一种显示装置的制作方法

1.本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示装置。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，市场对于高屏占比的显示面板的需求越来越迫切，显示面板正朝着全屏化、轻薄化方向发展。全屏化的实现通常采用屏下摄像技术，然而在现有大视场角情况下，屏下摄像装置采集的图像存在摩尔纹，影响了正常成像功能。


技术实现要素：

3.为了解决上述问题至少之一，本实用新型第一方面提供一种显示装置，包括显示基板和设置在所述显示基板远离出光侧的光学元件，所述显示基板包括衬底、位于所述衬底远离所述光学元件一侧的驱动电路层、发光器件层和封装层和偏光片，所述显示基板还包括：
4.光调整保护层，用于消除外部环境光入射到所述光学元件后形成的干涉现象。
5.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述光调整保护层包括光调整部和保护层，其中
6.所述光调整部用于调整所述外部环境光的偏振态，所述光调整部在所述衬底上的正投影覆盖所述光学元件在所述衬底上的正投影；
7.所述保护层设置在所述衬底远离所述驱动电路层的一侧，用于保护所述衬底。
8.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，
9.所述光调整部设置在所述保护层与所述衬底之间；
10.或者
11.所述光调整部设置在所述封装层与所述偏光片之间。
12.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，
13.所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
14.所述保护层包括设置压敏胶和保护膜，所述压敏胶相对于所述保护膜靠近所述衬底，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
15.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，
16.所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的聚酯薄膜组成，所述聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
17.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
18.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述第一夹角大于等于30度且小于等于60度，或者所述第一夹角大于等120度且小于等于150度。
19.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述第一夹角为45度或135度。
20.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的位相补偿基材组成，所述位相补偿基材的位相差小于等于50nm；
21.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
22.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，
23.所述位相补偿基材为spf基材、cop基材和pi基材中的一种；
24.和/或
25.所述位相补偿基材的位相差为0nm。
26.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，包括设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的掺杂有散射粒子的压敏胶、以及设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的保护膜，其中所述散射粒子用于改变所述外部环境光的振动方向；
27.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
28.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的超复屈折膜组成；
29.或者
30.所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的聚酯薄膜组成，所述聚酯薄膜的位相差大于等于5000nm；
31.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
32.例如，在本技术一些实施例提供的显示装置中，
33.所述衬底为柔性衬底；
34.和/或
35.所述光学元件为屏下摄像装置。
36.本实用新型的有益效果如下：
37.本实用新型针对目前现有的问题，制定一种显示装置和制作方法，并通过设置的光调整保护层，能够消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，以实现消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹，从而弥补了现有技术中存在的问题，有效提高光学元件采集的图像质量，具有广泛的应用前景。
附图说明
38.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
39.图1示出现有技术中大视场角情况下下摄像装置采集的图像的示意图；
40.图2示出现有技术中显示基板的结构示意图；
41.图3示出本实用新型的一个实施例所述显示装置的结构示意图；
42.图4示出本实用新型的另一个实施例所述显示装置的结构示意图；
43.图5示出本实用新型的另一个实施例所述显示装置的结构示意图；
44.图6示出本实用新型的另一个实施例所述显示装置的结构示意图；
45.图7示出本实用新型的另一个实施例所述显示装置的结构示意图；
46.图8示出本实用新型的另一个实施例所述显示装置的结构示意图；
47.图9示出本实用新型的一个实施例所述制作方法的流程图。
具体实施方式
