一种硅片的刻蚀装置的制作方法

技术特征：
1.一种硅片的刻蚀装置，其特征在于，包括：片架；驱动组件，所述驱动组件与所述片架连接并用于驱动所述片架沿竖向往复运动；容器，所述容器开设有腐蚀槽，所述腐蚀槽位于所述片架的正下方；加热件，所述加热件位于所述容器的一侧，所述加热件用于对加入所述腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，还包括：支撑件，所述驱动组件安装于所述支撑件上，所述容器设置于所述支撑件的下方。3.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述驱动组件包括：驱动件、轮体一、杆一、杆二，所述驱动件安装于所述支撑件，所述轮体一与所述驱动件连接，所述杆一的一端铰接于所述轮体一，所述杆一的另一端与所述杆二铰接，所述杆二沿竖向滑动插设于所述支撑件上。4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，驱动组件还包括：导向套，所述导向套连接于所述杆二，所述导向套滑动插设于所述支撑件。5.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，驱动组件还包括皮带、轮体二、支座，所述支座安装于所述支撑件，所述轮体一转动安装于所述支座，所述轮体二安装于所述驱动件，所述皮带绕设于所述轮体二与所述轮体一之间。6.根据权利要求5所述的刻蚀装置，其特征在于，所述轮体二的直径小于轮体一的直径。

技术总结
本实用新型公开了一种硅片的刻蚀装置，包括：片架、驱动组件、容器、加热件，驱动组件与片架连接并用于驱动片架沿竖向往复运动，容器开设有腐蚀槽，腐蚀槽位于片架的正下方，加热件位于容器的一侧或设置于容器中，加热件用于对加入腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。通过驱动机构驱动片架带动硅片在腐蚀液中做往复运动，从而提高腐蚀液相对于硅片的流动速度，从而提高腐蚀液的腐蚀效果。蚀液的腐蚀效果。蚀液的腐蚀效果。


技术研发人员：龚雪玲 陈宇
受保护的技术使用者：扬州晶新微电子有限公司
技术研发日：2021.06.09
技术公布日：2021/11/9