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一种通气流量控制箱及气体通气系统的制作方法

2022-02-20 15:39:06 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型属于单晶硅生产技术领域,尤其是涉及一种通气流量控制箱及气体通气系统。


背景技术:

2.单晶硅作为新能源领域重要材料之一,是制作太阳能电池主要材料,但在太阳能电池使用过程中存在转换效率衰减情况,目前行业内普遍认为造成转换效率衰减的原因为当前使用b-si合金,在单晶硅片后道处理过程当中,造成b-0复合体,致使加快单晶转化效率衰减。
3.对此,提出掺镓单晶硅,由于镓代替了硼,避免造成b-0复合体,进而改善单晶硅转换效率在使用过程中快速衰减情况。但是由于掺镓单晶镓单质在硅中的分凝系数小,为满足客户对掺镓产品电阻率的需求,当期行业内均采取降低掺镓单晶拉棒长度的措施,减少降档品的产生。


技术实现要素:

4.鉴于上述问题,本实用新型提供一种通气流量控制箱及气体通气系统,以解决现有技术存在的以上或者其他前者问题。
5.为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种通气流量控制箱,包括具有进气孔和出气孔的安装装置、送气控制装置、压力控制装置、流量控制装置、排气控制装置和开关,其中,
6.送气控制装置设于安装装置的进气孔端,用于控制气体沿气路输送;
7.开关设于安装装置的出气孔端,用于控制气体输送时的气路的打开与关闭;
8.送气控制装置、压力控制装置、流量控制装置与开关沿着气体流动的方向依次连接,排气控制装置设于送气控制装置与压力控制装置的连接管道上,在进行气体输送时,排出气路内的杂质气体,并控制气体输送时的压力和流量。
9.进一步的,还包括压力检测装置,压力检测装置与压力控制装置连接,用于检测气路内气体的压力。
10.进一步的,安装装置为箱体,连接管道、送气控制装置、压力控制装置、流量控制装置、排气控制装置与开关均设于箱体内,送气控制装置通过穿过进气孔的连接管道与气源装置连接,开关通过穿过出气孔的连接管道与单晶炉连接,对单晶炉进行气体输送。
11.进一步的,排气控制装置为旁路阀。
12.进一步的,压力控制装置为减压阀。
13.进一步的,压力检测装置为压力表。
14.进一步的,送气控制装置为送气阀。
15.进一步的,开关为电磁阀。
16.进一步的,流量控制装置为质量流量计。
17.一种气体通气系统,包括气源装置和如上述的通气流量控制箱,通气流量控制箱分别与气源装置和单晶炉连接,为单晶炉供给气体。
18.由于采用上述技术方案,通气流量控制箱结构简单,通气过程方便,设有流量控制装置,能够对通入单晶炉内的掺杂气体的流量进行精确控制,通过掺杂气体流量的控制实现对单晶的掺杂量的控制,进而对单晶的轴向电阻率进行控制,保证单晶的品质,增加单晶的棒长;设有排气控制装置,能够对气体输送管路中的杂质气体进行排除,避免进入单晶炉内的气体含有杂质,保证单晶的品质;设有压力控制装置和压力检测装置,能够对连接管道内的气体的压力进行调节控制,使得连接管道内的气体的压力大于单晶炉内的压力,使得气体能够自动快速的流入单晶炉内,使得通气流量控制箱的结构简单,通气过程方便,通气方法简单,从而控制单晶的轴向电阻率。
附图说明
19.图1是本实用新型的一实施例的结构示意图。
20.图中:
21.1、送气控制装置
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2、排气控制装置
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3、压力控制装置
22.4、流量控制装置
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5、开关
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6、压力检测装置
23.7、箱体
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8、进气孔
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9、出气孔
具体实施方式
24.下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的说明。
25.图1示出了本实用新型一实施例的结构示意图,本实施例涉及一种通气流量控制箱及气体通气系统,用于单晶硅制备时使用,在单晶硅拉制的过程中,需要对单晶炉内通入掺杂气体进行掺杂,掺杂气体存储在气源装置中,气源装置通过连接管路与单晶炉连接,实现掺杂气体向单晶炉内输送,掺杂气体在输送过程中需要对其输送流量进行控制,从而控制掺杂气体进入单晶内的量,进而控制单晶轴向电阻率。该通气流量控制箱设置在气源装置与单晶炉连接的连接管路上,用于控制掺杂气体的输送的起始与关闭,同时,控制掺杂气体在输送过程中的流量,使得掺杂气体按照设定流量通入单晶炉内,使得掺杂气体的输入的流量可控,使得单晶的轴向电阻率可控。