48.为了更清楚地说明本实用新型，下面结合优选实施例和附图对本实用新型做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本实用新型的保护范围。
49.需要说明的是，本文中所述的“在
……
上”、“在
……
上形成”和“设置在
……
上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。在本文中，除非另有说明，所采用的术语“位于同一层”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。在本文中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。
50.现有技术中，如图1所示，大视场角情况下，屏下摄像装置采集的图像存在摩尔纹问题(图中圈出位置)，发明人经大量试验以及研究提出，导致该问题的原因在于：由于显示装置的偏光片和衬底保护膜存在位相差，入射屏下摄像装置的外部环境光在大视场角下容易发生干涉，从而导致屏下摄像装置采集的图像中存在的摩尔纹。
51.具体的，如图2所示，在屏下摄像fdc(full display with camera)技术方案中，显示装置包括显示基板和设置在所述显示基板远离出光侧的屏下摄像装置20，所述显示基板包括衬底10、设置在衬底上的显示功能层11、设置在显示功能层上的偏光片12、设置在衬底远离显示功能层的衬底保护层13。在使用屏下摄像装置采集图像时，外部环境光依次穿过显示装置的偏光片12、显示功能层11、衬底保护层13和屏下摄像装置的镜头20。
52.其中，偏光片12、衬底保护层13和屏下摄像装置的镜头20形成夹心结构，且曲面镜片和显示基板之间存在厚度渐变的空气层，光线穿过上述夹心结构后产生等厚干涉，表现为摩尔纹。具体的，偏光片12通常采用透过轴为45度的偏光片，作为夹心结构的起偏器；衬底保护层13为具有位相差的膜层，作为夹心结构的位相差板；根据菲涅尔折射定律可知，屏下摄像装置的镜头20(玻璃或亚克力)也相当于偏光片，且光线入射角越大，偏振作用越明显，即屏下摄像装置的镜头20作为夹心结构的检偏器。同时，在作为位相差板的衬底保护层13和作为检偏器的镜头20之间，存在厚度渐变的空气层(d1《d2《d3)，光线穿过前述夹心结构后，产生等厚干涉，从而在屏下摄像装置20的图像传感器ccd或cmos上成像，形成摩尔纹。
53.针对上述问题，如图3所示，本实用新型的一个实施例提供了一种显示装置，包括显示基板和设置在所述显示基板远离出光侧的光学元件200，所述显示基板包括衬底100、
位于在所述衬底100上的驱动电路层110、发光器件层120、封装层130和偏光片140，所述显示基板还包括：
54.光调整保护层150，用于消除外部环境光入射光学元件200后形成的干涉现象。
55.在本实施例中，所述显示装置通过设置的光调整保护层，能够消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，以实现消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹，从而弥补了现有技术中存在的问题，有效提高光学元件采集的图像质量，具有广泛的应用前景。
56.在一个具体的实施例中，所述光学元件为屏下摄像装置，所述衬底为柔性衬底，所述光调整保护层包括光调整部和保护层，其中：
57.所述光调整部用于调整所述外部环境光的偏振态，所述光调整部在所述柔性衬底上的正投影覆盖所述屏下摄像装置在所述柔性衬底上的正投影；
58.所述保护层设置在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧，用于保护所述柔性衬底。
59.在本实施例中，通过设置的光调整部以调整所述外部环境光的偏振态，达到消除光线的偏振态的目的，从而消除形成干涉现象的必要条件，实现消除摩尔纹。
60.需要说明的是，本实施例中的柔性衬底仅用于描述具体实施方式，本技术对此不作具体限定，本领域技术人员应当理解，该衬底可以为柔性衬底也可以为硬性衬底，在此不再赘述。
61.在一个可选的实施例中，如图4所示，所述光调整部1501设置在所述保护层1502与所述柔性衬底100之间，所述光调整部1501为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
62.所述保护层包括设置压敏胶和保护膜，所述压敏胶相对于所述保护膜靠近所述柔性衬底，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
63.在本实施例中，如图4所示，显示基板包括柔性衬底100，设置在柔性衬底100上的驱动电路层110，设置在驱动电路层110上的发光器件层120，设置在发光器件层120上的封装层130，设置在封装层130上的偏光片140，以及设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的光调整保护层150。其中，发光器件层包括阳极1201、像素界定层1202、第一子像素1203、第二子像素1204和第三子像素1205；所述光调整保护层150设置在所述柔性衬底100远离驱动电路层110的一侧，所述光调整部1501设置在所述柔性衬底100远离驱动电路层110的一侧，所述保护层1502包括设置在所述光调整部1501远离所述柔性衬底100一侧的压敏胶、以及设置在所述压敏胶远离所述光调整部的保护膜。外部环境光入射偏光片140后输出偏振光，经设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的光调整部1501后消除光线的偏振态，消除偏振态后的光线经空气层进入屏下摄像装置的镜头2001。
64.具体的，超复屈折膜是高分子定向拉伸形成的膜材，具有较大的位相差值，当偏振光在穿过超复屈折膜时偏振态发生变化。在本实施例中，将超复屈折膜的膜拉伸方向设置为与偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角，从而通过超复屈折膜消除经过偏振片的偏振光的偏振态。
65.所述保护层用于保护柔性衬底，其中压敏胶用于粘接柔性衬底和保护膜，所述保护膜可以为pet材质制作而成的透明膜层。所述保护层可以为整层膜层，即所述保护层的结
