技术特征：
1.一种气体清净装置，其特征在于，包含：一腔室，该腔室两侧分别设有一进气口及ㄧ出气口，该腔室在该进气口与该出气口之间依序设置有一反应腔室、一扩散片、至少一清净装置，其中，该反应腔室设置有一喷洒装置，该清净装置包括一多孔组件，该多孔组件用于引流一用于洗涤气体污染物质的流体于该清净装置表面；当含有污染物质的气体经由该进气口进入该反应腔室内时，该喷洒装置喷洒能与该污染物质相结合的物质与该污染物质相结合，以去除该气体中的污染物质，该气体再通过该扩散片均匀流向该清净装置，该气体剩余的污染物质再与该洗涤气体污染物质的流体相结合，使该气体内所含的剩余污染物质被过滤掉，使流出该出气口的气体洁净无异味。2.根据权利要求1所述的气体清净装置，其特征在于，该清净装置有多个，间隔设置于该扩散片及该出气口之间。3.根据权利要求1所述的气体清净装置，其特征在于，该清净装置包括一光触媒过滤单元。4.根据权利要求3所述的气体清净装置，其特征在于，该光触媒过滤单元为二氧化钛光触媒过滤单元或二氧化钛银离子光触媒过滤单元。5.根据权利要求1-3中任一项所述的气体清净装置，其中该清净装置的一侧还设置有一杀菌光源。6.根据权利要求5所述的气体清净装置，其特征在于，该杀菌光源为uvc或uva光源。7.根据权利要求1所述的气体清净装置，其特征在于，该反应腔室下方设有一排水口，能与该污染物质相结合的物质为臭氧或/及水雾。8.根据权利要求3所述的气体清净装置，其特征在于，该光触媒过滤单元包含交错设置的一第一凹凸部及一第二凹凸部。9.根据权利要求1所述的气体清净装置，其特征在于，该清净装置于其多孔组件的下方设置有一出水口。10.根据权利要求1所述的气体清净装置，其特征在于，该清净装置与该出气口之间还进一步设有一除湿装置，该除湿装置包含有一用以除去该气体所含水气的多孔组件。
技术总结
本申请提供一种气体清净装置，其是包含腔室，腔室两侧分别设有进气口及出气口，进气口与出气口之间依序设置反应腔室、扩散片、清净装置，反应腔室设置喷洒装置，清净装置包括多孔组件，多孔组件用于引流用于洗涤气体污染物质的流体于清净装置表面，当含污染物质的气体经由进气口进入反应腔室内时，喷洒装置喷洒能与污染物质相结合的物质与污染物质相结合，去除气体中的污染物质，气体再通过扩散片均匀流向清净装置，气体剩余的污染物质再与洗涤气体污染物质的流体结合，使气体内所含的剩余污染物质被过滤掉，使流出出气口的气体洁净无异味。味。味。
技术研发人员：蔡纶
受保护的技术使用者：尚闳科技股份有限公司
技术研发日：2020.07.13
技术公布日：2022/1/14
再多了解一些
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