26.一种通气流量控制箱,如图1所示,包括具有进气孔8和出气孔9的安装装置、送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4、排气控制装置2和开关5,其中,送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4与开关5沿着气体流动的方向依次连接,排气控制装置2设于送气控制装置1与压力控制装置3的连接管道上,在进行气体输送时,排出气路内的杂质气体,并控制气体输送时的压力和流量,气体在输送时,从气源装置内流出,依次通过送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4与开关5,进入单晶炉内,且在气体进入单晶炉之前,排气控制装置2动作,将气体流通的气路里的杂质气体排出,使得进入单晶炉内的气体为掺杂气体,不会对拉制单晶引入杂质。
27.其中,送气控制装置1设于安装装置的进气孔8端,用于控制气体沿气路输送,且便于送气控制装置1通过连接管道与气源装置连接,且连接管道的一端与送气控制装置1连接,另一端穿过安装装置的进气孔8并延伸至安装装置的外部,与气源装置连接;
28.开关5设于安装装置的出气孔9端,用于控制气体输送时的气路的打开与关闭,开关5通过连接管道与单晶炉连接,连接管道的一端与开关5连接,另一端穿过出气孔9并延伸至安装装置的外部,与单晶炉连接;
29.上述的送气控制装置1设于安装装置的进气孔8端,便于与气源装置连接的连接管道穿过进气孔8与送气控制装置1连接,用于控制气路内的气体输送,当送气控制装置1打开时,气体能够沿着气路流动,进入单晶炉内,使得气路为通路;当送气控制装置1关闭时,通气气路封闭,不能进行气体输送;其中,送气控制装置1为送气阀,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
30.上述的开关5设于安装装置的出气孔9端,便于单晶炉上的连接管道穿过出气孔9与开关5连接,或者,在开关5的出气端安装有连接管道,该连接管道穿过出气孔9并延伸至安装装置的外部,使得单晶炉通过连接管路与该连接管道连接,开关5用于控制连接管道在气体输送时的打开与关闭,开关5与送气控制装置1配合使用,控制气路是否进行气体输送,当开关5打开、送气控制装置1打开时,进行气体的输送,此时,气路为通路,气体从气源装置流出,沿着气路流动,流入单晶炉内;当开关5关闭、送气控制装置1打开时,此时气路与气源装置连通,气体只能从气源装置流出,流入气路,不能流入单晶炉内;当开关5打开、送气控制装置1关闭时,气路与单晶炉连通,气体不能流入气路,从而气体不能流入至单晶炉内;当开关5关闭、送气控制装置1关闭时,气源装置与单晶炉不连通,不能进行气体输送,气体不能流入单晶炉内。该开关5为电磁阀,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
31.由上述的内容可以知道,送气控制装置1与开关5控制气体输送气路的连通与闭合,所以,送气控制装置1与开关5分别位于安装装置的进气孔8端和出气孔9端,能够从两个方向控制气体输送过程中的安全,当气体输送过程中出现安全问题(如气体泄露等)时能够通过关闭送气控制装置1和/或开关5,关闭气体输送,进行设备安全检查。
32.上述的送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4与开关5沿着气体流动的方向依次设置,并依次连接,排气控制装置2设于送气控制装置1与压力控制装置3连接的管道上,并与该连接管道连通,在进行气体输送时,排出连接管道内的杂质气体,并控制气体输送时的压力和流量,使得气体在输送的过程中,不会将杂质气体携带进入单晶炉内,影响单晶的质量,同时,能够根据流量设定值准确控制气体输送过程中的压力和流量,使得输入单晶炉内的气体的量可控,进而使得单晶的轴向电阻率可控。
33.具体的,排气控制装置2设置在连接管道上,且排气控制装置2位于送气控制装置1的出气端侧,排气控制装置2的设置,为了将气路中的杂质气体排出,使得进入单晶炉内的气体均为掺杂气体,避免杂质气体进入单晶炉内。在进行杂质气体排气时,关闭开关5,打开送气控制装置1,气体从气源装置中流出,沿着气路流动,充满整个气路,并从排气控制装置2流出,使得气路中的杂质气体从排气控制装置2中流出,排出气路中的杂质气体,使得气路中的气体均为掺杂气体。该排气控制装置2为旁路阀,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
34.压力控制装置3通过连接管道与送气控制装置1连接,且位于送气控制装置1的出气端侧,位于排气控制装置2的远离送气控制装置1的一侧,压力控制装置3的设置,为了控制在气体输送时气路的压力,使得气路内的气体压力满足使用要求,同时,对气路内气体的