构为背膜结构；当显示基板绑定区域需要弯折时会去除显示基板弯折区域处的保护膜，使得保护膜在绑定区域形成u形开口，即所述保护层的结构为u形膜(u-film)结构。
66.在一个可选的实施例中，所述第一夹角大于等于30度且小于等于60度，或者所述第一夹角大于等120度且小于等于150度。
67.在本实施例中，通过将超复屈折膜的膜拉伸方向设置为与偏光片的透过轴成30度以上且60度以下，或者成120度以上且150度以下，能够消除偏振光的偏振态。
68.在一个具体的实施例中，所述第一夹角为45度或135度。
69.在本实施例中，偏光片的透过轴为45度，超复屈折膜的膜拉伸方向为0度，即超复屈折膜的膜拉伸方向与偏光片的透过轴成45度时超复屈折膜能够完全消除偏振光的偏振态。相类似的，当超复屈折膜的膜拉伸方向与偏光片的透过轴为135度时也能够完全消除偏振光的偏振态。
70.在本实施例中，由于光调整部消除了入射屏下摄像装置的偏振光的偏振态，因此，外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头2001后不会发生等厚干涉。换句话说，本实施例通过增加光调整部消除了光线的偏振态，则光线不再具有发生等厚干涉的光学特性，因此消除了现有技术中存在的摩尔纹。
71.相类似的，通过设定聚酯薄膜的膜拉伸方向也能够消除偏振光的偏振态，在本实施例中，将聚酯薄膜的膜拉伸方向设置为与偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角大于等于30度且小于等于60度，或者所述第一夹角大于等120度且小于等于150度；进一步的所述第一夹角为45度或135度，也能够避免入射屏下摄像装置的光发生等厚干涉，从而消除现有技术中存在的摩尔纹。
72.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明：
73.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
74.在本实施例中，首先在硬性衬底，例如玻璃glass上形成柔性衬底，所述柔性衬底为聚酰亚胺pi。
75.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
76.在本实施例中，所述驱动电路层为驱动发光器件层的各发光器件的薄膜晶体管，包括依次层叠设置在柔性衬底上的有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层、源极和漏极、以及平坦化层。
77.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
78.在本实施例中，所述发光器件层包括阵列排布的发光器件，发光器件包括阳极、像素界定层、设置在像素界定层界定的发光开口区中的发光材料、以及覆盖所述发光材料和像素界定层的阴极，其中所述阳极通过过孔与驱动电路层的对应的薄膜晶体管的源极或漏极电连接。
79.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
80.在本实施例中，考虑到发光器件对水氧的易腐蚀问题，在发光器件层上形成封装层以隔绝水氧腐蚀，增加发光器件的寿命并提高显示基板的显示效果。
81.第五步，剥离所述硬性衬底。
82.在本实施例中，利用激光方式剥离硬性衬底，值得说明的是，在剥离硬性衬底之前，通常在封装层上制作临时保护层以保护发光器件不受激光影响。
83.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层。
84.在本实施例中，首先，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整部以调整所述外部环境光的偏振态，所述光调整部在所述柔性衬底上的正投影覆盖所述屏下摄像装置在所述柔性衬底上的正投影，所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角。其次，在所述光调整部远离所述柔性衬底的一侧形成保护层，所述保护层包括形成在所述光调整部远离所述柔性衬底一侧的压敏胶、以及形成在所述压敏胶远离所述光调整部的一侧的保护膜，所述保护层的结构为背膜结构。最后，进行切割。
85.值得说明的是，若所述保护层的结构为u形膜结构，在制作过程中，在剥离硬性衬底之后，在柔性衬底上先形成临时保护膜；然后切割，切割在柔性衬底上形成光调整部，再形成u形膜结构的保护层。
86.第七步，在所述封装层上形成偏光片。
87.至此，完成显示基板的制作。
88.在一个可选的实施例中，如图5所示，所述光调整部1501设置在所述封装层130与所述偏光片140之间，所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
89.所述保护层包括设置压敏胶和保护膜，所述压敏胶相对于所述保护膜靠近所述柔性衬底，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
90.在本实施例中，如图5所示，显示基板包括柔性衬底100，设置在柔性衬底100上的驱动电路层110，设置在驱动电路层110上的发光器件层120，设置在发光器件层120上的封装层130，设置在封装层130上的光调整部1501，设置在光调整部1501上的偏光片140，以及设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的保护层1502。其中，发光器件层包括阳极1201、像素界定层1202、第一子像素1203、第二子像素1204和第三子像素1205；所述光调整保护层的光调整部1501设置在封装层130与所述偏光片140之间，所述保护层1502设置在柔性衬底100远离驱动电路层110的一侧，包括设置在所述所述柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的压敏胶、以及设置在所述压敏胶远离所述柔性衬底一侧的保护膜。外部环境光入射偏光片140后输出偏振光，经设置在封装层130与所述偏光片140之间的光调整部1501后消除光线的偏振态，消除偏振态后的光线经空气层进入屏下摄像装置的镜头2001。
