一种低翘曲的强化微晶玻璃、及其制备方法和用途与流程

技术特征：
1.一种低翘曲的强化微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃具有从表面延伸到玻璃内部的压缩应力层，其中，玻璃表面压缩应力cs＜550mpa，所述压缩应力层具有以下应力分布：(a)应力层深为0μm≤dol＜30μm时，应力分布曲线近似线性分布，该曲线上任意相隔20μm的两个点间应力曲线斜率绝对值k1满足：2.45＜|k1|＜5.05；(b)应力层深为30μm≤dol≤dol_zero时，应力分布曲线近似线性分布，该曲线上任意相隔20μm的两个点间应力曲线斜率绝对值k2满足：1≤|k2|≤1.5。2.如权利要求1所述的强化微晶玻璃，所述玻璃表面压缩应力cs＜350mpa。3.如权利要求1所述的强化微晶玻璃，所述k1满足：2.45＜|k1|＜4.35。4.如权利要求1所述的强化微晶玻璃，所述k1满足：2.60＜|k1|＜3.75。5.如权利要求1所述的强化微晶玻璃，所述k2满足：1.00＜|k2|＜1.35。6.如权利要求1所述的强化微晶玻璃，所述压缩应力层的层深dol_zero：110～142μm；层深50μm时应力cs_50：60～130mpa。7.如权利要求1
‑
6任一所述的强化微晶玻璃，所述微晶玻璃的组成(wt％)为：sio
2 58.1
‑
78.8％，al2o
3 5.4
‑
24.1％，mgo zno 0
‑
15％，b2o
30‑
3.3％，p2o
5 0
‑
1.9％，zro
2 0
‑
3.5％，li2o 1.6
‑
13.7％，na2o 1.6
‑
4.5％，k2o≤3.1％，y2o3≤8％，余量为不可避免杂质，其中：na2o/r2o≤0.6，r2o/al2o3≤5.25，r2o为碱金属氧化物。8.如权利要求7所述的强化微晶玻璃，所述微晶玻璃的晶相包括：二硅酸锂、透锂长石、β
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石英固溶体、尖晶石中一种或多种，结晶度为70～98％。9.如权利要求8所述的强化微晶玻璃，所述微晶玻璃的结晶度为80～95％。10.如权利要求8所述的强化微晶玻璃，所述微晶玻璃的结晶度为87～95％。11.一种权利要求1
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10任一所述强化微晶玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：一、基础玻璃进行晶化处理，制得基础微晶玻璃；二、晶化处理后的基础微晶玻璃进行离子交换。12.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述步骤二中离子交换包括两次离子交换，其中：第一次离子交换：将基础微晶玻璃浸入第一熔盐浴中进行第一次离子交换，所述第一熔盐浴中包含至少75wt％的nano3，第一次离子交换温度430
‑
450℃，时间6
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11h；第二次离子交换：将第一次离子交换后的基础微晶玻璃，浸入第二熔盐浴中进行第二次离子交换，所述第二熔盐浴中至少包含kno3和lino3两种熔盐，第二次离子交换温度420℃～440℃，时间≤60min。13.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述第二熔盐浴中kno3含量≥90wt％，lino3含量：0＜lino3≤0.15wt％。14.如权利要求11～13之一所述的制备方法，其特征在于，所述步骤一中的晶化处理包括以下步骤：将基础玻璃放入箱式晶化炉中进行三段热处理，第一步，升温至520℃～580℃，保温200min～300min；第二步，升温至600℃～640℃，保温100min～150min；第三步，升温至645℃～740℃，保温180min～270min；随后冷却，获得基础微晶玻璃。15.一种如权利要求1～10之一所述的强化微晶玻璃的用途，其特征在于，所述强化微
晶玻璃用作手机盖板、平板电脑盖板、手表盖板、汽车显示器盖板。

技术总结
本申请公开了一种低翘曲的强化微晶玻璃、及其制备方法和用途，该微晶玻璃具有从表面延伸到玻璃内部的压缩应力层，其中，玻璃表面压缩应力CS＜550Mpa，所述压缩应力层具有以下应力分布：(a)应力层深为0μm≤Dol＜30μm时，应力分布曲线近似线性分布，该曲线上任意相隔20μm的两个点间应力曲线斜率绝对值k1满足：2.45＜|k1|＜5.05；(b)应力层深为30μm≤Dol≤Dol_zero时，应力分布曲线近似线性分布，该曲线上任意相隔20μm的两个点间应力曲线斜率绝对值k2满足：1≤|k2|≤1.5。本申请的强化微晶玻璃通过采用上述结构的应力分布可以明显改善强化之后因应力梯度差过大导致的翘曲问题。题。题。


技术研发人员：谈宝权 胡伟 张延起 姜宏
受保护的技术使用者：重庆鑫景特种玻璃有限公司
技术研发日：2021.09.18
技术公布日：2021/12/7