压力进行调节,使得气路内的气体压力大于单晶炉内的压力,进而使得气体能够快速的流入单晶炉内。该压力控制装置3为减压阀,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
35.流量控制装置4通过连接管道与开关5连接,位于开关5的进气端侧,对气路内的气体流量进行监测,根据流量控制装置4的监测结果控制气路内的气体的流量,使得气路内的气体的流量可控,能够精准控制气路内的气体流量,从而控制气体的流量输出,从而能够控制单晶的轴向电阻率。该流量控制装置4为质量流量计,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
36.其中,送气控制装置1通过连接管道与气源装置连接,开关5通过连接管道与单晶炉连接,送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4与开关5之间可以通过连接管道连接,或者是通过螺栓、螺纹管等连接件连接,或者是其他连接方式,根据实际需求进行选择,能够实现气体的输送,不会产生漏气,使得气体从气源存储装置流出后,沿着连接管道流动,流进单晶炉内,对直拉单晶进行掺杂。
37.进一步优化方案,该通气流量控制箱还包括压力检测装置6,压力检测装置6与压力控制装置3连接,用于显示气路内气体的压力,压力检测装置6对气路内的气体压力进行时时检测,并将检测结果显示出来,通过压力检测装置6对气路内的气体的压力的检测,为压力控制装置3对气路内的气体压力的调节提供基础,根据压力检测装置6检测到的气路内的气体的压力值,压力控制装置3对气路内的气体压力进行调节,能够时时对气路内的气体压力进行监测并调节。该压力检测装置6为压力表,为市售产品,根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。
38.进一步优化方案,为了对送气控制装置1、压力控制装置3、排气控制装置2、压力检测装置6、流量控制装置4和开关5进行保护,同时便于送气控制装置1、压力控制装置3、排气控制装置2、压力检测装置6、流量控制装置4和开关5的安装,上述的安装装置为箱体7,送气控制装置1、压力控制装置3、流量控制装置4、排气控制装置2与开关5均设于箱体7内,且箱体7具有进气孔8和出气孔9,使得箱体7与外界连通,以便于送气控制装置1通过连接管道与气源装置连接,开关5通过连接管道与单晶炉连接,对单晶炉进行供气。该箱体7具有内部空间,便于送气控制装置1、压力控制装置3、排气控制装置2、压力检测装置6、流量控制装置4和开关5的安装,且箱体7的一组相对设置的侧面上设置有进气孔8和出气孔9,便于连接管道穿过,便于连接管道分别与开关5和送气控制装置1连接。
39.在本实施例中,该箱体7优选为四方体结构,其材质为不锈钢,其尺寸根据实际需求进行选择,这里不做具体要求。箱体7具有箱体门,便于箱体7的打开与关闭。
40.一种气体通气系统,包括气源装置和如上述的通气流量控制箱,通气流量控制箱通过连接管路分别与气源装置和单晶炉连接,为单晶炉供给气体。该气源装置为存储掺杂气体的气瓶。
41.该通气流量控制箱在使用时,将连接管道的一端与气源装置连接,另一端穿过箱体7的进气孔8与送气控制装置1连接,将连接管道的一端与单晶炉连接,另一端穿过箱体7的出气孔9与开关5连接,使得气体流通的气路连通;气体从气源装置流出后沿着连接管道流动,送至送气控制装置1的进气端,将送气控制装置1调至“open”状态,开关5调至“close”状态,并将排气控制装置2调至“open”状态,排出气路内的空气,排出空气后,将排气控制装
置2调至“close”状态;调节压力控制装置3,对气路中的气体压力进行调节,使压力表指针在2-3kgf/c

;开启开关5,根据系统参数,设定气体通入的流量设定值,通过质量流量计控制气体流量输出,对单晶炉内进行掺杂气体的供给,并对气体的流量进行精准控制,从而控制单晶的轴向电阻率,增加棒长。
42.由于采用上述技术方案,通气流量控制箱结构简单,通气过程方便,设有流量控制装置,能够对通入单晶炉内的掺杂气体的流量进行精确控制,通过掺杂气体流量的控制实现对单晶的掺杂量的控制,进而对单晶的轴向电阻率进行控制,保证单晶的品质,增加单晶的棒长;设有排气控制装置,能够对气体输送管路中的杂质气体进行排除,避免进入单晶炉内的气体含有杂质,保证单晶的品质;设有压力控制装置和压力检测装置,能够对连接管道内的气体的压力进行调节控制,使得连接管道内的气体的压力大于单晶炉内的压力,使得气体能够自动快速的流入单晶炉内,使得通气流量控制箱的结构简单,通气过程方便,通气方法简单,从而控制单晶的轴向电阻率。
43.以上对本实用新型的实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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