技术特征：
1.一种酸性蚀刻液，其特征在于，包括以下组分：氢氟酸130-170ml；醋酸6420-6580ml；硝酸13900-14100ml；纯水4925-5075ml。2.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液，其特征在于，包括以下组分：氢氟酸130ml；醋酸6420ml；硝酸13900ml；纯水4925ml。3.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液，其特征在于，包括以下组分：氢氟酸170ml；醋酸6580ml；硝酸14100ml；纯水5075ml。4.根据权利要求1中所述的一种酸性蚀刻液，其特征在于，包括以下组分：氢氟酸150ml；醋酸6500ml；硝酸14000ml；纯水5000ml。
技术总结
本发明属于半导体制作技术领域，具体涉及一种酸性蚀刻液；本发明以固定酸性蚀刻液配方比及背面金属去除之蚀刻标准作业流程的方式，不仅可有效完成背面金属去除之成果，亦可有效提升产品质量与成本管控。提升产品质量与成本管控。
技术研发人员：叶顺闵 林伯璋 蔡孟霖 许邦泓
受保护的技术使用者：滁州钰顺企业管理咨询合伙企业（有限合伙）
技术研发日：2021.11.25
技术公布日：2022/2/8
再多了解一些
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