沉积设备的喷嘴堵塞清除装置及其喷嘴堵塞清除方法与流程

1.本发明涉及解决在沉积设备中喷射沉积物质的喷嘴的堵塞的装置，以及使用该装置的喷嘴堵塞解决方法。


背景技术：

2.在使用沉积设备执行沉积工艺时，可以通过喷嘴来喷射从沉积腔内部的蒸发源蒸发的有机物质。如果有机物质积聚到喷嘴的内部，则可能发生喷嘴的堵塞(clogging)现象。
3.以往采用如下方式来清除喷嘴的堵塞，即，通过在沉积腔内设置喷嘴堵塞清除装置，当发生喷嘴堵塞或喷嘴口径缩小等的问题时，使用喷嘴堵塞清除装置来清除喷嘴堵塞。
4.然而，在沉积腔内设置喷嘴堵塞清除装置来使用的情况下，存在沉积腔的尺寸变大的问题。另外，由于喷嘴堵塞清除装置设置在沉积腔内，因此，存在难以更换喷嘴堵塞清除装置或者清洁喷嘴堵塞清除装置的问题。


技术实现要素：

5.解决的技术问题
6.本发明的一个目的是提供可以与沉积腔分开保管的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置以及使用该装置的喷嘴堵塞清除方法。
7.然而，本发明的目的不限于如上所述的目的，并且可以在不脱离本发明的思想和领域的范围内进行各种扩展。
8.解决方法
9.为了实现前述的本发明的一个目的，根据实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除部、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，上述喷嘴堵塞清除部位于上述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件，上述喷嘴堵塞清除部移动构件在上述运载件下方移动上述喷嘴堵塞清除部，且上述运载件移动构件将上述运载件移动到沉积腔的内部和外部。
10.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件可以包括卤素灯。
11.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括至少一个透镜，上述透镜布置在上述卤素灯下方并且用于压缩从上述卤素灯发射的光。
12.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括管和凸缘，其中上述管围绕上述卤素灯，且上述凸缘连接到上述管的下端，其中，上述透镜可以通过上述凸缘接合到上述管。
13.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括以上述卤素灯为中心对称布置的多个聚光镜。
14.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除装置还可以包括保护盖，上述保护盖位于上述喷嘴堵塞清除部下端。
15.在一个实施方式中，上述保护盖可以包括铝。
16.在一个实施方式中，上述沉积设备的喷嘴堵塞清除装置还可以包括无线模块，上述无线模块接收存在于上述沉积腔内部的被堵塞的喷嘴的位置信息。
17.为了实现前述的本发明的一个目的，根据实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除移动部、喷嘴堵塞清除移动部保持架、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，上述喷嘴堵塞清除移动部位于上述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件，上述喷嘴堵塞清除移动部保持架位于上述运载件下方，并且具有能够供上述喷嘴堵塞清除移动部在与上述运载件的移动方向垂直的方向上移动的内部空间，上述喷嘴堵塞清除部移动构件在上述运载件下方移动上述喷嘴堵塞清除移动部保持架，且上述运载件移动构件将上述运载件移动到沉积腔的内部和外部。
18.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件可以包括卤素灯。
19.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括至少一个透镜，上述透镜布置在上述卤素灯下方并且用于压缩从上述卤素灯发射的光。
20.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括管和凸缘，其中上述管围绕上述卤素灯，且上述凸缘连接到上述管的下端，其中上述透镜可以通过上述凸缘接合到上述管。
21.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括以上述卤素灯为中心对称布置的多个聚光镜。
22.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除装置还可以包括保护盖，上述保护盖位于上述喷嘴堵塞清除移动部下端，并且覆盖上述喷嘴堵塞清除构件与喷嘴堵塞清除构件保持架之间的接合部分。
23.在一个实施方式中，上述保护盖可以包括铝。
24.在一个实施方式中，上述沉积设备的喷嘴堵塞清除装置还可以包括无线模块，上述无线模块接收存在于上述沉积腔内部的被堵塞的喷嘴的位置信息。