91.在本实施例中，光调整部为具有高分子定向拉伸形成的膜材超复屈折膜或聚酯薄膜，均具有较大的位相差值，当偏振光在穿过超复屈折膜或聚酯薄膜时偏振态发生变化。在本实施例中，将超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向设置为与偏光片的透过轴成第一夹角，能够通过超复屈折膜消除经过偏振片的偏振光的偏振态。
92.与前述实施例相类似，所述第一夹角大于等于30度且小于等于60度，或者所述第一夹角大于等120度且小于等于150度；优选为45度或135度以完全消除偏振光的偏振态。因此，本实施例通过设置在封装层和偏光片之间的光调整部消除了入射光学元件的偏振光的偏振态，即外部环境光经过偏光片、光调整部和光学元件的镜头后不会发生等厚干涉。换句话说，本实施例通过增加光调整部消除了光线的偏振态，则光线不再具有发生等厚干涉的光学特性，因此消除了现有技术中存在的摩尔纹。
93.值得说明的是，光调整部在柔性衬底上的正投影可以覆盖所述保护层在柔性衬底
上的正投影，即光调整部为整层结构；光调整部在柔性衬底上的正投影的投影面积可以小于所述保护层在柔性衬底上的正投影的投影面积，即光调整部不是整层结构；本技术对此不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的结构，以光调整部在柔性衬底上的正投影覆盖所述屏下摄像装置在所述柔性衬底上的正投影为设计准则，在此不再赘述。
94.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明：
95.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
96.在本实施例中，首先在硬性衬底，例如玻璃glass上形成柔性衬底，所述柔性衬底为聚酰亚胺pi。
97.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
98.在本实施例中，所述驱动电路层为驱动发光器件层的各发光器件的薄膜晶体管，包括依次层叠设置在柔性衬底上的有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层、源极和漏极、以及平坦化层。
99.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
100.在本实施例中，所述发光器件层包括阵列排布的发光器件，发光器件包括阳极、像素界定层、设置在像素界定层界定的发光开口区中的发光材料、以及覆盖所述发光材料和像素界定层的阴极，其中所述阳极通过过孔与驱动电路层的对应的薄膜晶体管的源极或漏极电连接。
101.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
102.在本实施例中，考虑到发光器件对水氧的易腐蚀问题，在发光器件层上形成封装层以隔绝水氧腐蚀，增加发光器件的寿命并提高显示基板的显示效果。
103.第五步，剥离所述硬性衬底。
104.在本实施例中，利用激光方式剥离硬性衬底，值得说明的是，在剥离硬性衬底之前，通常在封装层上制作临时保护层以保护发光器件不受激光影响。
105.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层的保护层，所述保护层包括形成在所述柔性衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶、以及形成在所述压敏胶远离所述柔性衬底一侧的保护膜，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
106.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成保护层，具体的，在所述柔性衬底远离驱动电路层一侧的压敏胶、以及形成在所述压敏胶远离所述光调整部的一侧的保护膜，所述保护层的结构为背膜结构。然后进行切割。
107.值得说明的是，若所述保护层的结构为u形膜结构，在制作过程中，在剥离硬性衬底之后，在柔性衬底上先形成临时保护膜；然后切割，切割后在柔性衬底上形成u形膜结构的保护层。
108.第七步，在所述封装层上形成光调整保护层的光调整部以调整所述外部环境光的偏振态。
109.在本实施例中，所述光调整部在所述柔性衬底上的正投影覆盖所述屏下摄像装置在所述柔性衬底上的正投影，所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角。
110.第八步，在所述光调整部上形成偏光片。
111.至此，完成显示基板的制作。
112.考虑到显示基板的轻薄化设计，在一个具体的实施例中，如图6所示，所述光调整保护层150设置在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述柔性衬底100远离所述驱动电路层110一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述柔性衬底一侧的聚酯薄膜组成，所述聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片140的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；所述光调整保护层150的结构为背膜结构或u形膜结构。
113.在本实施例中，通过将膜拉伸方向设置为与所述偏光片140的透过轴成第一夹角的聚酯薄膜直接设置为显示基板的柔性衬底100的保护层，即使用该聚酯薄膜一方面消除偏振光的偏振态，另一方面用于保护柔性衬底。换句话说，通过复用该聚酯薄膜实现显示基板的轻薄化设计。
114.具体的，如图6所示，显示基板包括柔性衬底100，设置在柔性衬底100上的驱动电路层110，设置在驱动电路层110上的发光器件层120，设置在发光器件层120上的封装层130，设置在封装层130上的偏光片140，以及设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的光调整保护层150。其中，发光器件层包括阳极1201、像素界定层1202、第一子像素1203、第二子像素1204和第三子像素1205；所述光调整保护层150包括用于粘接柔性衬底100的压敏胶和聚酯薄膜，所述聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片140的透过轴成第一夹角，所述第一夹角大于等于30度且小于等于60度，或者所述第一夹角大于等120度且小于等于150度，优选为45度或135度。并且所述光调整保护层150的结构为背膜结构或u形膜结构。
