一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法与流程

技术特征：
1.一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于，包括以下步骤：设定单层薄膜；设定所述单层薄膜的目标工艺参数a；设置所述目标工艺参数a的值a1,a2......a
n
(其中，a1＜a2＜a3……
＜a
n
)；以设定规则对所述目标工艺参数a进行排序；按排序后的所述目标工艺参数a的顺序依次在光学基底上制备具有对应所述目标工艺参数a的值的所述单层薄膜，每层所述单层薄膜的其它工艺参数不变，获得分层光学薄膜；获取所述分层光学薄膜的目标光谱；构建所述分层光学薄膜的物理模型，每层所述单层薄膜具有相同的光学常数模型；以所述目标光谱为目标函数，对所述物理模型的每层所述单层薄膜的光学常数进行拟合；计算获得所述单层薄膜的光学常数；获得所述光学常数和所述目标工艺参数a的相关性。2.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述工艺参数a的值排序的设定规则如下：当n为偶数时，按如下方式排列：当n为奇数时，按如下方法排列：3.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述目标光谱包括透射光谱、反射光谱及椭圆偏振光谱，拟合时选择其中一种或者多种光谱作为拟合目标。4.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述单层薄膜通过电子束蒸发技术制备。5.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述光学常数模型包括折射率模型，所述折射率模型采用cauchy模型，所述cauchy模型见如下公式：其中，r为折射率，b
n
、c
n
、d
n
为拟合参数，λ为波长，k为消光系数。6.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：拟合的评价函数见如下公式：其中，n为测量波长的数目，m为变量个数，t
iexp
为i个波长的测量值，t
imod
为i个波长的计
算值，别为i个波长的测量误差。

技术总结
本申请提供一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，包括以下步骤：设定单层薄膜；设定所述单层薄膜的目标工艺参数A；设置所述目标工艺参数A的值A1,A2......A


技术研发人员：刘华松 刘丹丹 冷健 尚鹏 杨霄 孙鹏 邢宇哲 顿世杰 何健 孟森 何家欢 徐颖
受保护的技术使用者：天津津航技术物理研究所
技术研发日：2021.11.25
技术公布日：2022/3/4