25.为了实现前述的本发明的一个目的，根据实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除方法可以包括：将运载件从沉积腔外部移动到上述沉积腔内部的步骤；将位于上述运载件下方的至少一个喷嘴堵塞清除构件移动到上述沉积腔内的被堵塞的喷嘴上方的步骤；使用上述喷嘴堵塞清除构件清除上述喷嘴的堵塞的步骤；以及将运载件移动到上述沉积腔外部的步骤。
26.在一个实施方式中，上述沉积设备的喷嘴堵塞清除方法还可以包括：通过无线通信接收上述被堵塞的喷嘴的位置信息的步骤；以及通过上述无线通信修正上述喷嘴堵塞清除构件的位置的步骤。
27.在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件可以包括卤素灯。
28.在一个实施方式中，上述沉积设备的喷嘴堵塞清除方法还可以包括：通过上述无线通信驱动上述卤素灯的步骤。
29.有益效果
30.在根据本发明的实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置以及使用该装置的喷嘴堵塞清除方法中，由于使用了与沉积腔分开设置的运载件，因此，可以不在沉积腔内另外设置喷嘴堵塞清除装置。因此，可以将上述运载件灵活地应用于各种类型的沉积腔内的喷嘴堵塞的清除，并且在采用一种或多种类型的沉积腔的连续工艺中，可以在不干扰工艺的
连续性的情况下加入上述运载件来清除喷嘴堵塞，从而在进行沉积工艺布局时可以自由布置各个腔。
31.另外，提供了如下效果：由于上述运载件与沉积腔分开保管，自由实现对设置在运载件上的喷嘴堵塞清除装置的清洁，并且容易改变和改造喷嘴堵塞清除方法，因此，易于管理喷嘴堵塞清除装置。
32.然而，本发明的效果不限于前述效果，并且可以在不脱离本发明的思想和领域的范围内进行各种扩展。
附图说明
33.图1是示出根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的平面图。
34.图2是示出包括在图1的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置中的喷嘴堵塞清除构件的一个示例的截面图。
35.图3是示出包括在图1的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置中的喷嘴堵塞清除构件的一个示例的截面图。
36.图4是示出根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的平面图。
37.图5是示出图4的区域a4的平面图。
38.图6是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的流程图。
39.图7是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的截面图。
40.图8是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的图。
41.图9是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的图。
42.附图标记的说明
43.100：运载件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
110：喷嘴堵塞清除部
44.111：喷嘴堵塞清除构件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
113：保护盖
45.120：喷嘴堵塞清除部移动构件 130：运载件移动构件
46.150：无线模块
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
210：卤素灯
47.230：透镜
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
240：凸缘
48.250：管
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
260：聚光镜
49.410：喷嘴堵塞清除移动部
ꢀꢀꢀꢀꢀ
420：喷嘴堵塞清除移动部保持架
具体实施方式
50.以下，将参考附图对根据本发明的实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置和使用该装置的喷嘴堵塞清除方法进行更详细的描述。对于附图上的相同的构成要素，使用相同或相似的参考标号。
51.图1是示出根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的平面图。
52.参考图1，根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件100、喷嘴堵塞清除部110、喷嘴堵塞清除部移动构件120和运载件移动构件130。
53.运载件100可以进入沉积腔内部。运载件100下方可以设置有对于喷嘴堵塞的清除所需要的装置。
54.喷嘴堵塞清除部110可以位于运载件100下方。喷嘴堵塞清除部110可以包括喷嘴堵塞清除构件111和喷嘴堵塞清除构件保持架112。
55.喷嘴堵塞清除构件111可以对使上述沉积腔内的喷嘴堵塞的有机物质施加能量而使其分解，从而清除喷嘴的堵塞。喷嘴堵塞清除构件111可以以与上述沉积腔内的喷嘴的布置间隔实际上相同的间隔布置。
