掩模组件、掩模以及制造显示面板的方法与流程

掩模组件、掩模以及制造显示面板的方法
1.本技术要求于2020年7月7日提交的第10-2020-0083478号韩国专利申请的优先权和所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
技术领域
2.公开涉及一种掩模组件、使用该掩模组件制造的掩模以及使用该掩模制造显示面板的方法。更具体地，公开涉及一种具有改善的工艺产率和可靠性的掩模、用于制造该掩模的掩模组件以及使用该掩模制造显示面板的方法。


背景技术：

3.显示面板通常包括多个像素。像素中的每个可以包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。显示元件可以通过在基底上堆叠电极和发光图案来形成。
4.发光图案可以使用通过其限定有孔的掩模来图案化，因此，发光图案形成在通过孔暴露的预定的区域中。发光图案可以具有由孔的形状确定的形状。近年来，正在开发用于大面积的掩模的制造设备和制造方法的技术，以增加包括发光图案的显示面板的生产产率。


技术实现要素：

5.公开提供了一种用于制造大型显示面板的大面积的掩模且具有改善的可靠性和质量的掩模组件。
6.公开提供了一种使用掩模组件制造的掩模。
7.公开提供了一种使用掩模制造显示面板的方法。
8.发明的实施例提供了一种掩模组件，该掩模组件包括：掩模框架，通过掩模框架限定有多个单元开口；以及多个单元掩模，设置为分别与多个单元开口对应。在这样的实施例中，多个单元掩模中的每个包括：掩模主体，与由第一方向和与第一方向交叉的第二方向限定的平面基本上平行，其中，多个孔通过掩模主体限定；结合部，沿着掩模主体的边缘设置；以及拉伸部，从结合部延伸且设置为与掩模主体分隔开。在这样的实施例中，拉伸部包括：第一拉伸部，在第一方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处；以及第二拉伸部，在第二方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处。
9.在实施例中，第一拉伸部可以包括设置在掩模主体的在第一方向上彼此面对的相对侧处的第一侧拉伸部和第二侧拉伸部，并且第二拉伸部可以包括设置在掩模主体的在第二方向上彼此面对的相对侧处的第三侧拉伸部和第四侧拉伸部。
10.在实施例中，拉伸部可以包括：多个凸出部，向远离掩模主体的方向突出；以及凹入部，限定在多个凸出部之间且朝向掩模主体凹入。
11.在实施例中，多个单元掩模中的每个可以包括限定在第一拉伸部与第二拉伸部之间且朝向掩模主体凹陷的凹陷部。
12.在实施例中，多个单元掩模中的每个可以包括将第一拉伸部连接到第二拉伸部的
圆角部。
13.在实施例中，掩模框架的多个单元开口可以包括：第一单元开口；以及第二单元开口，当在平面中观看时，第二单元开口具有与第一单元开口的尺寸不同的尺寸。
14.在实施例中，多个单元掩模可以包括：第一单元掩模，具有在平面中与第一单元开口对应的区域；以及第二单元掩模，具有在平面中与第二单元开口对应的区域。
15.在实施例中，结合部的至少一部分可以具有比掩模主体的厚度和拉伸部的厚度小的厚度。
16.在实施例中，结合部可以包括具有比掩模主体的厚度和拉伸部的厚度小的厚度的多个半蚀刻图案。
17.在实施例中，多个单元掩模中的每个可以包括：多个单元区域，均通过多个单元区域限定有多个孔；以及延伸区域，限定在多个单元区域之间。
18.在实施例中，掩模框架可以包括沿着多个单元开口的边缘限定的结合区域。
19.在实施例中，多个单元开口可以在选自于第一方向和第二方向中的至少一个方向上布置为彼此分隔开。
20.在实施例中，掩模框架可以包括限定在多个单元开口之间的支撑区域。
21.发明的实施例提供了一种掩模，该掩模包括：掩模框架，通过掩模框架限定有多个单元开口；以及多个单体掩模，结合到掩模框架以分别与多个单元开口对应。在这样的实施例中，多个单体掩模中的每个包括：掩模主体，包括在第一方向上彼此面对且在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第一侧和第二侧以及在第二方向上彼此面对且在第一方向上延伸的第三侧和第四侧，其中，多个孔通过掩模主体限定；以及结合部，沿着掩模主体的边缘限定。在这样的实施例中，多个单体掩模中的每个的掩模主体在第一方向上接收第一张力且在第二方向上接收第二张力。
22.在实施例中，结合部可以包括：第一结合部，设置为与第一侧相邻；第二结合部，设置为与第二侧相邻；第三结合部，设置为与第三侧相邻；以及第四结合部，设置为与第四侧相邻，并且第一结合部、第二结合部、第三结合部和第四结合部中的每个可以结合到掩模框架。
23.在实施例中，第一结合部、第二结合部、第三结合部和第四结合部中的每个可以包括金属氧化物。
24.发明的实施例提供了一种制造显示面板的方法，该方法包括以下步骤：准备目标基底；形成通过其限定有多个孔的掩模以将掩模放置在目标基底下面；形成与多个孔对应的多个图案；以及去除掩模。在这样的实施例中，形成掩模的步骤包括：准备通过其限定有多个单元开口的掩模框架；以及使单元掩模结合以分别与多个单元开口对应。在这样的实施例中，单元掩模中的每个包括：掩模主体，与由第一方向和与第一方向交叉的第二方向限定的平面基本上平行，其中，多个孔通过掩模主体限定；结合部，沿着掩模主体的边缘设置；以及拉伸部，从结合部延伸且设置为与掩模主体分隔开。在这样的实施例中，拉伸部包括：第一拉伸部，在第一方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处；以及第二拉伸部，在第二方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处。
