技术特征：
1.一种校正方法，包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在所述腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向所述腔室供给处理气体；以及根据检测的阻抗的变化导出从开始向所述腔室供给处理气体起至处理气体到达所述腔室内为止的到达时间。2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，还包括以下工序：基于导出的到达时间，来校正开始供给所述处理气体的定时。3.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，还包括以下工序：基于导出的到达时间，来校正开始向所述载置台供给高频电力的定时。4.一种等离子体处理装置，具有：腔室，在所述腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；气体供给部，其向所述腔室供给处理气体；检测部，其检测所述腔室的阻抗；以及导出部，由所述检测部检测所述腔室的阻抗，并且开始从所述气体供给部向所述腔室供给处理气体，所述导出部根据由所述检测部检测到的阻抗的变化导出从开始向所述腔室供给处理气体起至处理气体到达所述腔室内为止的到达时间。
技术总结
本发明提供一种校正方法和等离子体处理装置，用于导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间。校正方法包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在该腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向腔室供给处理气体；以及根据检测到的阻抗的变化来导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间。体到达腔室内为止的到达时间。体到达腔室内为止的到达时间。
技术研发人员：张仁镐
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.04.19
技术公布日：2021/11/14
再多了解一些
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