遮蔽装置的制作方法

1.本技术涉及治具领域，尤其涉及一种遮蔽装置。


背景技术：

2.在烤漆制程中，需要对预制品进行遮蔽以进行烤漆处理。传统的遮蔽装置需要额外在预制品上设置开口，以与遮蔽装置的卡勾相互卡接，从而遮蔽所述预制品；另外，所述开口还需预留足够的空间，以便于卡勾伸入或者取出，如此，会由于预留的空间导致预制品与遮蔽装置结合不稳定，在烤漆制程中产生晃动，导致溢漆。


技术实现要素：

3.有鉴于此，有必要提供一种稳定且无需在预制品上设置开口的遮蔽装置，以解决上述问题。
4.一种遮蔽装置，用于固定并遮蔽一预制品的一部分，包括：第一遮罩以及第二遮罩，第一遮罩包括第一本体以及设置于所述第一本体上的第一磁铁；第二遮罩包括第二本体以及设置于所述第二本体上的第二磁铁；其中，所述第一本体与所述第二本体共同形成容置所述预制品的容置空间，所述第一磁铁与所述第二磁铁相互吸引，以将所述预制品固定于所述容置空间，所述预制品沿至少一个方向上尺寸大于所述第一遮罩或所述第二遮罩的尺寸，以使所述预制品暴露于所述第一遮罩以及所述第二遮罩之外。
5.进一步地，所述第一磁铁与所述第一本体为一体结构，所述第二磁铁与所述第二本体为一铁结构。
6.进一步地，所述第一磁铁可拆卸地设置于所述第一本体地表面，所述第二磁铁可拆卸地设置于所述第二本体的表面。
7.进一步地，所述第一磁铁与第一本体为一体结构，所述第二磁铁可拆卸地设置于所述第二本体表面。
8.进一步地，所述第一磁铁可拆卸地设置于所述第一本体的表面，所述第二磁铁与所述第二本体为一体结构。
9.进一步地，所述第一本体和/或所述第二本体的材质中包括铁磁性物质。
10.进一步地，所述铁磁性物质包括铁、镍以及钴中的至少一种。
11.进一步地，所述第一本体上还设置有凸起，所述凸起朝向所述第二本体设置。
12.本技术提供的遮蔽装置，通过分别设置于所述第一本体以及第二本体上的第一磁铁以及第二磁铁的相互吸引力的作用，即可将预制品遮蔽以进行加工，无须在预制品上设置额外的开口以固定所述预制品；取出预制品时，将第一本体与第二本体分离即可，既不损坏预制品，也不会损坏遮蔽装置；另外，本技术提供的遮蔽装置与预制品结合紧密，无需设置额外用于卡扣进出的空间，在烤漆制程中不会产生溢漆；再者，本技术提供的遮蔽装置使用方便、灵活，且成本低。
附图说明
13.图1为本技术实施例提供的遮蔽装置遮蔽一预制品的整体结构示意图。
14.图2为图1所示的遮蔽装置遮蔽预制品的爆炸图。
15.主要元件符号说明
16.遮蔽装置
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100
17.第一遮罩
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10
18.第一本体
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12
19.凸起
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122
20.第一磁铁
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14
21.第二遮罩
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20
22.第二本体
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22
23.第二磁铁
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24
24.预制品
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30
25.如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本技术。
具体实施方式
26.为了能够更清楚地理解本技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本技术进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，所描述的实施方式仅仅是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
27.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的所有的和任意的组合。
28.在本技术的各实施例中，为了便于描述而非限制本技术，本技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的术语“连接”并非限定于物理的或者机械的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“上方”、“下方”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
