一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法与流程

技术特征：
1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：第一基板；第二基板，所述第二基板与所述第一基板相对设置，所述第一基板包括第一衬底以及光阻层；所述光阻层设置在所述第一衬底靠近所述第二基板的一侧；其中，所述光阻层的材料包括自修复材料；液晶层，所述液晶层设置于所述第一基板与所述第二基板之间，所述液晶层包括液晶分子、第一自取向层以及第二自取向层，所述第一自取向层设置于靠近所述第一基板的一侧，所述第二自取向层设置于靠近所述第二基板的一侧，所述液晶分子设置在所述第一自取向层和所述第二自取向层之间。2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述自修复材料的结构式为其中，r1基团的结构式为r2基团的结构式为r3基团和r4基团为碳原子数为5至11的烷基。3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，在所述光阻层中，所述自修复材料的质量百分比介于5％至30％之间。4.根据权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述光阻层的材料还包括遮光材料、高分子材料、可聚合单体、分散剂、光引发剂以及溶剂。5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，在所述光阻层中，所述遮光材料的质量百分比介于30％至70％之间，所述高分子材料的质量百分比介于10％至20％之间，所述可聚合单体的质量百分比介于1％至3％之间，所述分散剂的质量百分比介于1％至3％之间，所述光引发剂的质量百分比介于0.1％至0.3％之间，所述溶剂的质量百分比介于3％至21％之间。6.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二基板包括第二衬底和色阻层，所述色阻层设置在所述第二衬底靠近所述第一基板的一侧，所述色阻层至少包括两种子色阻层，所述光阻层对应所述子色阻层的交界处设置。7.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一第一基板和一与所述第一基板相对设置的第二基板，所述第一基板包括第一衬底；在所述第一衬底靠近所述第二基板的一侧设置光阻层，其中，所述光阻层的材料包括自修复材料；在所述光阻层上设置多个通孔；将所述第一基板与所述第二基板对位组装；在所述第一基板与所述第二基板之间设置液晶分子单体和自取向材料；
通过所述第一基板对所述液晶分子单体和自取向材料进行光照，所述液晶分子单体和所述自取向材料反应，以形成液晶层、第一自取向层和第二自取向层；其中，所述第一自取向层设置于靠近所述第一基板的一侧，所述第二自取向层设置于靠近所述第二基板的一侧，所述液晶分子设置在所述第一自取向层和所述第二自取向层之间；所述光阻层进行自修复以消除所述通孔。8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述通孔的宽度小于或等于100微米。9.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述光阻层进行自修复以消除所述通孔的时间大于350分钟。10.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一衬底靠近所述第二基板的一侧设置光阻层之前，还包括制备所述自修复材料，包括以下步骤：提供第一反应物与第二反应物，所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成自修复材料，其中，所述第一反应物的结构式为所述第二反应物的结构式为其中，r3基团和r4基团为碳原子数为5至11的烷基。

技术总结
本申请实施例公开了一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法。液晶显示面板在光阻层中添加了自修复材料。自修复材料具有室温自主自修复性、易再加工性以及良好的相容性。通过在光阻层上设置通孔以使光线透过，光线引发自取向层的聚合。然后在自取向层形成之后，自修复材料促成光阻层的自修复，消除光阻层上的通孔，使光阻层仍旧具有良好的遮光性。通过在光阻层中加入自修复材料，以改善自取向层的成膜均一性。膜均一性。膜均一性。


技术研发人员：周世新
受保护的技术使用者：TCL华星光电技术有限公司
技术研发日：2021.08.24
技术公布日：2021/11/28