一种大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂机的制作方法

一种大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机
技术领域
1.本实用新型涉及光掩膜的技术领域，具体涉及一种大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机。


背景技术：

2.随着半导体集成电路的快速发展，掩模版在液晶显示行业及触控屏行业等领域中的地位越来越重要，而匀胶铬版作为掩膜版的基础材料，对半导体技术的发展具有十分重要的作用。
3.国内目前制造最大为10kg级的大型光掩膜基版使用的进口设备，匀胶均匀性性能为左右，20kg级的大型光掩膜基版为tp触控屏最大尺寸，目前完全依靠进口，本案开发的20kg级的大型光掩膜基版匀胶性能为即能达到tp光掩膜版的使用，也能满足tft-lcd光掩膜版等级的使用。
4.本案开发的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机可解决上述问题。


技术实现要素：

5.本项实用新型是针对现在的技术不足，提供一种大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机。
6.本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是：
7.一种大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机，包括机架、顶针组件、紧固圈、压块以及电磁力控制装置，所述顶针组件呈可活动地安装于所述机架上，所述电磁力控制装置安装于所述顶针组件的下方以用于将所述顶针组件朝所述机架的下方进行吸拉，所述压块位于所述电磁力控制装置的上方并开设有供所述顶针组件的顶针穿过用的安装孔，所述紧固圈安装于所述安装孔内以对位于该紧固圈上方的区域进行密封。
8.作进一步改进，所述大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机还包括用于将所述压块固定于所述机架上的紧固螺丝，所述压块开设有与所述紧固螺丝呈螺纹配合的紧固孔。
9.作进一步改进，所述紧固孔有两个，两个所述紧固孔以所述安装孔为中心呈中心对称地布置，所述紧固螺丝与所述紧固孔呈一一对应地布置。
10.作进一步改进，所述大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机还包括用于将所述压块相对所述机架进行一定角度调节的调节螺丝，所述压块开设有与所述调节螺丝呈螺纹配合的调节孔。
11.作进一步改进，所述调节孔有四个，四个所述调节孔以两个所述紧固孔间的连线为轴心呈左右对称地布置，所述调节螺丝与所述调节孔呈一一对应地布置。
12.作进一步改进，所述安装孔的孔径、所述紧固圈的内径以及所述顶针的直径呈由大至小地布置。
13.作进一步改进，所述紧固圈是o型氟橡胶圈。
14.作进一步改进，所述电磁力控制装置包括两个于水平方向上呈平行布置的24v通电磁铁。
15.作进一步改进，所述压块为一体式的航空铝合金块。
16.作进一步改进，所述压块上还设置有供所述紧固圈卡合固定的环形凹槽，所述环形凹槽与所述安装孔相连通。
17.本实用新型的有益效果：本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机，包括大型tft-lcd光掩膜基版用顶针机构，该机构包括机架、顶针组件、紧固圈、压块以及电磁力控制装置，顶针组件呈可活动地安装于机架上，电磁力控制装置安装于顶针组件的下方以用于将顶针组件朝机架的下方进行吸拉，压块位于电磁力控制装置的上方并开设有供顶针组件的顶针穿过用的安装孔，紧固圈安装于安装孔内以对位于该紧固圈上方的区域进行密封。故本实用新型通过以上结构，可以通过紧固圈对顶针进行紧固密封，可以防止相对运动的气流，防止对流现象，以达到涂胶的高均匀性；与此同时，本实用新型还通过电磁力控制装置克服了顶针组件下降力不足的问题，从而改善了以往设备中四个角落处的均匀性较差的现象。
18.下面结合附图与具体实施方式，对本实用新型进一步说明。
附图说明
19.图1为本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机的示意图；
