一种硅片的刻蚀装置的制作方法

1.本实用新型涉及硅片加工领域，特别涉及一种硅片的刻蚀装置。


背景技术：

2.在芯片制造过程中，很多工步都需要对硅片进行刻蚀以获得设计图形。当采用湿法刻蚀时，为保证硅片表面均匀地刻蚀，需要使硅片和腐蚀液体充分接触，硅片不可能悬空在腐蚀液里，总要插在片架上再浸入腐蚀液，由于硅片与片架接触部分的间隙较小，这小部分面积附近的腐蚀液流动受到限制，使化学反应不能充分进行，于是腐蚀作用就不彻底，待腐蚀薄膜会留下残余，影响了产品的外观和性能。


技术实现要素：

3.本技术通过提供一种硅片的刻蚀装置，从而提高硅片的刻蚀效果。
4.本技术实施例提供了一种硅片的刻蚀装置，包括：
5.片架；
6.驱动组件，所述驱动组件与所述片架连接并用于驱动所述片架沿竖向往复运动；
7.容器，所述容器开设有腐蚀槽，所述腐蚀槽位于所述片架的正下方；
8.加热件，所述加热件位于所述容器的一侧，所述加热件用于对加入所述腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。
9.在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进：
10.进一步地：还包括：支撑件，所述驱动组件安装于所述支撑件上，所述容器设置于所述支撑件的下方。
11.进一步地：所述驱动组件包括：驱动件、轮体一、杆一、杆二，所述驱动件安装于所述支撑件，所述轮体一与所述驱动件连接，所述杆一的一端铰接于所述轮体一，所述杆一的另一端与所述杆二铰接，所述杆二沿竖向滑动插设于所述支撑件上。
12.进一步地：驱动组件还包括：导向套，所述导向套连接于所述杆二，所述导向套滑动插设于所述支撑件。本步的有益效果：通过导向套提高机构运动的稳定性。
13.进一步地：驱动组件还包括皮带、轮体二、支座，所述支座安装于所述支撑件，所述轮体一转动安装于所述支座，所述轮体二安装于所述驱动件，所述皮带绕设于所述轮体二与所述轮体一之间。
14.进一步地：所述轮体二的直径小于轮体一的直径。本步的有益效果：通过该种结构实现降速转动，从而提高片架运动的平稳性。
15.与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：通过驱动机构驱动片架带动硅片在腐蚀液中做往复运动，从而提高腐蚀液相对于硅片的流动速度，从而提高腐蚀液的腐蚀效果。
附图说明
16.为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
17.图1为本实用新型的结构示意图。
18.其中，
19.1片架；
20.2驱动组件，201驱动件，202轮体一，203杆一，204杆二，205导向套，206皮带，207轮体二，208支座；
21.3容器，301腐蚀槽；
22.4加热件，401板块，402加热体；
23.5支撑件。
具体实施方式
24.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“固接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，机械连接的方式可以在现有技术中选择合适的连接方式，如焊接、铆接、螺纹连接、粘接、销连接、键连接、弹性变形连接、卡扣连接、过盈连接、注塑成型的方式实现结构上的相连；也可以是电连接，通过电传递能源或者信号；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
25.具体实施例
26.如图1所述，一种硅片的刻蚀装置，包括：片架1、驱动组件2、容器3、加热件4，驱动组件2与片架1连接并用于驱动片架1沿竖向往复运动，容器3开设有腐蚀槽301，腐蚀槽301位于片架1的正下方，加热件4位于容器3的一侧或设置于容器3中，加热件4用于对加入腐蚀槽301中的腐蚀液进行加热。
27.如图1所述，该种刻蚀装置还包括：支撑件5，支撑件5放置于地面，驱动组件2安装于支撑件5的上端，容器3设置于支撑件5的下方。
28.如图1所述，驱动组件2包括：驱动件201、轮体一202、杆一203、杆二204，驱动件201采用电机，电机通过支架连接于支撑件5的上端，轮体一202与驱动件201连接，驱动件201用于驱动轮体一202转动，杆一203的一端铰接于轮体一202的端面上非圆心位置，杆一203的另一端与杆二204铰接，杆二204沿竖向滑动插设于支撑件5对应开设的通孔中，通过电机驱动轮体一202转动，从而使得杆一203连接于轮体一202的端部绕着轮体一202的转动中心做圆周运动，从而杆一203的另一端带动杆二204沿竖向做往复运动。
29.如图1所述，驱动组件2还包括：导向套205，导向套205连接于杆二204，导向套205滑动插设于支撑件5，导向套205为耐磨套，如采用自润滑铜套，一方面可以提高导向套205的滑动性能，另一方面，由于杆二204为细长杆且受外力容易变形，当采用短粗形的导向套205时，可以提高导向套205和杆二204形成的整体结构的强度，降低杆二204变形的概率并
且提高杆二204滑动过程的稳定性。
30.如图1所述，驱动组件2还包括：皮带206、轮体二207、支座208，支座208安装于支撑件5，轮体一202转动安装于支座208，轮体二207安装于电机的输出轴，皮带206绕设于轮体二207与轮体一202之间，其中，轮体二207的直径小于轮体一202的直径，从而在传动过程中起到降低转速的作用。
31.如图1所述，加热件4包括：板块401、加热体402，加热体402可以采用加热棒或者加热丝，加热体402设置于板块401中，容器3放置于板块401的上端，加热体402通电发热，使得板块401发热，从而对上方的容器3加热。
32.该种硅片的刻蚀装置在工作时，由加热件4对腐蚀液加热，电机转动，并通过轮体二207、皮带206、轮体一202减速传动，使得轮体一202的转速在30～40rpm之间，杆一203带动杆二204沿竖向做往复运动，杆二204运动行程在1.5
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2.5cm之间，从而片架1带动硅片在腐蚀液中沿竖向做往复运动，片架1在往复运动过程中，当片架1升至最高点，硅片不得露出腐蚀液的液面，当片架1降低至最低点时，片架1不得与腐蚀槽301的槽底接触，通过该种方式，从相对运动角度来说，在硅片和腐蚀液之间，相当于增加了腐蚀液在硅片表面流动的速度，即提高了腐蚀液在硅片和片架1间隙之间的流速，从而提高了腐蚀效果。
33.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。