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厚铜电路板及其制作方法与流程

2021-11-09 20:37:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种厚铜电路板的制作方法,其特征在于,包括:提供一镀铜基板,包括基材层和第一铜层,蚀刻所述第一铜层以形成第一线路层;覆盖一填料层至所述第一线路层;激光烧蚀所述填料层的顶层以露出所述第一线路层;形成一金属化薄膜至所述填料层上表面;形成第二铜层至所述金属化薄膜和所述第一线路层的表面;蚀刻所述第二铜层以形成第二线路层,所述第二线路层与所述第一线路层重合。2.如权利要求1所述的厚铜电路板的制作方法,其特征在于,所述“蚀刻所述第一铜层以形成第一线路层”包括:压合一第一干膜层至所述第一铜层表面;去除部分第一干膜层以形成电路图形至所述第一铜层表面;根据所述电路图形蚀刻所述第一铜层以形成所述第一线路层;剥离所述第一干膜层以裸露所述第一线路层。3.如权利要求1所述的厚铜电路板的制作方法,其特征在于,所述第二线路层重叠形成于所述第一线路层表面,并与所述第一线路层连接。4.如权利要求1所述的厚铜电路板的制作方法,其特征在于,所述金属化薄膜的上表面与所述第一线路层的上表面齐平。5.如权利要求1所述的厚铜电路板的制作方法,其特征在于,进一步包括步骤:去除所述金属化薄膜。6.如权利要求1所述的厚铜电路板的制作方法,其特征在于,所述“蚀刻所述第二铜层以形成第二线路层”包括:压合第二干膜层至所述第二铜层表面,去除部分第二干膜层以形成电路图形;根据所述电路图形蚀刻所述第二铜层以形成所述第二线路层;剥离所述第二干膜层。7.一种厚铜电路板,包括基材层、填料层、第一线路层和第二线路层,其特征在于,所述厚铜电路板由权利要求1-6任意一项所述的厚铜电路板的制作方法制成,所述第一线路层设置于所述基材层表面,所述填料层填充于所述第一线路层,所述第二线路层重叠设置于所述第一线路层表面。8.如权利要求7所述的厚铜电路板,其特征在于,所述第一线路层包括多个第一导电线,相邻第一导电线之间的间距大于或等于20μm。9.如权利要求8所述的厚铜电路板,其特征在于,所述第二线路层包括多个第二导电线,与所述第一导电线重叠设置,所述第二导电线的截面宽度小于或等于所述第一导电线的截面宽度。10.如权利要求7所述的厚铜电路板,其特征在于,所述第一线路层的厚度小于或等于60μm,所述第二线路层的厚度小于或等于60μm。

技术总结
本发明提供一种厚铜电路板的制作方法,包括:提供一镀铜基板,包括基材层和第一铜层,蚀刻所述第一铜层以形成第一线路层;覆盖一填料层至所述第一线路层;激光烧蚀所述填料层的顶层以露出所述第一线路层;形成一金属化薄膜至所述填料层上表面;形成第二铜层至所述金属化薄膜和所述第一线路层的表面;蚀刻所述第二铜层以形成第二线路层。上述厚铜电路板的制作方法通过在第一线路层设置填料层和金属化薄膜,并以第一线路层和填料层为基准形成第二线路层,既实现了增厚铜层的目的,又能够抑制水池效应,避免侧蚀。本申请还提供一种厚铜电路板。本申请还提供一种厚铜电路板。本申请还提供一种厚铜电路板。


技术研发人员:何四红
受保护的技术使用者:庆鼎精密电子(淮安)有限公司
技术研发日:2020.05.06
技术公布日:2021/11/8
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