25.在实施例中，使单元掩模结合的步骤可以包括：设置分别与多个单元开口对应的单元掩模；将激光束照射到单元掩模中的每个的结合部，以将掩模框架结合到单元掩模；以
及去除拉伸部。
26.在实施例中，使单元掩模结合的步骤还可以包括在设置单元掩模之前拉张单元掩模以与多个单元开口对应。
27.在实施例中，掩模框架可以包括沿着多个单元开口中的每个的边缘限定的结合区域，并且可以在掩模框架和单元掩模的结合中在结合部与结合区域之间照射激光束。
28.在实施例中，多个单元开口可以包括：第一单元开口；以及第二单元开口，在平面中具有与第一单元开口的尺寸不同的尺寸，并且单元掩模可以包括：第一单元掩模，结合为与第一单元开口对应；以及第二单元掩模，结合为与第二单元开口对应。
29.在实施例中，图案可以是包括发光材料的发光图案。
30.根据实施例，由于在使用单元掩模制造大面积的掩模的同时在两个方向上拉张单元掩模，因此可以有效地防止由单元掩模的收缩引起的掩模的可靠性和质量的劣化。因此，可以使用掩模组件制造具有改善的显示质量的大型显示面板。
附图说明
31.当结合附图考虑时，通过参照下面的具体实施方式，公开的以上和其它特征将容易变得清楚，在附图中：
32.图1和图2是示出了根据公开的实施例的由掩模组件制造的掩模的透视图；
33.图3是示出了根据公开的实施例的掩模组件的透视图；
34.图4是示出了根据公开的示例性实施例的单元掩模的平面图；
35.图5是示出了根据公开的实施例的单元掩模的一部分的剖视图；
36.图6至图9是示出了单元掩模的各种实施例的平面图；
37.图10是示出了根据公开的可选实施例的掩模组件的透视图；
38.图11a是示出了根据公开的实施例的制造掩模的方法的工艺的平面图；
39.图11b至图11d是示出了根据公开的实施例的制造掩模的方法的一些工艺的剖视图；
40.图12是示出了根据公开的实施例的沉积设备的剖视图；
41.图13a至图13c是示出了根据公开的实施例的制造显示面板的方法的透视图；以及
42.图14是示出了根据公开的实施例的显示面板的剖视图。
具体实施方式
43.在下文中，现在将参照附图更充分地描述发明，在附图中示出了各种实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于在此所阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是透彻的和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达发明的范围。
44.在公开中，将理解的是，当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，所述元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到或直接结合到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。
45.同样的标记始终指同样的元件。在附图中，为了技术内容的有效描述，夸大了组件的厚度、比例和尺寸。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的
任何组合和所有组合。
46.将理解的是，虽然在此可以使用术语第一、第二等来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被命名为第二元件。
47.在此所使用的术语仅用于描述具体实施例的目的，并不旨在限制。如在此所使用的，除非上下文另外明确地说明，否则“一”、“一个(种/者)”、“该(所述)”和“至少一个(种/者)”不表示数量的限制，并且旨在包括单数和复数两者。例如，除非上下文另外明确地说明，否则“元件”具有与“至少一个(种/者)元件”相同的含义。“至少一个(种/者)”不被解释为限制“一”或“一个(种/者)”。“或”意指“和/或”。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”、“包含”和/或其变型时，说明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但是不排除存在或添加一个或更多个其它特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
48.为了易于描述，在此可以使用诸如“在
……
之下”、“在
……
下方”、“下”、“在
……
上方”、“上”等的空间相对术语来描述如附图中所示的一个元件或特征与另一(其它)元件或特征的关系。
49.如在此所使用的“约(大约)”或“近似”包括所陈述的值，并且意指如由本领域普通技术人员考虑所讨论的测量和与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的局限性)所确定的具体值的偏差的可接受的范围内。例如，“约(大约)”可以意指在一个或更多个标准偏差内，或者在所陈述的值的
±
30％、
±
20％、
±
10％或
±
5％内。
50.除非另外限定，否则在此所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。还将理解的是，术语(诸如在通用词典中定义的术语)应被解释为具有与它们在相关领域的上下文和本公开中的含义一致的含义，并且将不以理想化或过于正式的意思来进行解释，除非在此明确地如此定义。
