用于制造机器的密封组件的各向同性精加工密封圈的方法和器具与流程

技术特征：
1.一种制造用于密封组件(30、36)的密封圈(111、112)的方法，所述制造方法包括：生产所述密封圈(111、112)，所述密封圈(111、112)包括负载端(131)、密封端(132)、负载表面(134)和密封面(136)，所述负载端(131)和所述密封端(132)沿着纵向轴线(la)呈彼此间隔开的关系，所述负载表面(134)沿着所述纵向轴线(la)在所述负载端(131)与所述密封端(132)之间延伸，所述密封面(136)设置在所述密封端(132)处并且是环形的，所述密封面(136)相对于所述纵向轴线(la)沿径向延伸；将涂层组合物层(142)施加到所述密封圈(111、112)的外表面(143)的至少一部分；对所述密封圈(111、112)的密封面(136)进行机械加工以限定密封带(140)；在施加所述涂层组合物层(142)之后，将掩模(300、400)放置在施加到所述密封圈(111、112)的外表面(143)的涂层组合物层(142)的至少一区域上方，所述掩模(300、400)相对于所述密封带(140)定位，使得所述掩模(300、400)从所述密封带(140)偏移以使所述密封带(140)暴露；在放置所述掩模(300、400)之后，通过使所述密封带(140)经受各向同性精加工过程来抛光所述密封带(140)。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述密封圈(111、112)由密封圈材料制成，并且所述涂层组合物层(142)比所述密封圈材料更耐腐蚀。3.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述涂层组合物层(142)包括磷酸锰。4.根据权利要求1或权利要求2所述的制造方法，其中通过将所述密封圈(111、112)设置在掩模构件(310、410)内来施加所述掩模(300、400)，所述掩模构件(310、410)限定周向凹槽(321、322；421、422)，所述密封圈(111、112)的负载端(131)设置在所述周向凹槽(321、322；421、422)内。5.根据权利要求4所述的制造方法，其中所述掩模构件(310、410)由耐酸材料制成，所述耐酸材料与所述各向同性精加工过程中使用的抛光介质不反应，并且具有60肖氏a或更小的硬度计硬度。6.根据权利要求4所述的制造方法，其中由所述掩模构件(310、410)限定的周向凹槽(321、322；421、422)构造成使得所述密封圈(111、112)设置在所述周向凹槽(321、322；421、422)内，其中所述负载表面(134)被覆盖并且只有所述密封面(136)的包含所述密封带(140)的部分暴露。7.根据权利要求6所述的制造方法，其中所述掩模构件(310、410)通过反向模制原型密封圈来制造。8.根据权利要求6所述的制造方法，其中所述掩模构件(410)包括第一掩模部分(431)和第二掩模部分(432)，所述第一掩模部分(431)包括内侧壁(437)和限定圆形凹部(441)的基部(438)，所述第二掩模部分(432)具有外周边(444)，所述第二掩模部分(432)构造成使得所述第二掩模部分(432)可定位在所述第一掩模部分(431)的圆形凹部(441)内，所述第一掩模部分(431)的内侧壁(437)和所述第二掩模部分(432)的外周边(444)共同协作以限定所述周向凹槽(421)。9.根据权利要求8所述的制造方法，其中所述掩模构件(410)由耐酸材料制成，所述耐酸材料与所述各向同性精加工过程中使用的抛光介质不反应，并且具有100肖氏a或更小的硬度计硬度。
10.一种用于制造密封组件(30、36)的环形密封圈(111、112)的方法中的器具，所述环形密封圈(111、112)具有负载端(131)、密封端(132)、负载表面(134)和密封面(136)，所述负载表面(134)在所述负载端(131)与所述密封端(132)之间沿轴向延伸，所述密封面(136)在所述密封端(132)处沿径向延伸，并且所述密封面(136)具有密封带(140)，所述器具包括：掩模构件(310、410)，所述掩模构件(310、410)限定周向凹槽(321、322；421、422)；其中所述周向凹槽(321、322；421、422)构造成使得所述环形密封圈(111、112)可设置在所述周向凹槽(321、322；421、422)内，其中所述负载端(131)在所述周向凹槽(321、322；421、422)内，所述负载表面(134)被所述掩模构件(310、410)覆盖，并且所述密封带(140)暴露。

技术总结
一种用于密封组件(30、36)的密封圈(111、112)包括本体(240)和密封凸缘(137)。本体(240)大体上是圆柱形的，在负载端(131)与密封端(132)之间沿纵向轴线(LA)延伸。密封凸缘(137)邻近本体(240)的密封端(132)设置，以包围方式从本体(240)沿径向突出。密封凸缘(137)包括密封面(136)，所述密封面具有用于与配合密封圈(111、112)密封接触的密封带(140)。至少向本体(240)施加被配制成帮助增加密封圈(111、112)的耐腐蚀性的涂层组合物层(142)。将掩模(300、400)施加到密封圈(111、112)以覆盖密封圈(111、112)的至少一部分，所述密封圈的至少一部分具有施加到其上的涂层组合物层(142)，使得密封带(140)保持暴露。密封带(140)通过各向同性精加工过程抛光。在各向同性地抛光密封带(140)之后移除掩模(300、400)。400)。400)。


技术研发人员：冯暴 C
受保护的技术使用者：卡特彼勒公司
技术研发日：2020.02.12
技术公布日：2021/11/5