沉积设备的喷嘴堵塞清除装置及其喷嘴堵塞清除方法与流程

技术特征：
1.沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，包括：运载件；喷嘴堵塞清除部，位于所述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件；喷嘴堵塞清除部移动构件，在所述运载件下方移动所述喷嘴堵塞清除部；以及运载件移动构件，将所述运载件移动到沉积腔的内部和外部。2.根据权利要求1所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，其中，所述喷嘴堵塞清除构件包括卤素灯。3.根据权利要求2所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，其中，所述喷嘴堵塞清除构件还包括至少一个透镜，所述透镜布置在所述卤素灯下方并且用于压缩从所述卤素灯发射的光。4.根据权利要求3所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，其中，所述喷嘴堵塞清除构件还包括：管，围绕所述卤素灯；以及凸缘，连接到所述管的下端，其中，所述透镜通过所述凸缘接合到所述管。5.根据权利要求2所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，其中，所述喷嘴堵塞清除构件还包括以所述卤素灯为中心对称布置的多个聚光镜。6.根据权利要求1所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，还包括：无线模块，所述无线模块接收存在于所述沉积腔内部的被堵塞的喷嘴的位置信息。7.沉积设备的喷嘴堵塞清除装置，包括：运载件；喷嘴堵塞清除移动部，位于所述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件；喷嘴堵塞清除移动部保持架，位于所述运载件下方，并且具有能够供所述喷嘴堵塞清除移动部在与所述运载件的移动方向垂直的方向上移动的内部空间；喷嘴堵塞清除部移动构件，在所述运载件下方移动所述喷嘴堵塞清除移动部保持架；以及运载件移动构件，将所述运载件移动到沉积腔的内部和外部。8.沉积设备的喷嘴堵塞清除方法，包括：将运载件从沉积腔外部移动到所述沉积腔内部的步骤；将位于所述运载件下方的至少一个喷嘴堵塞清除构件移动到所述沉积腔内的被堵塞的喷嘴上方的步骤；使用所述喷嘴堵塞清除构件清除所述喷嘴的堵塞的步骤；以及将所述运载件移动到所述沉积腔外部的步骤。9.根据权利要求8所述的沉积设备的喷嘴堵塞清除方法，还包括：通过无线通信接收所述被堵塞的喷嘴的位置信息的步骤；以及通过所述无线通信修正所述喷嘴堵塞清除构件的位置的步骤。

技术总结
公开了沉积设备的喷嘴堵塞清除装置以及使用其的喷嘴堵塞清除方法。沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除部、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，喷嘴堵塞清除部位于运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件；喷嘴堵塞清除部移动构件在运载件下方移动喷嘴堵塞清除部；运载件移动构件将运载件移动到沉积腔的内部和外部。部。部。


技术研发人员：曹踊晧 徐敏逵 姜有珍 朴俊河 许明洙
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.08.13
技术公布日：2022/2/28