51.在此，参照作为理想化的实施例的示意图的剖视图示来描述实施例。如此，将预期例如由制造技术和/或公差导致的图示形状的变化。因此，在此所描述的实施例不应被解释为限于如在此所示的区域的具体形状，而是将包括由例如制造导致的形状上的偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙和/或非线性特征。另外，示出的锐角可以是圆形的。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，并且所述区域的形状不旨在示出区域的精确形状，也不旨在限制本权利要求的范围。
52.在下文中，将参照附图详细描述掩模和掩模组件的实施例。
53.图1和图2是示出了根据公开的实施例的由掩模组件制造的掩模mk的透视图。为了便于说明和描述，图2示出了与掩模框架mf分开的一个单体掩模(unit mask)cmk-a。
54.参照图1和图2，掩模mk的实施例可以用于显示装置的制造工艺。在这样的实施例中，掩模mk可以用于在显示装置的沉积基底上沉积发光元件的发光图案的工艺。
55.掩模mk可以具有长方体形状。在一个实施例中，例如，掩模mk可以包括在第一方向dr1上延伸的两条长边和在第二方向dr2上延伸的两条短边。第二方向dr2指示与第一方向dr1交叉的方向。
56.掩模mk可以是在第三方向dr3上具有薄厚度的板。第三方向dr3可以指示与由第一
方向dr1和第二方向dr2限定的平面基本上垂直地交叉的方向。在下文中，在公开中，表述“当在平面中观看时”可以意指在第三方向dr3上观看的状态。
57.掩模mk可以包括掩模框架mf和多个单体掩模cmk-a。掩模框架mf和单体掩模cmk-a可以包括诸如不锈钢(“sus”)、因瓦合金、镍(ni)或钴(co)的金属材料。在一个实施例中，例如，掩模框架mf和单体掩模cmk-a可以包括因瓦合金。然而，用于掩模框架mf和单体掩模cmk-a的材料不限于此或由此限制。在一个可选实施例中，例如，掩模框架mf和单体掩模cmk-a可以包括聚酰亚胺类材料以减轻构件的重量。
58.掩模框架mf可以具有由在第一方向dr1上延伸的长边和在第二方向dr2上延伸的短边限定的四边形形状。多个单元开口cop可以通过掩模框架mf限定。单元开口cop可以在第一方向dr1和第二方向dr2中的至少一个上布置。单元开口cop可以沿着第一方向dr1和第二方向dr2以矩阵形式布置。
59.当在平面中观看时，单元开口cop中的每个可以具有四边形形状。在一个实施例中，例如，每个单元开口cop可以由两条长边和两条短边限定，所述两条长边在第一方向dr1上彼此分隔开且在第二方向dr2上延伸，所述两条短边在第二方向dr2上彼此分隔开且在第一方向dr1上延伸。单元开口cop可以在第三方向dr3上通过掩模框架mf限定。
60.图1和图2示出了十五个单元开口cop限定在掩模框架mf中的实施例，然而，这仅仅是示例性的。可选地，单元开口cop的数量可以多于或少于十五个。在这样的实施例中，每个单元开口cop的形状可以被不同地修改以与下面描述的单体掩模cmk-a的形状对应。
61.支撑区域sp(参照图3)可以设置在通过掩模框架mf限定的单元开口cop之间。掩模mk可以具有由分别设置在单元开口cop中的单体掩模cmk-a和设置在单元开口cop之间且连接单元开口cop的支撑区域sp限定的一体的板形状。
62.当在平面中观看时，单体掩模cmk-a可以分别与单元开口cop叠置。当在平面中观看时，单体掩模cmk-a中的每个可以具有四边形形状。
63.单体掩模cmk-a中的每个可以包括掩模主体mp和结合部bp'。在实施例中，多个孔h通过掩模主体mp限定。孔h可以在第三方向dr3上通过单体掩模cmk-a限定。结合部bp'可以在第一方向dr1和第二方向dr2上从掩模主体mp延伸。当在平面中观看时，结合部bp'可以具有四边形环形形状，并且可以沿着掩模主体mp的边缘设置。结合部bp'可以包括第一结合部bp1'、第二结合部bp2'、第三结合部bp3'和第四结合部bp4'。
64.单体掩模cmk-a可以设置在掩模框架mf上。在实施例中，单体掩模cmk-a中的每个可以设置在单元开口cop之中的对应的单元开口cop中。在这样的实施例中，第n单体掩模cmk-a可以设置在第n单元开口cop中。
65.当在平面中观看时，单体掩模cmk-a的掩模主体mp可以具有与单元开口cop的尺寸相同的尺寸。单体掩模cmk-a的结合部bp'可以设置在掩模框架mf的边缘部lp上。边缘部lp可以与掩模框架mf的在单元开口cop中的每个周围的一部分对应。边缘部lp可以在平面中具有四边形环形形状。
66.单体掩模cmk-a可以固定到掩模框架mf。在实施例中，单体掩模cmk-a的结合部bp'可以固定到对应的边缘部lp。在一个实施例中，例如，可以在边缘部lp的第一部分p1、第二部分p2、第三部分p3和第四部分p4与结合部bp'的对应于第一部分p1、第二部分p2、第三部分p3和第四部分p4的部分之间执行焊接工艺。在实施例中，边缘部lp可以是通过焊接工艺
结合到对应的结合部bp'的一部分。在这样的实施例中，用于将结合部bp'结合到掩模框架mf的结合图案可以形成在结合部bp'上。用于将第一结合部bp1'、第二结合部bp2'、第三结合部bp3'和第四结合部bp4'结合到掩模框架mf的结合图案可以形成在第一结合部bp1'、第二结合部bp2'、第三结合部bp3'和第四结合部bp4'中的每个上。结合图案可以具有沿着单体掩模cmk-a的掩模主体mp的边缘以实线的形式延伸的四边形环形形状。可选地，结合图案可以在第一结合部bp1'、第二结合部bp2'、第三结合部bp3'和第四结合部bp4'中的每个中设置为多个，结合图案可以以规则的间隔彼此分隔开以具有沿着掩模主体mp的边缘以虚线的形式延伸的四边形环形形状。稍后将详细描述掩模框架mf与单体掩模cmk-a之间的结合。