20.图2为本实用新型的压块、紧固圈以及顶针相连接的局部放大图；
21.图3为本实用新型的压块的立体结构示意图；
22.图4为本实用新型的电磁力控制装置的结构示意图。
具体实施方式
23.以下所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不因此而限定本发明的保护范围。
24.请参考图1至图4，本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机100，包括如图1所示的大型tft-lcd光掩膜基版用顶针机构，该机构包括机架10、紧固圈20、压块30、电磁力控制装置40以及顶针组件200，电磁力控制装置50安装于顶针组件200的下方以用于将顶针组件200朝机架10的下方进行吸拉，压块30位于电磁力控制装置40的上方并开设有供顶针组件200的顶针穿过用的安装孔30a，紧固圈20安装于安装孔30a内以对位于该紧固圈20上方的区域进行密封。
25.请参考图2和图3，本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机100还包括用于将压块30固定于机架10上的紧固螺丝50，压块30开设有与紧固螺丝50呈螺纹配合的紧固孔30b。较优的是，紧固孔30b有两个，两个紧固孔30b以安装孔30a为中心呈中心对称地布置，紧固螺丝50与紧固孔30b呈一一对应地布置。因此在实际使用时，通过将紧固螺丝50旋拧进入紧固孔30b内以实现将压板呈可拆卸地固定于机架10上，且使得紧固圈20以适当的力度密封顶针轴。
26.请继续参考图2和图3，本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机100还包括用于将压块30相对机架10进行一定角度调节的调节螺丝60，压块30开设有与调节螺丝60呈螺纹配合的调节孔30c。较优的是，调节孔30c有四个，四个调节孔30c以两个紧固孔
30b间的连线为轴心呈左右对称地布置，调节螺丝60与调节孔30c呈一一对应地布置。因此在实际使用时，通过将调节螺丝60旋拧进入调节孔30c内以使得压板相对机架10进行旋转，即调节压块30和机架10二者的角度，使得顶针300和安装于压块30内的紧固圈20二者之间可以顺畅移动。
27.请参考图1至图4，安装孔30a的孔径、紧固圈20的内径以及顶针300的直径呈由大至小地布置；故可以确保通过紧固圈20对顶针轴实现一定程度的密封，使得在高速旋涂时，避免在相对运动所产生的气压改变会引起对流的现象。举例而言，紧固圈20是o型氟橡胶圈，耐化学性能较好，可避免因碰到光刻胶或稀释剂而变形；电磁力控制装置40包括两个于水平方向上呈平行布置的24v通电磁铁41，且单个通电磁铁41的磁吸力在10kg以上，因此当顶针300下降力不足的时候，可以通过该电磁力控制装置40将顶针300朝下方拉动；压块30为一体式的航空铝合金块，以免生锈产生杂质污染腔体；紧固螺丝50和调节螺丝60均为不锈钢螺丝，这些螺丝不会与压块30产生较大摩擦，避免产生粉尘污染腔体。
28.值得注意的是，压块30上还设置有供紧固圈20卡合固定的环形凹槽30d，环形凹槽30d与安装孔30a相连通，紧固圈20安装于该环形凹槽30d内。
29.本实用新型的有益效果：本实用新型的大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机100，包括大型tft-lcd光掩膜基版用顶针机构，该机构包括机架10、顶针组件200、紧固圈20、压块30以及电磁力控制装置40，顶针组件200呈可活动地安装于机架10上，电磁力控制装置40安装于顶针组件200的下方以用于将顶针组件200朝机架10的下方进行吸拉，压块30位于电磁力控制装置40的上方并开设有供顶针组件200的顶针穿过用的安装孔30a，紧固圈20安装于安装孔30a内以对位于该紧固圈20上方的区域进行密封。故本实用新型通过以上结构，可以通过紧固圈20对顶针300进行紧固密封，可以防止相对运动的气流，防止对流现象，以达到涂胶的高均匀性；与此同时，本实用新型还通过电磁力控制装置40克服了顶针组件200下降力不足的问题，从而改善了以往设备中四个角落处的均匀性较差的现象。
30.本实用新型并不限于上述实施方式，采用与本实用新型上述实施例相同或近似结构或装置，而得到的其他用于大型tft-lcd光掩膜基版用高精度旋涂机，均在本实用新型的保护范围之内。