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一种中温双层窑变花釉和制作方法与流程

2021-12-18 01:36:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种中温双层窑变花釉,其特征是,所述中温双层窑变花釉的底釉包括以下原料及重量百分含量,所述中温双层窑变花釉的面釉包括以下原料及各自重量百分含量:2.如权利要求1所述的中温双层窑变花釉,其特征是,所述中温双层窑变花釉的底釉包括以下原料及重量百分含量,钾长石27%,石英9%,方解石15%,铝粉4%,界牌泥27%,色剂18%。3.如权利要求1或2所述的中温双层窑变花釉,其特征是,所述中温双层窑变花釉的面釉包括以下原料及各自重量百分含量,硼熔块52%,石英11%,骨碳3%,锂辉石5%,氧化锌11%,滑石7%,界牌泥11%。4.如权利要求1或2所述的中温双层窑变花釉,其特征是,所述色剂为氧化铁红、碳酸锰、氧化钴或氧化铜。5.一种如权利要求1

4任一项所述的中温双层窑变花釉的制备方法,其特征是,包括以下步骤:按照各原料和各原料重量备料,原料湿法球磨,过筛得到釉浆;加水调节釉浆浓度,然后将底釉附于坯体上,再把面釉附于底釉上,干燥,干燥后坯体在氧化气氛中进行烧成,烧成温度为1250

1270℃,得到成品。6.如权利要求5所述的中温双层窑变花釉的制备方法,其特征是,釉浆细度为250目筛余0.02

0.04%。7.如权利要求5或6所述的中温双层窑变花釉的制备方法,其特征是,釉浆浓度为,底釉的釉浆浓度为28

32波美度,面釉的釉浆浓度为55

60波美度。8.如权利要求5或6所述的中温双层窑变花釉的制备方法,其特征是,底釉的厚度为0.1

0.2mm,面釉的厚度为0.3

0.5mm。9.如权利要求5或6所述的中温双层窑变花釉的制备方法,其特征是,底釉釉浆附于坯
体上的方式为浸釉、施釉或喷釉,面釉釉浆附于底釉的方式为喷釉。

技术总结
本发明涉及一种中温双层窑变花釉和制作方法,所述中温双层窑变花釉的底釉包括以下原料及重量百分含量,钾长石25


技术研发人员:彭宏 许君奇 邹建华 石建军
受保护的技术使用者:湖南醴陵红官窑瓷业有限公司
技术研发日:2021.10.12
技术公布日:2021/12/17
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