67.图3是示出了根据公开的实施例的掩模组件mka的透视图。图4是示出了根据公开的实施例的单元掩模(cell mask)cmk的平面图。图5是示出了根据公开的实施例的单元掩模cmk的一部分的剖视图。图5示出了沿着图4中所示的线i-i'截取的剖面。
68.参照图1至图3，掩模组件mka的实施例可以包括掩模框架mf和设置在通过掩模框架mf限定的多个单元开口cop中的多个单元掩模cmk。为了便于说明和描述，图3示出了与通过掩模框架mf限定的单元开口cop之中的一个单元开口cop对应的一个单元掩模cmk，但不限于此。可选地，掩模组件mka可以包括分别与通过掩模框架mf限定的单元开口cop之中的一个单元开口cop对应的多个单元掩模cmk。在图1中所示的掩模mk的实施例中，单体掩模cmk-a可以通过将单元掩模cmk分别结合到对应的单元开口cop且去除单元掩模cmk的一部分来形成，这将在稍后更详细地描述。
69.参照图3和图4，包括在掩模组件mka中的单元掩模cmk中的每个可以包括掩模主体mp、结合部bp以及拉伸部ttp1和ttp2。
70.掩模主体mp可以具有与由第一方向dr1和第二方向dr2限定的平面基本上平行的板形状。掩模主体mp可以具有与由第一方向dr1和第二方向dr2限定的平面基本上平行的矩形形状。掩模主体mp可以包括两条长边和两条短边，所述两条长边在第一方向dr1上彼此分隔开且在第二方向dr2上延伸，所述两条短边在第二方向dr2上彼此分隔开且在第一方向dr1上延伸。掩模主体mp可以包括第一侧mp-s1和第二侧mp-s2以及第三侧mp-s3和第四侧mp-s4，第一侧mp-s1和第二侧mp-s2在第一方向dr1上彼此分隔开且在第二方向dr2上延伸，第三侧mp-s3和第四侧mp-s4在第二方向dr2上彼此分隔开且在第一方向dr1上延伸。掩模主体mp可以具有与通过掩模框架mf限定的单元开口cop中的一个的形状对应的形状。掩模主体mp可以设置有通过其限定的孔h。孔h可以在第三方向dr3上通过单元掩模cmk限定。
71.结合部bp可以设置为围绕掩模主体mp的边缘。结合部bp可以具有在第一方向dr1和第二方向dr2上延伸的四边形环形形状。结合部bp可以具有与限定在掩模框架mf中的边缘部lp对应的形状。在实施例中，如图4中所示，结合部bp可以包括设置为与第一侧mp-s1相邻的第一结合部bp1、设置为与第二侧mp-s2相邻的第二结合部bp2、设置为与第三侧mp-s3相邻的第三结合部bp3以及设置为与第四侧mp-s4相邻的第四结合部bp4。
72.拉伸部ttp1和ttp2可以从结合部bp延伸，并且可以与掩模主体mp分隔开且结合部bp置于拉伸部ttp1和ttp2与掩模主体mp之间。拉伸部ttp1和ttp2可以包括分别与具有矩形形状的掩模主体mp的四条边对应的四个拉伸部。拉伸部ttp1和ttp2可以包括第一拉伸部ttp1和第二拉伸部ttp2，第一拉伸部ttp1设置为与掩模主体mp的在第一方向dr1上彼此分隔开且在第二方向dr2上延伸的长边对应，第二拉伸部ttp2设置为与掩模主体mp的在第二
方向dr2上彼此分隔开且在第一方向dr1上延伸的短边对应。第一拉伸部ttp1可以包括设置为与掩模主体mp的在第一方向dr1上彼此面对的长边对应的第一侧拉伸部tp1和第二侧拉伸部tp2，第二拉伸部ttp2可以包括设置为与掩模主体mp的在第二方向dr2上彼此面对的短边对应的第三侧拉伸部tp3和第四侧拉伸部tp4。第一侧拉伸部tp1、第二侧拉伸部tp2、第三侧拉伸部tp3和第四侧拉伸部tp4可以设置为分别与掩模主体mp的四条边对应，并且可以在远离掩模主体mp的方向上延伸。
73.参照图4和图5，单元掩模cmk的结合部bp的至少一部分可以具有与掩模主体mp的厚度以及拉伸部ttp1和ttp2的厚度不同的厚度。在实施例中，掩模主体mp以及拉伸部ttp1和ttp2可以具有第一厚度d1，第二结合部bp2可以具有比第一厚度d1小的第二厚度d2。图5仅示出了第二结合部bp2在剖面中的第二厚度d2，第一结合部bp1、第三结合部bp3和第四结合部bp4在剖面中可以具有与第二结合部bp2的厚度相同的厚度。在此，表述“厚度基本上相同”不仅意指组件的厚度彼此相同的情况，而且意指组件的厚度在包括尽管相同设计但由于制造误差会发生的差异的范围内彼此相同的情况。在下文中，结合部bp的厚度将被描述为第二厚度d2。掩模主体mp的第一厚度d1可以等于或大于约1微米且等于或小于约100微米。结合部bp的第二厚度d2可以与第一厚度d1的约40％或更大且约60％或更小对应。根据实施例，结合部bp的至少一部分可以具有通过半蚀刻工艺减小约一半的厚度。根据实施例，当对掩模主体mp执行蚀刻工艺以形成孔h时，可以半蚀刻结合部bp的至少一部分。根据实施例，结合部bp可以被完全地蚀刻以允许结合部bp的整个部分具有等于或大于掩模主体mp的第一厚度d1的约40％且等于或小于掩模主体mp的第一厚度d1的约60％的厚度。在可选实施例中，多个半蚀刻图案可以限定在结合部bp上以彼此分隔开，半蚀刻图案中的每个可以具有等于或大于掩模主体mp的第一厚度d1的约40％且等于或小于掩模主体mp的第一厚度d1的约60％的厚度。在这样的实施例中，由于结合部bp的厚度比掩模主体mp的厚度以及拉伸部ttp1和ttp2的厚度小，因此可以在使单元掩模cmk结合的工艺和去除拉伸部ttp1和ttp2的工艺中减少用于工艺的成本和时间。