29.请参阅图1以及图2，本技术实施例提供一种遮蔽装置100，所述遮蔽装置100用于固定并遮蔽一预制品30的一部分，以便于对未被遮蔽的所述预制品30进行处理，例如烤漆处理。在一具体实施方式中，所述预制品30为一手机外壳，以上仅为举例说明，并不以此为限制。
30.所述遮蔽装置100包括第一遮罩10以及第二遮罩20，所述第一遮罩10与所述第二遮罩20相互盖合形成一容置空间，所述容置空间用于容置以及固定所述预制品30，其中，所述预制品30沿至少一个方向上尺寸大于所述第一遮罩10或第二遮罩20的尺寸，以使部分所述预制品30的表面暴露于所述第一遮罩10和所述第二遮罩20之外，未被遮蔽的表面可进行处理。所述尺寸包括但不限于长度以及宽度。
31.在本实施方式中，需对所述预制品30的部分表面进行烤漆处理，则需要进行烤漆处理的表面暴露于所述第一遮罩10与所述第二遮罩20之外，不需进行烤漆处理的表面被所述第一遮罩10与所述第二遮罩20遮蔽。
32.所述第一遮罩10包括第一本体12以及第一磁铁14。所述第二遮罩20包括第二本体22以及第二磁铁24。
33.在一些实施方式中，所述第一磁铁14可以设置于所述第一本体 12中，与所述第一本体12呈一体结构；所述第二磁铁24设置于所述第二本体22中，与所述第二本体22呈一体结构。所述第一本体 12与所述第二本体22形成所述容置空间，所述预制品30置于所述容置空间中，所述第一磁铁14与所述第二磁铁24相互吸引，从而将所述预制品30部分容置于所述第一遮罩10与所述第二遮罩20 形成的容置空间中。一体结构的第一遮罩10与一体结构的第二遮罩 20，使用方便，即通过两个部件即可将预制品30遮蔽以待处理；同时拆卸方便，通过作用力使第一遮罩10与第二遮罩20相互分离，即可取出预制品30，既不损坏第一遮罩10，以及第二遮罩20，又不损坏预制品30。
34.在一些实施方式中，所述第一磁铁14可拆卸地设置于所述第一本体12地表面，所述第二磁铁24可拆卸地设置于所述第二本体22 的表面，其中第一磁铁14与第二磁铁24的数量并不限制，可以分别为一个，也可以为多个。所述第一本体12与所述第二本体22形成所述容置空间，所述预制品30置于所述容置空间中，所述第一磁铁14与所述第二磁铁24分别置于所述第一本体12以及所述第二本体22相背离的两个表面，通过第一磁铁14与所述第二磁铁24的相互吸引力，将所述预制品30容置于所述第一遮罩10与所述第二遮罩20形成的容置空间中。可拆卸地第一遮罩10与可拆卸地第二遮罩20，可以根据需要调节第一磁铁14与第二磁铁24地位置；同时，可以根据吸引力的大小调节第一磁铁14与第二磁铁24的数量，灵活使用第一遮罩10与第二遮罩20。
35.可以理解地，在一些实施方式中，所述第一磁铁14与第一本体 12的结合方式、所述第二磁铁24与第二本体22的结合方式可以是上述结合方式的组合。例如，所述第一磁铁14与第一本体12为一体结构，所述第二磁铁24与所述第二本体22可拆卸地结合；或者，所述第一磁铁14与所述第一本体12可拆卸地结合，所述第二磁铁 24与所述第二本体22为一体结构。
36.在一些实施方式中，所述第一本体12和/或所述第二本体22的材质中包括铁磁性物质，例如金属铁、镍以及钴中的至少一种，以便于所述第一磁铁14吸附于所述第一本体12上，所述第二磁铁24 吸附于所述第二本体22上，防止所述第一磁铁14或第二磁铁24 遗失；另外，在使用过程中，第一磁铁14还能间隔第一本体12以及预制品30吸引所述第二本体22，所述第二磁铁24间隔所述第二本体22以及所述预制品30吸引所述第一本体12，以更加吸引力，从而增加所述第一遮罩10与所述第二遮罩20的结合力。
37.进一步地，所述预制品30朝向所述第一本体12的表面具有凹槽(图未示)。所述第一本体12上还设置有凸起122，所述凸起122 朝向所述第二本体22设置，即背离设置第一磁铁14的表面。所述凸起122可以大致沿着形成所述凹槽的侧壁进行设置，所述凸起122 的长度与所述凹槽凹陷的深度大致匹配。所述凸起122可用于限位，在对所述预制品30进行处理过程中，防止所述预制品30产生位移。
38.本技术提供的遮蔽装置100，通过分别设置于所述第一本体12 以及第二本体22上
的第一磁铁14以及第二磁铁24的相互吸引力的作用，即可将预制品30遮蔽以进行加工，无须在预制品30上设置额外的开口以固定所述预制品30；取出预制品30时，将第一本体 12与第二本体22分离即可，既不损坏预制品30，也不会损坏遮蔽装置100；另外，本技术提供的遮蔽装置100与预制品30结合紧密，无需设置额外用于卡扣进出的空间，在烤漆制程中不会产生溢漆；再者，本技术提供的遮蔽装置100使用方便、灵活，且成本低。
39.以上实施方式仅用以说明本技术的技术方案而非限制，尽管参照以上较佳实施方式对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或等同替换都不应脱离本技术技术方案的精神和范围。