115.在本实施例中，外部环境光入射偏光片140后输出偏振光，经设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的膜拉伸方向与所述偏光片140的透过轴成第一夹角的聚酯薄膜150后消除光线的偏振态，消除偏振态后的光线经空气层进入屏下摄像装置的镜头，从而能够避免外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头后发生等厚干涉，从而消除了现有技术中存在的摩尔纹。
116.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明，与前述实施例相同部分不再赘述：
117.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
118.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
119.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
120.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
121.第五步，剥离所述硬性衬底。
122.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层，包括在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成聚酯薄膜，所述聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角；所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
123.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成膜拉伸方向与所述偏光片透过轴成第一夹角的聚酯薄膜，该聚酯薄膜一方面消除偏振光的偏振态，另一方面用于保护柔性衬底，从而实现显示基板的轻薄化。
124.第七步，在所述封装层上形成偏光片。
125.至此，完成显示基板的制作。
126.考虑到显示基板的轻薄化设计，在一个可选的实施例中，所述光调整保护层设置在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的超复屈折膜组成；
127.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
128.在本实施例中，由于所述超复屈折膜的位相差大于等于5000nm，外部环境光入射偏光片后输出偏振光，经设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的超复屈折膜后经空气层进入屏下摄像装置的镜头，从而能够避免外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头后发生等厚干涉，从而消除了现有技术中存在的摩尔纹。
129.相类似的，考虑到显示基板的轻薄化设计，在一个可选的实施例中，所述光调整保护层设置在所述衬底远离驱动电路层的一侧，由设置在所述衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述衬底一侧的聚酯薄膜组成，所述聚酯薄膜的位相差大于等于5000nm；
130.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
131.在本实施例中，由于使用位相差大于等于5000nm的聚酯薄膜，外部环境光入射偏光片后输出偏振光，经设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的聚酯薄膜后经空气层进入屏下摄像装置的镜头，从而能够避免外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头后发生等厚干涉，从而消除了现有技术中存在的摩尔纹。
132.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明，与前述实施例相同部分不再赘述：
133.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
134.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
135.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
136.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
137.第五步，剥离所述硬性衬底。
138.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层，包括在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成超复屈折膜、或者位相差大于等于5000nm的聚酯薄膜；所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
139.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成高位相差基材，即超复屈折膜或者位相差大于等于5000nm的聚酯薄膜，该高位相差基材一方面消除偏振光的偏振态，另一方面用于保护柔性衬底，从而实现显示基板的轻薄化。
140.第七步，在所述封装层上形成偏光片。
141.至此，完成显示基板的制作。