56.喷嘴堵塞清除构件保持架112可以起到固定喷嘴堵塞清除构件111的作用。喷嘴堵塞清除构件保持架112可以承受工艺执行中可能产生的冲击，并且可以包括轻的材料。例如，喷嘴堵塞清除构件保持架112可以包括铝。
57.喷嘴堵塞清除部移动构件120可以位于运载件100下方。喷嘴堵塞清除部移动构件120可以使喷嘴堵塞清除部110在运载件100内部移动。
58.喷嘴堵塞清除部移动构件120可以包括电机121、联轴齿轮122、轴123和滚珠丝杆124。随着电机121运转而产生的能量可以经过联轴齿轮122被传递到轴123。传递到轴123的能量可以传递到滚珠丝杆124，从而使滚珠丝杆124旋转。通过滚珠丝杆124的旋转，连接到滚珠丝杆124的喷嘴堵塞清除部110可以在运载件100内部移动。
59.运载件移动构件130可以位于运载件100的两侧。运载件移动构件130可以使运载件100移动到上述沉积腔的内部和外部。
60.在一个实施方式中，沉积设备的喷嘴堵塞清除装置还可以包括能量供给源140。能量供给源140可以向喷嘴堵塞清除构件111供给能量。
61.能量供给源140还可以包括电池141和电源142。电池141可以位于运载件100的各拐角处。电池141可以向电源142供给能量。电源142可以位于喷嘴堵塞清除构件保持架112的两侧。电源142可以向喷嘴堵塞清除构件111供给能量。
62.在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除部110还可以包括保护盖113。保护盖113可以覆盖喷嘴堵塞清除构件111与喷嘴堵塞清除构件保持架112之间的接合部，并且可以在上述沉积腔内防止因从上述喷嘴喷射的有机物质而引起的喷嘴堵塞清除构件111的污染。保护盖113可以包括铝(铝为轻的材料)，并且可以制造为约1.5mm至约2.0mm的厚度。
63.在一个实施方式中，沉积设备的喷嘴堵塞清除装置还可以包括无线模块150。无线模块150可以接收存在于上述沉积腔内部的被堵塞的喷嘴的位置信息。
64.以下，参考图2和图3来描述根据本发明的一个实施方式的喷嘴堵塞清除构件111。
65.图2和图3是示出喷嘴堵塞清除构件111的一个示例的截面图。
66.参考图2，根据本发明的一个实施方式的喷嘴堵塞清除构件111可以包括卤素灯210和电源线220。卤素灯210发射光，并且上述光可以分解堵塞喷嘴的有机物质。电源线220可以连接到电源142，以向卤素灯210供给能量。
67.在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除构件111还可以包括透镜230。透镜230可以位于
卤素灯210的下方。透镜230可以压缩上述光。
68.在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除构件111还可以包括凸缘240和管250。管250可以围绕卤素灯210。管250的下端可以连接有凸缘240。凸缘240可以使管250内部处于真空状态，以防止卤素灯210受到上述有机物质的污染。
69.在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除构件111还可以包括聚光镜260。聚光镜260以卤素灯210为中心对称布置。聚光镜260可以防止上述光被吸收到喷嘴堵塞清除构件111内部。
70.参考图3，根据本发明的一个实施方式的喷嘴堵塞清除构件111可以包括多个透镜。在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除构件111可以包括第一透镜310和第二透镜320。第一透镜310可以位于卤素灯210与凸缘240之间，并且第二透镜320可以位于凸缘240下方。与仅使用一个透镜230的情况下的焦点直径d2和焦点距离l2相比，当使用第一透镜310和第二透镜320时，可以进一步缩小焦点直径d3，并且可以进一步增加焦点距离l3。
71.以下，参考图4和图5来描述根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置。
72.图4是示出根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的平面图。
73.参考图4，根据本发明的一个实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件100、喷嘴堵塞清除部移动构件120、运载件移动构件130、喷嘴堵塞清除移动部410和喷嘴堵塞清除移动部保持架420。喷嘴堵塞清除部移动构件120可以使喷嘴堵塞清除移动部保持架420在运载件100内移动。喷嘴堵塞清除移动部410可以包括喷嘴堵塞清除构件111和保护盖113。喷嘴堵塞清除移动部保持架420可以具有能够供喷嘴堵塞清除移动部410在与运载件100的移动方向垂直的方向上移动的内部空间。
74.图5是示出图4的区域a4的平面图。
75.参考图5，喷嘴堵塞清除移动部410可以包括电机510和轴520。喷嘴堵塞清除移动部保持架420可以包括lm导轨530(直线运动导轨)。由电机510提供的驱动能量通过轴520被传递到lm导轨530，且因此，可以使喷嘴堵塞清除移动部410沿着lm导轨530移动。