74.掩模组件的实施例包括分别与单元开口对应的单元掩模，单元掩模中的每个包括设置为分别与掩模主体的四条边对应的拉伸部。如果使用包括设置有仅设置在其两条边上的拉伸部的单元掩模的掩模组件制造大面积的掩模，则在其中未设置拉伸部的其它边上发生收缩，结果，使掩模的可靠性和质量劣化。根据发明的实施例，掩模组件可以包括单元掩模，并且可以制造应用于制造大型显示面板的大面积的掩模。在这样的实施例中，由于拉伸部设置为与单元掩模的掩模主体的四条边对应，因此在拉张单元掩模的工艺中可以有效地防止掩模主体的四条边的收缩。因此，可以有效地防止掩模的可靠性和质量的劣化，因此，可以制造具有改善的显示质量的大型显示面板。
75.图6至图9是示出了单元掩模cmk-1、cmk-2、cmk-3和cmk-4的各种实施例的平面图。在这样的实施例中，选自于图6至图9中所示的单元掩模cmk-1、cmk-2、cmk-3和cmk-4中的每个的掩模主体mp、结合部bp以及拉伸部ttp1和ttp2中的至少一个具有与图4中所示的单元掩模cmk的形状不同的形状。在图6至图9中，相同的附图标记表示图1至图5中的相同的元件，因此，将省略相同的元件的任何重复的详细描述。
76.参照图6，单元掩模cmk-1的实施例可以包括凸出部和凹入部，所述凸出部和所述凹入部限定在分别设置在掩模主体mp的四条边上的拉伸部tp1'、tp2'、tp3'和tp4'中的每
个中。在这样的实施例中，第一侧拉伸部tp1'可以包括向远离掩模主体mp的方向突出的凸出部pp1-1、pp1-2和pp1-3以及限定在凸出部pp1-1、pp1-2和pp1-3之间且朝向掩模主体mp凹入的凹入部cp1-1和cp1-2。第二侧拉伸部tp2'可以包括向远离掩模主体mp的方向突出的凸出部pp2-1、pp2-2和pp2-3以及限定在凸出部pp2-1、pp2-2和pp2-3之间且朝向掩模主体mp凹入的凹入部cp2-1和cp2-2。第三侧拉伸部tp3'可以包括向远离掩模主体mp的方向突出的凸出部pp3-1和pp3-2以及限定在凸出部pp3-1和pp3-2之间且朝向掩模主体mp凹入的凹入部cp3-1。第四侧拉伸部tp4'可以包括向远离掩模主体mp的方向突出的凸出部pp4-1和pp4-2以及限定在凸出部pp4-1和pp4-2之间且朝向掩模主体mp凹入的凹入部cp4-1。分别设置在拉伸部tp1'、tp2'、tp3'和tp4'上的凸出部可以与在拉张单元掩模cmk-1的工艺中由包括在掩模制造设备中的夹具保持(或抓持)的部分对应。在这样的实施例中，包括在掩模制造设备中的夹具可以保持(或抓持)分别设置在拉伸部tp1'、tp2'、tp3'和tp4'上的凸出部，然后可以在拉张单元掩模cmk-1的工艺中拉张单元掩模cmk-1。在图6中所示的实施例中，第一侧拉伸部tp1'和第二侧拉伸部tp2'中的每个可以包括三个凸出部和两个凹入部，第三侧拉伸部tp3'和第四侧拉伸部tp4'中的每个可以包括两个凸出部和一个凹入部。然而，公开不限于此或由此限制，凸出部的数量和凹入部的数量可以根据掩模主体mp在平面中的面积和夹具的数量进行不同地修改。在如图6中所示的实施例中，凹入部具有半圆形形状，凸出部具有与凹入部对应的形状，然而，凸出部和凹入部可以具有各种形状而没有特别地限制。
77.参照图7，单元掩模cmk-2的可选实施例可以包括限定在第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2之间的凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4。凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4可以限定在第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2之间，并且可以具有凹陷到掩模主体mp的形状。凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4可以包括限定在第一侧拉伸部tp1与第三侧拉伸部tp3之间的第一凹陷部gp1、限定在第二侧拉伸部tp2与第三侧拉伸部tp3之间的第二凹陷部gp2、限定在第一侧拉伸部tp1与第四侧拉伸部tp4之间的第三凹陷部gp3以及限定在第二侧拉伸部tp2与第四侧拉伸部tp4之间的第四凹陷部gp4。在实施例中，可以省略第一凹陷部gp1至第四凹陷部gp4中的至少一个。在图7中，凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4中的每个具有圆形形状，但不限于此或由此限制。凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4中的每个可以具有各种形状。
78.参照图8，单元掩模cmk-3的另一可选实施例可以包括限定在第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2相交在其处的拐角处的圆角部rp1、rp2、rp3和rp4。由于圆角部rp1、rp2、rp3和rp4，第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2相交在其处的拐角可以是圆形的，圆角部rp1、rp2、rp3和rp4可以将第一拉伸部ttp1连接到第二拉伸部ttp2。圆角部rp1、rp2、rp3和rp4可以包括连接第一侧拉伸部tp1和第三侧拉伸部tp3的第一圆角部rp1、连接第二侧拉伸部tp2和第三侧拉伸部tp3的第二圆角部rp2、连接第一侧拉伸部tp1和第四侧拉伸部tp4的第三圆角部rp3以及连接第二侧拉伸部tp2和第四侧拉伸部tp4的第四圆角部rp4。