142.考虑到显示基板的轻薄化设计，在一个可选的实施例中，如图7所示，所述光调整保护层150设置在所述柔性衬底100远离驱动电路层110的一侧，由设置在所述柔性衬底100远离所述驱动电路层110一侧的压敏胶和设置在所述压敏胶远离所述柔性衬底一侧的位相补偿基材组成，所述位相补偿基材的位相差小于等于50nm；所述光调整保护层150的结构为背膜结构或u形膜结构。
143.在本实施例中，通过使用包括位相差小于等于50nm的位相补偿基材的光调整保护层150直接设置为显示基板的柔性衬底100的保护层，即使用该位相补偿基材一方面消除光线产生等厚干涉的路径膜层，另一方面用于保护柔性衬底。换句话说，通过复用该位相补偿基材实现显示基板的轻薄化设计。
144.具体的，如图7所示，显示基板包括柔性衬底100，设置在柔性衬底100上的驱动电路层110，设置在驱动电路层110上的发光器件层120，设置在发光器件层120上的封装层130，设置在封装层130上的偏光片140，以及设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的光调整保护层150。其中，发光器件层包括阳极1201、像素界定层1202、第一子像素1203、第二子像素1204和第三子像素1205；所述光调整保护层150包括用于粘接柔性衬底100的压敏胶和位相补偿基材。
145.在本实施例中，当位相补偿基材的位相差小于等于50nm，即可消除产生等厚干涉的路径膜层，也就是说可以消除现有技术中存在的摩尔纹。值得说明的是，本技术对位相补偿基材不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的位相补偿基材，以实现消除光线产生等厚干涉的路径膜层为设计准则，在此不再赘述。
146.在一个可选的实施例中，所述位相补偿基材为spf基材、cop基材或pi基材。其中，spf基材为日东光学开发的一种新材料，其位相差小于等于50nm，cop基材或pi基材为本领域常用的位相差小于等于50nm的材料。
147.在本实施例中，外部环境光入射偏光片140后输出偏振光，经设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的位相差小于等于50nm的位相补偿基材后消除光线产生等厚干涉的路径膜层，从而能够避免外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头后发生等厚干涉，从而消除了现有技术中存在的摩尔纹。
148.在一个可选的实施例中，位相补偿基材的位相差为0nm。
149.在本实施例中，当位相补偿基材的位相差为0nm时，即位相补偿基材为零位相差，能够完全消除光线产生等厚干涉的路径膜层，从而能够避免外部环境光经过偏光片、光调整保护层和屏下摄像装置的镜头后发生等厚干涉，从而消除了现有技术中存在的摩尔纹。
150.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明，与前述实施例相同部分不再赘述：
151.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
152.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
153.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
154.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
155.第五步，剥离所述硬性衬底。
156.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层，包括在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成位相补偿基材，所述位相补偿基材的位相差小于等于50nm；所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
157.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成包括有位相差小于等于50nm的位相补偿基材的光调整保护层，该位相补偿基材一方面消除光线产生等厚干涉的路径膜层，另一方面用于保护柔性衬底，从而实现显示基板的轻薄化。
158.第七步，在所述封装层上形成偏光片。
159.至此，完成显示基板的制作。
160.考虑到显示基板的轻薄化设计，在一个可选的实施例中，如图8所示，所述光调整保护层150设置在所述柔性衬底100远离驱动电路层110的一侧，包括设置在所述柔性衬底100远离所述驱动电路层110一侧的掺杂有散射粒子的压敏胶、以及设置在所述压敏胶远离所述柔性衬底100一侧的保护膜，其中所述散射粒子用于改变所述外部环境光的振动方向；所述光调整保护层150的结构为背膜结构或u形膜结构。
161.在本实施例中，通过设置掺杂有散射粒子的压敏胶能够改变入射光线的振动方向，具体的，利用散射粒子对光线的散射特性，将入射到光调整保护层150的光线打散并改变其的振动方向，从而破坏其相干性，则光线不再具有发生等厚干涉的光学特性，因此消除了现有技术中存在的摩尔纹。
162.值得说明的是，本技术对散射粒子不作具体限定，本领域技术人员应当根据实际应用需求选择适当的散射粒子或具有散射功能的其他材料或膜层，以实现消除光线产生等厚干涉的光学特性为设计准则，在此不再赘述。
163.具体的，如图8所示，显示基板包括柔性衬底100，设置在柔性衬底100上的驱动电路层110，设置在驱动电路层110上的发光器件层120，设置在发光器件层120上的封装层130，设置在封装层130上的偏光片140，以及设置在柔性衬底100远离驱动电路层110一侧的光调整保护层150。其中，发光器件层包括阳极1201、像素界定层1202、第一子像素1203、第二子像素1204和第三子像素1205；所述光调整保护层150包括压敏胶和保护膜，该压敏胶一方面将入射光线的方向打散，另一方面用于用于粘接柔性衬底100和保护膜，即通过复用压敏胶实现消除等厚干涉并粘接保护膜，同时保护膜用于保护柔性衬底。换句话说，本实施例在现有生产工艺和生产步骤中，未增加其他工艺步骤，通过掺杂有散射粒子的压敏胶实现显示基板的轻薄化。
164.为进一步说明本实施例的显示基板，以制作该显示基板为例进行说明，与前述实施例相同部分不再赘述：
165.第一步，在硬性衬底上形成柔性衬底。
