偏光膜及其制造方法与流程

技术特征：
1.偏光膜，其包含偏光层和基材层，在该偏光膜的面方向上包含第1区域和第2区域，所述第2区域与所述第1区域邻接，且可见度校正单体透过率高于所述第1区域，所述第2区域包含与该第1区域的可见度校正单体透过率之差小于30％、并且可见度校正偏光度大于10％的区域x。2.如权利要求1所述的偏光膜，其中，所述区域x从与第1区域相接的第2区域的外轮廓朝向内侧连续地存在。3.如权利要求1或2所述的偏光膜，其中，第2区域具有至少两种不同的可见度校正单体透过率。4.如权利要求1～3中任一项所述的偏光膜，其中，第2区域的可见度校正单体透过率与第1区域的可见度校正单体透过率之差在整个第2区域中小于30％。5.如权利要求1～4中任一项所述的偏光膜，其中，第1区域的可见度校正单体透过率为30％以上且小于55％。6.如权利要求1～5中任一项所述的偏光膜，其中，区域x的可见度校正单体透过率为45％以上70％以下。7.如权利要求1～6中任一项所述的偏光膜，其中，区域x的可见度校正偏光度为30％以上85％以下。8.如权利要求1～7中任一项所述的偏光膜，其中，第2区域的可见度校正单体透过率从第2区域的外轮廓朝向内侧阶段性地变高。9.如权利要求1～8中任一项所述的偏光膜，其中，第2区域由与第1区域相接的区域2-1、和位于所述区域2-1的内侧的区域2-2构成，区域2-2的可见度校正单体透过率实质上均匀，并且高于区域2-1的可见度校正单体透过率。10.如权利要求9所述的偏光膜，其中，区域2-1的可见度校正单体透过率朝向区域2-2阶段性地变高。11.如权利要求9或10所述的偏光膜，其中，区域2-2的可见度校正单体透过率为45％以上70％以下。12.如权利要求1～11中任一项所述的偏光膜，其中，第2区域的俯视形状为圆形、椭圆形、长圆形或多边形。13.如权利要求1～12中任一项所述的偏光膜，其在偏光层与基材层之间具有取向层。14.如权利要求1～13中任一项所述的偏光膜，其中，偏光层由包含二向色性色素及液晶化合物的液晶组合物的固化层形成。15.椭圆偏光板，其包含权利要求1～14中任一项所述的偏光膜和相位差膜。16.偏光膜的制造方法，其是在面方向上包含具有不同可见度校正单体透过率的至少2个区域的偏光膜的制造方法，其包括下述工序：形成具有第1可见度校正单体透过率的区域的工序；和与所述具有第1可见度校正单体透过率的区域邻接地形成高于第1可见度校正单体透过率、并且与第1可见度校正单体透过率之差小于30％、可见度校正偏光度大于10％的区域的工序。

技术总结
本发明的课题是提供具有可见度校正单体透过率不同的至少2个区域、同时彼此的区域轮廓不易被目视识别、并且膜整体能够显示出光吸收各向异性的新型偏光膜。本发明涉及偏光膜，其包含偏光层和基材层，在该偏光膜的面方向上包含第1区域和第2区域，所述第2区域与上述第1区域邻接，且可见度校正单体透过率高于上述第1区域，上述第2区域包含与该第1区域的可见度校正单体透过率之差小于30％、并且可见度校正偏光度大于10％的区域X。偏光度大于10％的区域X。偏光度大于10％的区域X。


技术研发人员：幡中伸行 村野耕太
受保护的技术使用者：住友化学株式会社
技术研发日：2020.07.22
技术公布日：2022/3/4