79.在实施例中，如图7和图8中所示，单元掩模cmk-2或cmk-3可以包括限定在第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2之间的凹陷部gp1、gp2、gp3和gp4或者圆角部rp1、rp2、rp3和rp4。在这样的实施例中，可以通过减小第一拉伸部ttp1与第二拉伸部ttp2之间的由于拉张引起的应力集中的部分的应力来防止单元掩模cmk-2和cmk-3在朝向远离掩模主体mp的方向拉张分别设置在四条边上的拉伸部以拉张单元掩模cmk-2和cmk-3的工艺中被损坏。
80.参照图9，单元掩模cmk-4的掩模主体mp的另一可选实施例可以包括多个单元区域
ca和限定在单元区域ca之间的延伸区域enp。多个孔h可以在单元区域ca中的每个中沿着第三方向dr3通过掩模主体mp限定。限定在单元区域ca之间的延伸区域enp可以是通过其未限定孔h的区域。单元区域ca可以被限定为分别与使用掩模制造的显示面板的发光图案层epp(参照图13a)对应。延伸区域enp可以围绕单元区域ca中的每个。在这样的实施例中，如图9中所示，单元掩模cmk-4的掩模主体mp可以包括四个单元区域(诸如被限定在其中且在第一方向dr1和第二方向dr2上布置的第一单元区域ca1、第二单元区域ca2、第三单元区域ca3和第四单元区域ca4)。然而，包括在单元掩模cmk-4中的单元区域ca的数量和形状可以根据要制造的显示面板的发光图案层epp的图案化形状进行不同地修改。
81.图10是示出了根据公开的可选实施例的掩模组件的透视图。图10中所示的掩模组件包括单元开口和与单元开口对应的单元掩模，所述单元开口和单元掩模具有与图3中所示的掩模组件mka的单元开口和单元掩模的形状不同的形状。在图10中，相同的附图标记表示图3中的相同的元件，因此将省略相同的元件的任何重复的详细描述。
82.参照图10，掩模框架mf的实施例可以包括在平面中具有彼此不同的尺寸的单元开口。掩模框架mf可以包括第一单元开口cop1和具有与第一单元开口cop1的尺寸不同的尺寸的第二单元开口cop2。根据实施例，第二单元开口cop2在平面中可以具有比第一单元开口cop1的尺寸小的尺寸。在其中第一单元开口cop1和第二单元开口cop2具有不同的尺寸和不同的形状的这样的实施例中，分别围绕第一单元开口cop1和第二单元开口cop2的边缘部lp可以具有彼此不同的尺寸和彼此不同的形状。
83.由于掩模框架mf包括第一单元开口cop1和第二单元开口cop2，因此掩模组件可以包括与第一单元开口cop1对应的第一单元掩模cmk1和与第二单元开口cop2对应的第二单元掩模cmk2。为了便于说明和描述，图10示出了与通过掩模框架mf限定的第一单元开口cop1之中的第一单元开口cop1对应的第一单元掩模cmk1以及与通过掩模框架mf限定的第二单元开口cop2之中的第二单元开口cop2对应的第二单元掩模cmk2，然而，掩模组件可以包括分别与通过掩模框架mf限定的第一单元开口cop1对应的多个第一单元掩模cmk1以及分别与通过掩模框架mf限定的第二单元开口cop2对应的多个第二单元掩模cmk2。
84.第一单元掩模cmk1可以包括与第一单元开口cop1的形状对应的第一掩模主体mp1、与第一单元开口cop1的边缘部的形状对应的第一单元结合部bp-1以及设置为分别与第一掩模主体mp1的四条边对应的多个拉伸部tp1-1、tp2-1、tp3-1和tp4-1，其中，多个第一孔h1通过第一掩模主体mp1限定。第二单元掩模cmk2可以包括与第二单元开口cop2的形状对应的第二掩模主体mp2、与第二单元开口cop2的边缘部的形状对应的第二单元结合部bp-2以及设置为分别与第二掩模主体mp2的四条边对应的多个拉伸部tp1-2、tp2-2、tp3-2和tp4-2，其中，多个第二孔h2通过第二掩模主体mp2限定。
85.掩模组件的实施例可以包括掩模框架，掩模框架包括在平面中具有彼此不同的尺寸的第一单元开口和第二单元开口以及分别与第一单元开口和第二单元开口对应的第一单元掩模和第二单元掩模。在这样的实施例中，在使用设置为分别与单元掩模中的每个的掩模主体的四条边对应的拉伸部来拉张单元掩模的工艺中，掩模组件可以有效地防止掩模主体的四条边收缩。在这样的实施例中，掩模组件包括分别与在平面中具有不同的尺寸的单元开口对应的第一单元掩模和第二单元掩模，因此，具有彼此不同的单元尺寸的显示面板可以通过使用单个掩模组件来制造。因此，可以增加使用掩模组件的实施例执行的显示
面板的制造工艺的倒角速率，因此可以降低显示面板的制造成本。
86.图11a至图11d是示出了根据公开的实施例的制造掩模mk的方法的视图。图11a是示出了根据公开的实施例的掩模mk的制造方法的工艺的平面图。图11b至图11d是示出了根据公开的实施例的掩模mk的制造方法的一些工艺的剖视图。图12是示出了根据公开的实施例的沉积设备dpd的剖视图。图13a至图13c是示出了根据公开的实施例的显示面板的制造方法的一些工艺的透视图。
87.在下文中，将参照图11a至图11d、图12以及图13a至图13c描述显示面板的制造方法的实施例。在图11a至图11d、图12以及图13a至图13c中，相同的附图标记表示图1至图10中的相同的元件，因此，将省略相同的元件的任何重复的详细描述。
88.显示面板的制造方法的实施例包括以下步骤：准备目标基底；在目标基底下面形成通过其限定有多个孔的掩模；形成与孔对应的多个图案；以及去除掩模。
89.图11a至图11d顺序地示出了在显示面板的制造方法的实施例中在将多个掩模设置在目标基底下面之前使用掩模组件形成掩模的工艺。在这样的实施例中，可以通过将掩模框架mf结合到包括在掩模组件mka中的单元掩模cmk来形成掩模。
