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表面清洁设备、基站及表面清洁系统的制作方法

2021-12-15 02:03:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种表面清洁设备,其特征在于,包括:清洁液体存储部,所述清洁液体存储部用于存储清洁液体;清洁部,所述清洁液体存储部将清洁液体提供至清洁部或者提供至所述清洁部附近的待清洁表面,通过所述清洁部的运动实现待清洁表面的湿式清洁;以及接头组件,所述接头组件与所述清洁液体存储部连接,以通过所述接头组件向所述清洁液体存储部内提供清洁液体或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体排出;其中,所述接头组件包括阀组件,所述阀组件的底部包括导向斜面,当所述表面清洁设备放置于基站时,所述导向斜面与所述基站的限位部实现滑动导向,以将表面清洁设备的接头组件与所述基站的连接接口连接。2.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,还包括:主机部,所述清洁部连接于所述主机部,以通过操作所述主机部使得所述清洁部沿待清洁表面运动;其中,所述清洁液体存储部设置于所述主机部。3.如权利要求2所述的表面清洁设备,其特征在于,所述接头组件设置于所述主机部,所述接头组件位于所述主机部的后部。4.如权利要求3所述的表面清洁设备,其特征在于,所述接头组件还包括:防护结构,所述防护结构至少部分地围绕所述阀组件。5.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,所述防护结构的最低位置与所述阀组件的最低位置相同,或者低于所述阀组件的最低位置。6.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,通过将所述防护结构设置于所述主机部,以将所述接头组件设置于所述主机部。7.如权利要求1

6之一所述的表面清洁设备,其特征在于,当所述表面清洁设备处于直立状态时,所述导向斜面沿从前至后的方向,向下倾斜;优选地,所述防护结构的内部形成有容置空间,所述阀组件设置于所述防护结构的容置空间内;并且所述防护结构和阀组件之间形成有腔室,所述腔室与所述清洁液体存储部连通;优选地,所述防护结构的上部形成有水管接头,所述水管接头与所述腔室连通,以通过将水管接头连接于清洁液体存储部的方式,使得腔室与所述清洁液体存储部连通;优选地,所述阀组件包括:阀体,所述阀体固定于所述防护结构,并且所述阀体的内部形成清洁液体流通的管路,所述清洁液体流通的管路与所述腔室连通;其中,所述阀体的下端面形成为所述导向斜面;优选地,所述阀组件还包括:阀杆,所述阀杆可滑动地设置于所述阀体内;并使得所述阀杆能够处于第一位置和第二位置;以及堵头,所述堵头设置于所述阀杆的一端,并且当所述阀杆位于第一位置时,使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室不连通,并且当所述阀杆位于第二位置时,使得所述阀体的清洁液体流通的管路与所述腔室连通;优选地,所述阀体的上部的外壁面形成为导向面,以当所述基站的连接接口插入至所述接头组件时,所述导向面能够对所述基站的连接接口进行导向;优选地,所述阀体的外表面设置有密封构件,当所述阀组件与所述基站的连接接口连
接时,使得所述阀组件与所述基站的连接接口密封连接;优选地,所述阀体的外表面形成有至少一个容置密封构件的环形凹槽,所述密封构件设置于所述环形凹槽内,并且所述密封构件的至少部分位于所述环形凹槽的外部;优选地,所述密封构件包括至少一个环形的密封部,其中,所述密封部中的至少部分密封部的远离所述阀体的一端形成为角部;优选地,所述防护结构的内壁面形成有多个导向筋部,其中,所述导向筋部沿所述防护结构的轴向方向延伸;优选地,在所述防护结构的内壁面形成有至少一个导向凹槽,所述导向凹槽与所述基站的连接接口的导向部配合,以限制所述防护结构相对于所述连接接口的转动;优选地,所述导向凹槽设置为至少两个,其中导向凹槽中的两个导向凹槽设置于所述防护结构的相对的内壁面;优选地,所述导向凹槽的宽度从下至上逐渐减小;优选地,至少一个导向筋部与所述基站的连接接口接触的表面形成有曲面状,并使得所述导向筋部与所述基站的连接接口接触的表面与所述连接接口的表面相配合。8.一种基站,其特征在于,包括:清洁液体供给部,所述清洁液体供给部用于存储清洁液体;以及连接接口,所述连接接口连接至所述清洁液体供给部,当表面清洁设备停靠于所述基站时,所述表面清洁设备的接头组件连接于所述连接接口,以将所述清洁液体供给部的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体存储部,或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体供给部;其中,所述连接接口包括至少一个导向部,当所述连接接口与所述表面清洁设备的接头组件连接时,所述导向部与所述连接接口的导向凹槽配合。9.如权利要求8所述的基站,其特征在于,所述导向部的数量与所述导向凹槽的数量相同,或者少于所述导向凹槽的数量,以使得至少部分导向凹槽中设置有所述导向部;优选地,所述导向部中的至少部分导向部位于所述连接接口相对的外侧壁。10.一种表面清洁系统,其特征在于,包括权利要求1

7所述的表面清洁设备以及权利要求8

9所述的基站,其中,当表面清洁设备停靠于所述基站时,所述表面清洁设备的接头组件与所述基站的连接接口连通。

技术总结
本公开提供一种表面清洁设备,其包括:清洁液体存储部,所述清洁液体存储部用于存储清洁液体;清洁部,所述清洁液体存储部将清洁液体提供至清洁部或者提供至所述清洁部附近的待清洁表面,通过所述清洁部的运动实现待清洁表面的湿式清洁;以及接头组件,所述接头组件与所述清洁液体存储部连接,以通过所述接头组件向所述清洁液体存储部内提供清洁液体或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体排出;其中,所述接头组件包括阀组件,所述阀组件的底部包括导向斜面,当所述表面清洁设备放置于基站时,所述导向斜面与所述基站的限位部实现滑动导向,以将表面清洁设备的接头组件与所述基站的连接接口连接。本公开还提供一种基站及表面清洁系统。面清洁系统。面清洁系统。


技术研发人员:曹力 唐成 段飞 钟亮
受保护的技术使用者:北京顺造科技有限公司
技术研发日:2021.09.23
技术公布日:2021/12/14
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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