利要求6所述的绝缘保护的倒装led芯片结构的制作方法,其特征在于:步骤s1进一步包括:在芯片衬底(1)上生长led芯片外延结构,制作芯片电流分层结构以及n、p金属导电层(4),在芯片结构上沉积致密的绝缘薄膜,再利用正胶光刻技术进行蚀刻,得到芯片整面的绝缘层图形,然后对芯片结构的n、p金属导电层(4)制作n、p焊盘区(5)。9.根据权利要求6所述的绝缘保护的倒装led芯片结构的制作方法,其特征在于:步骤s2进一步包括:将切割后的芯片单元翻模置于耐高温蓝膜(7)上时,芯片单元的n、p焊盘区(5)与蓝膜(7)贴合接触。10.根据权利要求6所述的绝缘保护的倒装led芯片结构的制作方法,其特征在于:步骤s2进一步包括:将切割后的芯片单元倒置与封装基板(8)结合时,芯片单元的n、p焊盘区(5)与封装基板(8)结合接触,绝缘保护层(6)还覆盖在封装基板(8)上。

技术总结
本发明公开了一种绝缘保护的倒装LED芯片结构及其制作方法,其中所述绝缘保护的倒装LED芯片结构在芯片衬底上生长LED芯片外延结构,制作芯片电流分层结构以及N、P焊盘区,在切片后的芯片单元上沉积致密的绝缘薄膜作为绝缘保护层,绝缘保护层包裹覆盖在芯片结构上除N、P焊盘区外的位置,包括芯片单元的正面、背面及侧面。本发明采用包围式绝缘保护的LED芯片结构,在切片后的芯片单元上沉积致密的绝缘薄膜作为绝缘保护层,能够降低漏电率,提升芯片的良率,同时增强出光效率,增强器件长期使用的可靠性,抑制水汽侵蚀。抑制水汽侵蚀。抑制水汽侵蚀。


技术研发人员:张秀敏
受保护的技术使用者:普瑞(无锡)研发有限公司
技术研发日:2021.11.03
技术公布日:2022/3/7
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