镜装配构件、使用它的位置计测用镜和曝光装置的制作方法

技术特征：
1.一种镜装配构件，其特征在于，包含棱柱状或棱筒状的结构体，作为外侧面，具备用于与被接合面接合的接合面、和相对于所述接合面倾斜的斜面，所述斜面是用于装配反射膜的装配面，所述反射膜用于反射从光源出射的光，所述接合面具备：沿着所述结构体的纵长方向延伸的多个第1凹槽、和与该第1凹槽交叉的多个第2凹槽，所述第1凹槽，在两端开口，所述第2凹槽，至少位于光由所述反射膜进行反射一侧的端部被密封而成。2.根据权利要求1所述的镜装配构件，其中，所述结构体由40℃～400℃下的平均线膨胀系数均为
±2×
10
－6
/k以内的陶瓷或玻璃形成。3.根据权利要求1或权利要求2所述的镜装配构件，其中，所述第2凹槽，两端被密封而成。4.根据权利要求1至权利要求3中任一项所述的镜装配构件，其中，在所述接合面中，位于与所述结构体的纵长方向交叉的横宽方向中央部的所述第1凹槽的宽度，比位于所述中央部的两侧的其他的所述第1凹槽的宽度窄。5.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第1凹槽，相对于所述接合面的纵长方向的中心线以镜面对称配置而成。6.根据权利要求1至权利要求5中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第1凹槽，在所述接合面的横宽方向上以等间隔配置而成。7.根据权利要求1至权利要求6中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第2凹槽，相对于所述接合面的横宽方向的中心线以镜面对称配置而成。8.根据权利要求1至权利要求7中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第2凹槽，在所述接合面的纵长方向上以等间隔配置而成。9.根据权利要求1至权利要求8中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第1凹槽和多个所述第2凹槽之中，至少在粘接剂涂布部，槽宽度大于槽深度。10.根据权利要求1至权利要求9中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第1凹槽的第1底面，是喷丸加工面或激光加工面。11.根据权利要求1至权利要求10中任一项所述的镜装配构件，其中，多个所述第2凹槽的第2底面，是喷丸加工面或激光加工面。12.根据权利要求1至权利要求11中任一项所述的镜装配构件，其中，所述斜面的算术平均粗糙度ra为0.01μm以上且0.5μm以下。13.根据权利要求1至权利要求12中任一项所述的镜装配构件，其中，所述结构体沿所述纵长方向具有贯通孔，围绕该贯通孔的内周面，具有与存在于晶粒间的晶界相的露出部相比突出的晶粒。14.一种位置计测用镜，其中，在权利要求1至权利要求13中任一项所述的镜装配构件的所述斜面上装配反射膜而成。15.根据权利要求14所述的位置计测用镜，其中，在所述斜面与所述反射膜之间具备基底层，该基底层由从铬、氧化铬、氧化钇、钛酸镧、氧化硅、氧化钛、氧化铝和铝酸镁中选择的至少一种形成。16.根据权利要求15所述的位置计测用镜，其中，在所述反射膜的表面之上具备增反射
膜，该增反射膜由从氧化钇、氟化镁、钛酸镧、氧化硅、氧化钛和氧化铝中选择的至少一种形成。17.根据权利要求15所述的位置计测用镜，其中，在所述反射膜的表面之上具备增反射膜，该增反射膜具备多个包含低折射率层、和厚度不同于该低折射率层的高折射率层的层叠体。18.一种曝光装置，其具备接合有权利要求14～17中任一项所述的位置计测用镜的衬底载台。

技术总结
一种镜装配构件，包含棱柱状或棱筒状的陶瓷结构体，作为外侧面，具备用于与被接合面接合的接合面、和相对于被接合面倾斜的斜面，斜面是用于装配反射膜的装配面，该反射膜用于反射从光源出射的光，接合面中，具备沿着结构体的纵长方向延长的多个第1凹槽、和与该第1凹槽交叉的多个第2凹槽。第1凹槽在两端开口，第2凹槽中，位于光由所述反射膜反射这一侧的端部被密封而形成。密封而形成。密封而形成。


技术研发人员：井上彻弥
受保护的技术使用者：京瓷株式会社
技术研发日：2020.06.26
技术公布日：2022/1/28