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一种黑体标靶固定基板的制作方法

2022-02-20 10:47:56 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及一种测量仪器的调节机构,特别涉及一种黑体标靶固定基板。


背景技术:

2.现有的红外传感器基板结构,为不能旋转的固定式结构,其底层的固定支架固定在台面上后,若要多角度调整入射辐射温度,需要整体调整基板结构,其费时、费力,不能满足现有设备需求。


技术实现要素:

3.为了解决上述技术问题,本实用新型为一种黑体标靶固定基板,其技术方案为:
4.包括底座,其固定在台面上;所述底座包括底层固定支架、轴承和旋转支架,该底层固定支架的上表面安装轴承,轴承上表面固定旋转支架,所述底层固定支架与旋转支架平行;在旋转支架上表面通过基板固定支架固定黑体基板,所述黑体基板垂直于旋转支架,所述黑体基板表面安装红外传感器。
5.进一步地,所述底层固定支架、轴承和旋转支架一体成型。
6.进一步地,所述基板固定支架由两个三角板和一个长方形板制成,在长方形板的一侧固定黑体基板,另一侧设有两个三角板,三角板的直角边分别与旋转支架和长方形板固定连接。
7.进一步地,所述旋转支架和轴承均为圆环形。
8.进一步地,所述黑体基板随旋转支架转动而转动。
9.本实用新型的有益效果为:本实用新型为一种黑体标靶固定基板,该黑体基板结构是用来安装被检红外传感器的基板结构,底部安装在固定的台面上时,旋转支架带动黑体基板可以进行360
°
旋转,对不同角度的入射辐射温度都能进行调整,当安装于三维平台时,实现三个方向位置及水平角度的调整,便于推广应用。
附图说明
10.图1为本实用新型结构示意图;
11.图2为本实用新型侧视图;
12.图3为本实用新型俯视图;
13.如图所示,1黑体基板,2基板固定支架,3轴承,4旋转支架,5底层固定支架。
具体实施方式
14.如图所示,本实用新型为一种黑体标靶固定基板,包括底座,底座由底层固定支架、轴承和旋转支架一体成型,底层固定支架5固定在台面上;该底层固定支架的上表面安装轴承3,轴承上表面固定旋转支架4,该旋转支架和轴承均为圆环形。
15.在旋转支架上表面中间位置垂直固定黑体基板1,黑体基板与旋转支架之间通过
基板固定支架2固定,所述基板固定支架由两个三角板和一个长方形板制成,黑体基板与长方形板平行,安装在长方形板一侧,并通过螺栓和匹配螺母固定连接,长方形板的另一个固定两个三角板,该三角板的两个直角边分别通过焊接固定在旋转支架和长方形板上。所述黑体基板正反两个表面均安装红外传感器。在轴承的作用下,黑体基板随旋转支架转动而转动。
16.本实用新型为红外传感器校准特别设计的支架结构体,该结构为专用支架,配合专用的光学移动平台使用,为适应以环形摆放的标准黑体辐射源而做的支架,通过水平旋转可以将红外传感器对准不同温度范围的标准黑体辐射源来实现高低温不同温度的校准工作,支架结构体与光学移动平台组装后就形成一体的工装,放置于以环形摆放的标准黑体辐射源平台中央后成为整套的测试平台,测试时只需要更换被检红外传感器不用在调整相应黑体或平台节省大量安装调试工作。
17.以上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。


技术特征:
1.一种黑体标靶固定基板,包括底座,其固定在台面上,其特征在于,所述底座包括底层固定支架、轴承和旋转支架,该底层固定支架的上表面安装轴承,轴承上表面固定旋转支架,所述底层固定支架与旋转支架平行;在旋转支架上表面通过基板固定支架固定黑体基板,所述黑体基板垂直于旋转支架,所述黑体基板表面安装红外传感器。2.如权利要求1所述的一种黑体标靶固定基板,其特征在于,所述底层固定支架、轴承和旋转支架一体成型。3.如权利要求2所述的一种黑体标靶固定基板,其特征在于,所述基板固定支架由两个三角板和一个长方形板制成,在长方形板的一侧固定黑体基板,另一侧设有两个三角板,三角板的直角边分别与旋转支架和长方形板固定连接。4.如权利要求1所述的一种黑体标靶固定基板,其特征在于,所述旋转支架和轴承均为圆环形。5.如权利要求1所述的一种黑体标靶固定基板,其特征在于,所述黑体基板随旋转支架转动而转动。

技术总结
本实用新型为一种黑体标靶固定基板,包括底座,其固定在台面上,所述底座包括底层固定支架、轴承和旋转支架,该底层固定支架的上表面安装轴承,轴承上表面固定旋转支架,所述底层固定支架与旋转支架平行;在旋转支架上表面通过基板固定支架固定黑体基板,所述黑体基板垂直于旋转支架,所述黑体基板表面安装红外传感器。该黑体基板结构是用来安装被检红外传感器的基板结构,底部安装在固定的台面上时,旋转支架带动黑体基板可以进行360


技术研发人员:宋广亮 张利娜 秦大斌 高伟
受保护的技术使用者:泰安德美机电设备有限公司
技术研发日:2021.08.20
技术公布日:2022/1/11
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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