166.第二步，在所述柔性衬底上形成驱动电路层。
167.第三步，在所述驱动电路层上形成发光器件层。
168.第四步，在所述发光器件层上形成封装层。
169.第五步，剥离所述硬性衬底。
170.第六步，在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层，包括在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成掺杂有散射粒子的压敏胶，所述散射粒子用于改变所述外部环境光的振动方向；在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成保护膜；所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
171.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成包括掺杂有散射粒子的压敏胶的光调整保护层，该压敏胶一方面将入射光线打散并改变其的振动方向，另一方面用于粘接柔性衬底100和保护膜，从而实现显示基板的轻薄化。
172.第七步，在所述封装层上形成偏光片。
173.至此，完成显示基板的制作。
174.上述实施例中的显示装置，通过设置在显示基板的光调整保护层，能够消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，以实现消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹，从而弥补了现有技术中存在的问题，有效提高光学元件采集的图像质量，具有广泛的应用前景。
175.与上述实施例提供的显示装置相对应，本技术的一个实施例还提供一种制作上述显示装置的制作方法，由于本技术实施例提供的制作方法与上述几种实施例提供的显示装置相对应，因此在前实施方式也适用于本实施例提供的制作方法，在本实施例中不再详细描述。
176.如图9所示，本技术的一个实施例还提供一种制作上述显示装置的制作方法，包括：
177.形成显示基板，所述显示基板包括光调整保护层，所述光调整保护层用于消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象；
178.在所述显示基板远离出光侧的一侧设置光学元件。
179.在本实施例中，通过形成在显示基板的光调整保护层，能够消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，以实现消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹，从而弥补了现有技术中存在的问题，有效提高光学元件采集的图像质量，具有广泛的应用前景。
180.在一个可选的实施例中，所述衬底为柔性衬底，所述形成显示基板进一步包括：
181.在硬性衬底上形成柔性衬底；
182.在所述柔性衬底上形成驱动电路层；
183.在所述驱动电路层上形成发光器件层；
184.在所述发光器件层上形成封装层；
185.剥离所述硬性衬底；
186.在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层；
187.在所述封装层上形成偏光片。
188.在本实施例中，通过进一步描述显示基板的制作步骤说明的本技术的光调整保护层的形成位置。
189.在一个具体的实施例中，所述在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层进一步包括：
190.在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整部以调整所述外部环境光的偏振态，所述光调整部在所述柔性衬底上的正投影覆盖所述光学元件在所述柔性衬底上的正投影，所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
191.在所述光调整部远离所述柔性衬底的一侧形成保护层，所述保护层包括形成在所述光调整部远离所述柔性衬底一侧的压敏胶、以及形成在所述压敏胶远离所述光调整部的一侧的保护膜，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
192.在本实施例中，通过依次形成设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的光调整保护层的光调整部和保护层制作光调整保护层，即通过增加膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角的超复屈折膜或者聚酯薄膜的光调整部，消除入射光线的偏振态以消除外部环
境光入射光学元件后形成的干涉现象，从而消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹。具体实施方式参见前述实施例，在此不再赘述。
193.在一个具体的实施例中，所述在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层进一步包括：在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；
194.在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成聚酯薄膜，所述聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
195.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构；
196.在本实施例中，通过依次形成设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的压敏胶、以及膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角的聚酯薄膜，使用该聚酯薄膜消除入射光线的偏振态并复用为柔性衬底的保护膜层，换句话说，即使用膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角的聚酯薄膜替换现有柔性衬底的保护膜层，以消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，从而消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹。具体实施方式参见前述实施例，在此不再赘述。