76.以下，参考图6和图7来描述根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法。
77.图6是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的流程图。图7是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的截面图。
78.参考图6和图7，根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法可以包括：将运载件100从沉积腔外部移动到上述沉积腔内部(s610)的步骤；将位于运载件100下方的至少一个喷嘴堵塞清除构件111移动到上述沉积腔内的被堵塞的喷嘴上方(s620)的步骤；使用喷嘴堵塞清除构件111清除喷嘴的堵塞(s630)的步骤；以及将运载件100移动到上述沉积腔外部(s640)的步骤。
79.具体地，可以通过使用运载件移动构件130来将运载件100移动到上述沉积腔内部(s610)。在完成运载件100的移动(s610)之后，可以使用喷嘴堵塞清除部移动构件120来移动喷嘴堵塞清除部110(s620)。通过喷嘴堵塞清除部110的移动(s620)，喷嘴堵塞清除构件111可以被调节为位于发生喷嘴堵塞的喷嘴710的正上方。在完成喷嘴堵塞清除部110的移
动(s620)之后，可以使用喷嘴堵塞清除构件111来清除发生喷嘴堵塞的喷嘴710的堵塞(s630)。在完成清除(s630)之后，可以使用运载件移动构件130将运载件100移动到上述沉积腔外部(s640)。
80.在一个实施方式中，沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括无线模块(图1的150)，并且使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法还可以包括：通过无线通信接收发生喷嘴堵塞的喷嘴710的位置信息(s650)的步骤；以及通过上述无线通信修正喷嘴堵塞清除构件111的位置(s660)的步骤。可以通过无线模块150接收通过上述沉积腔内部的qcm(石英晶体微天平传感器)确认的发生喷嘴堵塞的喷嘴710的位置信息。可以通过上述位置信息，掌握喷嘴堵塞清除构件111是否位于发生喷嘴堵塞的喷嘴710的上方。当喷嘴堵塞清除构件111没有位于发生喷嘴堵塞的喷嘴710的上方时，可以使用喷嘴堵塞清除部移动构件120来修正喷嘴堵塞清除构件111的位置，以使其位于发生喷嘴堵塞的喷嘴710的上方(s660)。
81.在一个实施方式中，喷嘴堵塞清除构件111可以包括卤素灯(图2的210)。在这种情况下，可以通过无线模块150进行无线通信来调节卤素灯210的电源。
82.图8是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的图。
83.参考图8，运载件100可以经过初始沉积腔800在一个方向f8上移动，并且可以穿过一系列连续的沉积腔。在一个方向f8上移动的运载件100可以到达发生喷嘴堵塞的沉积腔810。在运载件100进入到发生喷嘴堵塞的沉积腔810内部之后，可以通过喷嘴堵塞清除部移动构件120来调节喷嘴堵塞清除部110的位置。可以通过喷嘴堵塞清除部移动构件120来调节喷嘴堵塞清除部110的位置，以使喷嘴堵塞清除构件111位于被堵塞的喷嘴820上方。当喷嘴堵塞清除构件111位于被堵塞的喷嘴820上方时，可以驱动喷嘴堵塞清除构件111来清除喷嘴堵塞。在喷嘴堵塞被清除后，可以使运载件100在一个方向f8上移动，以离开上述一系列连续的沉积腔。离开上述沉积腔的运载件100可以单独进行保管。因此，在由上述一系列连续的沉积腔构成的工艺中，可以在维持工艺的连续性的同时清除被堵塞的喷嘴820的堵塞。
84.图9是示出根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法的图。
85.根据本发明的一个实施方式的使用沉积设备的喷嘴堵塞清除装置的喷嘴堵塞清除方法可以包括：通过闸阀920连接加载互锁腔910和簇式沉积腔930的步骤；在关闭闸阀920的状态下将运载件100放入加载互锁腔910的步骤；使加载互锁腔910内部成为真空状态的步骤；打开闸阀920并将运载件100移动到簇式沉积腔930内的步骤；在关闭闸阀920之后清除簇式沉积腔930内的喷嘴堵塞的步骤；在打开闸阀920之后将运载件100移动到加载互锁腔910的步骤；以及在关闭闸阀920之后将加载互锁腔910与清除了喷嘴堵塞的簇式沉积腔930分离的步骤。因此，可以在维持簇式沉积腔930的真空状态的同时，清除簇式沉积腔930内的喷嘴堵塞。
86.工业实用性
87.根据本发明的示例性实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置和使用该装置的喷嘴堵塞清除方法可以应用于清除用于oled沉积工艺的各种沉积设备的喷嘴堵塞的情况。
88.以上参考附图对根据本发明的示例性实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置和使用该装置的喷嘴堵塞清除方法进行了描述，但实施的实施方式是示例性的，在不脱离所附的权利要求书中所记载的本发明的技术思想的范围内可以由本技术领域的普通技术人员进行修正和变更。