90.参照图3、图11a和图11b，在形成掩模的工艺中，在将单元掩模cmk放置在掩模框架mf上之前，拉张单元掩模cmk中的每个。单元掩模cmk的拉伸部ttp1和ttp2可以由包括在拉张设备中的夹具保持(或抓持)，并且在远离掩模主体mp的方向上拉动，因此，可以拉张单元掩模cmk。在这样的实施例中，单元掩模cmk在掩模主体mp的第一侧mp-s1和第二侧mp-s2彼此面对所沿的方向(即，第一方向dr1)上接收第一张力ts1，并且在掩模主体mp的第三侧mp-s3和第四侧mp-s4彼此面对所沿的方向(即，第二方向dr2)上接收第二张力ts2。可以通过拉张工艺拉张单元掩模cmk，使得单元掩模cmk中的每个的掩模主体mp和结合部bp分别与单元开口cop和边缘部lp对应。可以通过设置在掩模主体mp的四条边上的拉伸部ttp1和ttp2沿四个方向拉张单元掩模cmk中的每个，因此，单元掩模cmk中的每个可以被拉张以与单元开口cop中的每个的形状对应，而不会引起四条边的收缩。在这样的实施例中，当单元掩模cmk中的每个通过四条边接收第一张力ts1和第二张力ts2时，在其中单元掩模cmk通过结合工艺结合到掩模框架mf以形成单体掩模cmk-a(参照图1)的状态下，掩模主体mp可以在第一方向dr1和与第一方向dr1相反的方向上接收第一张力ts1，并且可以在第二方向dr2和与第二方向dr2相反的方向上接收第二张力ts2。
91.参照图3、图11c和图11d，将拉张的单元掩模cmk设置或放置在对应的单元开口cop上或者设置或放置为与对应的单元开口cop叠置，然后，可以通过照射激光束lz的工艺将结合部bp1和bp2结合到掩模框架mf的边缘部lp。为了便于说明，图11c仅示出了第一结合部bp1和第二结合部bp2，然而，可以通过照射激光束lz的工艺将第三结合部bp3和第四结合部bp4结合到掩模框架mf的边缘部lp。激光照射单元li可以沿着限定在结合部bp1和bp2与边缘部lp之间的假想激光加工线照射激光束lz，以将掩模框架mf结合到单元掩模cmk。可以通过将激光束lz照射到结合部bp1和bp2以及边缘部lp中的至少一个的一部分来使结合部bp1和bp2以及边缘部lp中的至少一个的所述一部分熔化，因此结合部bp1和bp2与边缘部lp可以彼此结合。虽然在附图中未示出，但是可以在拉张单元掩模cmk的工艺中将包括在单元掩模cmk中的拉伸部ttp1和ttp2加工为具有向上弯曲的形状，因此，拉伸部ttp1和ttp2可以在结合工艺中避免干扰与其相邻的单元掩模cmk。
92.在单元掩模cmk中的每个结合到对应的单元开口cop上的掩模框架mf之后，可以去除包括在单元掩模cmk中的拉伸部ttp1和ttp2。在实施例中，可以在照射用于结合工艺的激光束lz的工艺中去除拉伸部ttp1和ttp2。可选地，在通过照射激光束lz的工艺将掩模框架mf结合到单元掩模cmk之后，可以通过照射单独的附加激光束的工艺去除拉伸部ttp1和ttp2。从其去除拉伸部ttp1和ttp2的单元掩模cmk可以被称为单体掩模cmk-a(参照图1)。
93.在通过照射激光束lz的工艺去除拉伸部ttp1和ttp2的工艺期间，可以去除结合部bp1和bp2的部分。在去除结合部bp1和bp2的所述部分以及拉伸部ttp1和ttp2之后，结合部bp1和bp2的通过照射激光束lz的工艺结合到掩模框架mf的剩余部分可以限定单体掩模cmk-a的结合部bp1'和bp2'。
94.单体掩模cmk-a的结合部bp1'和bp2'可以包括由激光束lz的照射工艺通过氧化包括在单元掩模cmk的结合部bp1和bp2中的金属获得的金属氧化物。在实施例中，在激光束lz的照射工艺之后，单元掩模cmk的结合部bp1和bp2可以包括因瓦合金，单体掩模cmk-a的结合部bp1'和bp2'可以包括因瓦合金的氧化物。
95.参照图12，沉积设备dpd的实施例可以包括室chb、沉积源s、台stg、移动板pp和掩模mk。
96.室chb可以提供封闭的空间。沉积源s、台stg、移动板pp和掩模mk可以设置在室chb中。室chb可以包括门gt。室chb可以通过门gt打开和关闭。目标基底sub可以通过门gt装载到室chb中或从室chb卸载，门gt通过室chb限定。
97.在实施例中，沉积源s可以包括沉积材料。在这样的实施例中，沉积材料是能够升华或蒸发的材料，并且可以包括选自于无机材料、金属材料和有机材料中的至少一种。在下文中，为了便于描述，将描述其中包括有机材料的沉积源s用于制造有机发光器件oled(参照图14)的实施例。
98.台stg可以设置在沉积源s上方。掩模mk可以设置在台stg上。可以在通过上述掩模制造工艺制造之后设置掩模mk。掩模mk可以面对沉积源s。台stg可以设置为与掩模mk的掩模框架mf叠置，并且可以支撑掩模mk。台stg可以不与掩模框架mf的单元开口cop叠置。即，台stg可以设置在沉积材料通过其从沉积源s供应到目标基底sub的路径外侧。
99.目标基底sub可以设置在掩模mk上。沉积材料可以通过孔h沉积在目标基底sub上，以在目标基底sub上形成多个图案，孔h通过每个单体掩模cmk-a限定。在这样的实施例中，由沉积材料形成的图案可以是发光图案。
100.移动板pp可以将目标基底sub对准在掩模mk上。移动板pp可以上下移动或左右移动。移动板pp可以包括用于移动目标基底sub的构件和用于保持(或抓持)目标基底sub的构件。
101.参照图1、图12和图13a，在这样的实施例中，可以在通过沉积设备dpd在目标基底sub上沉积沉积材料之后去除掩模mk。从其去除掩模mk的初始基底dp-i可以是在其上形成有发光图案层epp的目标基底sub。发光图案层epp可以形成为分别与掩模mk的单体掩模cmk-a对应。发光图案层epp中的每个可以包括多个发光图案(未示出)。
