一种晶体制备装置的制作方法

技术特征：
1.一种晶体制备装置，其特征在于，所述晶体制备装置包括：炉膛；温场，所述温场至少部分位于所述炉膛内，所述温场与真空装置密封连接；提拉杆，所述提拉杆的至少一部分位于所述温场内；以及运动装置，所述运动装置与所述提拉杆传动连接以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转。2.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述温场的一部分位于所述炉膛内，所述温场的另一部分位于所述炉膛外。3.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述炉膛包括炉盖，所述炉盖上设置第一通孔，所述温场通过所述第一通孔置于所述炉膛内。4.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述炉膛为非密闭结构。5.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述温场包括顶部开口；所述顶部开口与顶部密封件密封连接，其中，所述顶部密封件包括第二通孔，所述温场通过所述第二通孔与所述真空装置密封连接。6.如权利要求5所述的晶体制备装置，其特征在于，所述温场包括底部开口；所述底部开口与底部密封件密封连接。7.如权利要求5或6所述的晶体制备装置，其特征在于，所述顶部密封件或所述底部密封件为冷却密封件，所述冷却密封件中通入冷却介质进行冷却。8.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述晶体制备装置还包括密封套管，以使所述提拉杆处于密闭环境，其中，所述密封套管的一端与所述温场顶部密封连接。9.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述密封套管的另一端与所述运动装置的滑块密封连接。10.如权利要求1所述的晶体制备装置，其特征在于，所述温场包括：第一筒；第二筒，所述第二筒设置于所述第一筒内部；填充体，所述填充体填充于所述第二筒内部和/或所述第二筒与所述第一筒之间的空隙中。

技术总结
本说明书涉及一种晶体制备装置。该装置包括：炉膛；温场，所述温场至少部分位于所述炉膛内，所述温场与真空装置密封连接；提拉杆，所述提拉杆的至少一部分位于所述温场内；以及运动装置，所述运动装置与所述提拉杆传动连接以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转。动所述提拉杆上下运动和/或旋转。动所述提拉杆上下运动和/或旋转。


技术研发人员：王宇 官伟明 梁振兴 李敏
受保护的技术使用者：眉山博雅新材料有限公司
技术研发日：2020.06.24
技术公布日：2021/11/2