197.在一个具体的实施例中，所述在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层进一步包括：在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；
198.在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成位相补偿基材，所述位相补偿基材的位相差小于等于50nm；
199.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构；
200.在本实施例中，通过依次形成设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的压敏胶、以及位相差小于等于50nm的位相补偿基材，利用该位相补偿基材一方面消除光线产生等厚干涉的路径膜层，另一方面用于保护柔性衬底，即使用位相补偿基材替换现有柔性衬底的保护膜层，消除入射光线产生等厚干涉的路径膜层以消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，从而消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹。具体实施方式参见前述实施例，在此不再赘述。
201.在一个具体的实施例中，所述在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层进一步包括：在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成掺杂有散射粒子的压敏胶，所述散射粒子用于改变所述外部环境光的振动方向；
202.在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成保护膜；
203.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
204.在本实施例中，通过依次形成设置在柔性衬底远离驱动电路层一侧的掺杂有散射粒子的压敏胶、以及保护膜，利用该掺杂有散射粒子的压敏胶一方面将入射光线打散并改变其的振动方向，另一方面用于粘接柔性衬底和保护膜，即通过复用压敏胶实现消除等厚干涉并粘接保护膜，消除入射光线产生等厚干涉的路径膜层以消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，从而消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹。同时，本实施例在现有生产工艺和生产步骤中，未增加其他工艺步骤，通过掺杂有散射粒子的压敏胶实现显示基板的轻薄化。具体实施方式参见前述实施例，在此不再赘述。
205.在一个具体的实施例中，所述在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成光调整保护层进一步包括：在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成压敏胶；
206.在所述压敏胶远离所述柔性衬底的一侧形成超复屈折膜，或者在所述压敏胶远离
所述柔性衬底的一侧形成位相差大于等于5000nm的聚酯薄膜；
207.所述光调整保护层的结构为背膜结构或u形膜结构。
208.在本实施例中，在所述柔性衬底远离驱动电路层的一侧形成高位相差基材，即超复屈折膜或者位相差大于等于5000nm的聚酯薄膜，该高位相差基材一方面消除偏振光的偏振态，另一方面用于保护柔性衬底，从而实现显示基板的轻薄化。
209.在一个具体的示例中，所述衬底为柔性衬底，所述光调整保护层包括光调整部和保护层，所述形成显示基板进一步包括：
210.在硬性衬底上形成柔性衬底；
211.在所述柔性衬底上形成驱动电路层；
212.在所述驱动电路层上形成发光器件层；
213.在所述发光器件层上形成封装层；
214.剥离所述硬性衬底；
215.在所述柔性衬底远离所述驱动电路层的一侧形成所述光调整保护层的保护层，所述保护层包括形成在所述柔性衬底远离所述驱动电路层一侧的压敏胶、以及形成在所述压敏胶远离所述柔性衬底一侧的保护膜，所述保护层的结构为背膜结构或u形膜结构；
216.在所述封装层上形成所述光调整保护层的光调整部以调整所述外部环境光的偏振态，所述光调整部在所述柔性衬底上的正投影覆盖所述光学元件在所述柔性衬底上的正投影，所述光调整部为超复屈折膜或者聚酯薄膜，所述超复屈折膜和聚酯薄膜的膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；
217.在所述光调整部上形成偏光片。
218.在本实施例中，通过依次形成设置在封装层远离柔性衬底一侧的光调整保护层的光调整部，以及形成在柔性衬底远离驱动电路层一侧的保护层制作光调整保护层的保护层，即通过在偏光片靠近封装层的一侧增加膜拉伸方向与所述偏光片的透过轴成第一夹角的超复屈折膜或者聚酯薄膜的光调整部，消除入射光线的偏振态以消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，从而消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹。具体实施方式参见前述实施例，在此不再赘述。
219.本实用新型针对目前现有的问题，制定一种显示装置和制作方法，并通过设置的光调整保护层，能够消除外部环境光入射光学元件后形成的干涉现象，以实现消除现有技术中光学元件采集的图像因干涉现象产生的摩尔纹，从而弥补了现有技术中存在的问题，有效提高光学元件采集的图像质量，具有广泛的应用前景。
220.显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本实用新型的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之列。