102.参照图13a和图13b，沿着限定在从其去除掩模mk的初始基底dp-i中的切割线ctl切割从其去除掩模mk的初始基底dp-i，并且将初始基底dp-i划分为多个面板dp-p。面板dp-p中的每个可以形成显示面板dp。
103.根据公开的实施例，可以通过使目标基底sub图案化来形成显示面板dp。在这样的实施例中，由于用于制造显示面板dp的掩模mk是使用包括均在四个方向上拉张的单元掩模cmk的掩模组件mka制造的，因此可以执行制造要用于形成多个显示面板dp的大面积的掩模mk的工艺。因此，可以缩短工艺时间，并且可以减少工艺成本。然而，根据可选的实施例，可以根据显示面板dp的尺寸由目标基底sub形成单个显示面板dp。
104.参照图13c，显示面板dp的实施例可以包括有源区域aa。有源区域aa可以包括多个像素。有源区域aa可以与其中设置有发光图案层epp的区域对应，发光图案ep可以分别与像素对应。发光图案ep中的每个可以形成为分别与通过包括在掩模mk中的单体掩模cmk-a限定的孔h对应。
105.图14是示出了根据公开的实施例的显示面板dp的剖视图。图14示出了沿着图13c的线ii-ii'截取的剖面，以示出显示面板dp的一部分。
106.参照图14，显示面板dp的实施例可以是但不限于发光型显示面板。图14示出了具有两个晶体管t1和t2的一个像素以及像素之中的有机发光器件oled的剖面。
107.在实施例中，如图14中所示，显示面板dp可以包括基体层bl、设置在基体层bl上的电路元件层ml、设置在电路元件层ml上的显示元件层el以及设置在显示元件层el上的绝缘层tfe(下文中，被称为“上绝缘层”)。
108.基体层bl可以包括合成树脂层。基体层bl可以通过以下步骤来形成：在用于制造显示面板dp的支撑基底上形成合成树脂层；在合成树脂层上形成导电层和绝缘层；以及去除支撑基底。
109.电路元件层ml可以包括绝缘层和电路元件。电路元件可以包括信号线和像素驱动电路。电路元件层ml可以通过形成绝缘层、半导体层和导电层的工艺(诸如涂覆工艺和沉积工艺)以及使绝缘层、半导体层和导电层图案化的工艺(诸如光刻工艺)来形成。
110.在实施例中，电路元件层ml可以包括缓冲层bfl、阻挡层brl以及第一绝缘层10、第二绝缘层20、第三绝缘层30、第四绝缘层40、第五绝缘层50、第六绝缘层60和第七绝缘层70。缓冲层bfl、阻挡层brl以及第一绝缘层10、第二绝缘层20、第三绝缘层30、第四绝缘层40、第五绝缘层50、第六绝缘层60和第七绝缘层70可以包括无机层或有机层。在实施例中，缓冲层bfl和阻挡层brl可以包括无机层。在实施例中，选自于第五绝缘层50至第七绝缘层70中的至少一个可以包括有机层。
111.图14示出了形成第一晶体管t1和第二晶体管t2的第一有源极a1、第二有源极a2、第一栅极g1、第二栅极g2、第一源极s1、第二源极s2、第一漏极d1和第二漏极d2的布置关系。在实施例中，第一有源极a1和第二有源极a2可以包括彼此不同的材料。第一有源极a1可以包括多晶硅半导体，第二有源极a2可以包括金属氧化物半导体。第一源极s1和第一漏极d1可以具有比第一有源极a1的掺杂浓度大的掺杂浓度，并且可以用作电极。第二源极s2和第二漏极d2可以通过还原金属氧化物半导体来获得，并且可以用作电极。在实施例中，如图14中所示，上电极ue可以设置在第二绝缘层20上，使得电容器可以由上电极ue与第一栅极g1限定。
112.根据公开的可选实施例，第一有源极a1和第二有源极a2可以包括彼此相同的半导体材料，在这样的实施例中，可以进一步简化电路元件层ml的堆叠结构。
113.在实施例中，显示元件层el可以包括像素限定层pdl和有机发光器件oled。有机发
光器件oled可以是有机发光二极管或量子点发光二极管。阳极ae可以设置在第七绝缘层70上。阳极ae的至少一部分可以通过像素限定层pdl的像素开口pdl-op暴露。发光区域pxa可以由像素限定层pdl的像素开口pdl-op限定。非发光区域npxa可以围绕发光区域pxa。
114.空穴控制层hcl和电子控制层ecl可以共同地设置在发光区域pxa和非发光区域npxa中。发光层eml可以包括发光材料，并且可以以与像素开口pdl-op对应的图案形状设置。发光层eml可以通过与用于形成空穴控制层hcl和电子控制层ecl的方法不同的方法沉积。空穴控制层hcl和电子控制层ecl可以使用开口掩模共同地形成在像素中。发光层eml可以使用上述掩模的实施例以与像素开口pdl-op对应的图案形状形成，但不限于此或由此限制。在实施例中，空穴控制层hcl和电子控制层ecl也可以使用掩模以与发光层eml相同的图案形状形成，以与像素开口pdl-op对应。
115.阴极ce可以设置在电子控制层ecl上。上绝缘层tfe可以设置在阴极ce上。上绝缘层tfe可以是薄膜封装层以封装显示元件层el。上绝缘层tfe可以包括多个薄膜。薄膜可以包括无机层和有机层。上绝缘层tfe可以包括用于封装显示元件层el的绝缘层和用于改善发光效率的多个绝缘层。
116.发明不应被解释为限于在此所阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是透彻的和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达发明的构思。
117.虽然已经参照发明的实施例具体地示出和描述了发明，但是本领域技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求限定的发明的精神或范围的情况下，可以在形式上和细节上进行各种改变。