光源设备和投影显示设备的制作方法

技术特征：
1.一种光源设备，包括：支撑基板，所述支撑基板在一个表面上具有荧光体层；驱动单元，所述驱动单元旋转驱动所述支撑基板；第一支撑构件，所述第一支撑构件与所述支撑基板的所述一个表面相反的另一表面面对面布置；多个第一散热构件，所述多个第一散热构件的散热性能根据与所述荧光体层的距离而各不相同，所述多个第一散热构件同心圆状地设置在所述支撑基板的所述另一表面上；和多个第二散热构件，所述多个第二散热构件同心圆状地设置在所述多个第一支撑构件的面向所述支撑基板的表面上，所述多个第二散热构件与所述多个第一散热构件交替地布置。2.根据权利要求1所述的光源设备，其中，在所述多个第一散热构件中，所述荧光体层附近的第一散热构件的散热性能高于其他第一散热构件的散热性能。3.根据权利要求2所述的光源设备，其中，所述荧光体层附近的所述第一散热构件的厚度大于所述其他第一散热构件的厚度。4.根据权利要求2所述的光源设备，其中，所述多个第一散热构件的厚度随着距所述荧光体层的距离的增加而减小。5.根据权利要求2所述的光源设备，其中，所述荧光体层附近的所述第一散热构件的长度大于所述其他第一散热构件的长度。6.根据权利要求2所述的光源设备，其中，所述多个第一散热构件的高度随着距所述荧光体层的距离的增加而减小。7.根据权利要求1所述的光源设备，其中，所述支撑基板和所述多个第一散热构件分开形成。8.根据权利要求1所述的光源设备，其中，所述多个第一散热构件与所述支撑基板一体地形成。9.根据权利要求1所述的光源设备，其中，所述多个第一散热构件布置成避开所述荧光体层的形成区域。10.根据权利要求1所述的光源设备，其中，所述荧光体层具有环形形状，并且所述光源设备进一步包括：一个或多个第三散热构件，所述一个或多个第三散热构件与所述荧光体层同心圆状地设置在所述支撑基板的所述一个表面上，第二支撑构件，所述第二支撑构件与所述支撑基板的所述一个表面面对面布置，以及一个或多个第四散热构件，所述一个或多个第四散热构件面对所述一个或多个第三散热构件，所述一个或多个第四散热构件设置在所述第二支撑构件的面向所述支撑基板的表面上。11.根据权利要求10所述的光源设备，其中，在所述多个第三散热构件中，所述荧光体层附近的第三散热构件的散热性能高于其他第三散热构件的散热性能。12.根据权利要求11所述的光源设备，其中，所述荧光体层附近的所述第三散热构件的厚度大于所述其他第三散热构件的厚度。
13.根据权利要求11所述的光源设备，其中，所述多个第三散热构件的厚度随着距所述荧光体层的距离的增加而减小。14.根据权利要求11所述的光源设备，其中，所述荧光体层附近的所述第三散热构件的长度大于所述其他第三散热构件的长度。15.根据权利要求11所述的光源设备，其中，所述多个第三散热构件的高度随着距所述荧光体层的距离的增加而减小。16.根据权利要求10所述的光源设备，其中，所述第一支撑构件和所述第二支撑构件包括在壳体中，所述壳体容纳具有所述荧光体层的支撑基板、所述多个第一散热构件、以及所述一个或多个第三散热构件。17.根据权利要求16所述的光源设备，其中，所述壳体的外侧进一步具有散热结构。18.根据权利要求16所述的光源设备，其中，所述壳体具有密封结构。19.根据权利要求16所述的光源设备，其中，所述壳体中进一步密封有氦气。20.一种投影显示设备，包括：光源设备；图像生成光学系统，所述图像生成光学系统通过基于输入的图像信号调制来自所述光源设备的光而生成图像光；和投影光学系统，所述投影光学系统投影由所述图像生成光学系统生成的图像光，所述光源设备包括：支撑基板，所述支撑基板在一个表面上具有荧光体层；驱动单元，所述驱动单元旋转驱动所述支撑基板；第一支撑构件，所述第一支撑构件与所述支撑基板的所述一个表面相反的另一表面面对面布置；多个第一散热构件，所述多个第一散热构件的散热性能根据与所述荧光体层的距离而各不相同，所述多个第一散热构件同心圆状地设置在所述支撑基板的所述另一表面上；和多个第二散热构件，所述多个第二散热构件同心圆状地设置在所述多个第一支撑构件的面向所述支撑基板的表面上，所述多个第二散热构件与所述多个第一散热构件交替地布置。

技术总结
根据本公开内容的实施方式的光源设备包括：支撑基板，所述支撑基板包括位于一个表面上的荧光体层；驱动单元，所述驱动单元使支撑基板被旋转驱动；第一支撑构件，所述第一支撑构件与所述支撑基板的所述一个表面相对的另一表面相对；多个第一散热构件，所述多个第一散热构件根据与荧光体层的距离而各自具有彼此不同的散热性能，所述多个第一散热构件同心圆状地设置在所述支撑基板的所述另一表面上；和多个第二散热构件，所述多个第二散热构件同心圆状地设置在第一支撑构件的与支撑基板相对的表面上，所述多个第二散热构件与所述多个第一散热构件交替地设置。第一散热构件交替地设置。第一散热构件交替地设置。


技术研发人员：西正太 高沢丈晴 石毛正裕
受保护的技术使用者：索尼集团公司
技术研发日：2020.05.26
技术公布日：2021/12/3