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一种高含固率剩余污泥培养微藻的系统及方法与流程

2021-11-03 12:39:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:包括污泥破碎箱、微藻培养罐和固设在所述微藻培养罐内的微藻培养室,所述污泥破碎箱的下方固设有超声变幅杆,所述超声变幅杆与超声波换能器连接,所述超声波换能器与超声波发生器电连接;所述污泥破碎箱的出泥口通过通泥管与所述微藻培养罐底部的入泥口连通,所述微藻培养室与所述微藻培养罐的内壁之间存在间隔,所述微藻培养室的底端和顶端均开口,所述微藻培养罐的底端设置有正对所述微藻培养室的底端的开口的进气管,所述进气管与气源连通,所述气源中含二氧化碳和压缩空气,所述微藻培养罐的顶端设置有正对所述微藻培养室的顶端的开口的出气阀,所述微藻培养罐内的顶部设置有多个伸入所述微藻培养室内的石英玻璃管,每个所述石英玻璃管内均设置有光源组件,所述微藻培养罐的顶部设置有上清液排放管,所述微藻培养罐的中部设置有泥藻混合相排放管。2.根据权利要求1所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述微藻培养罐的顶部还设置有一级导流罩,所述微藻培养室的顶部伸入所述一级导流罩内,所述一级导流罩的底端与所述微藻培养室的外壁之间具有间隔。3.根据权利要求2所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述一级导流罩内设置有若干个周向分布在所述微藻培养室的顶部外侧的旋流破碎器,所述旋流破碎器通过连接杆与所述一级导流罩的内壁固连;所述旋流破碎器的顶部设置有两个与所述旋流破碎器的内腔相切的进料口,所述旋流破碎器的内壁固设有多个呈螺旋状分布的凸起,所述凸起呈四面体状,所述凸起的材料为不锈钢。4.根据权利要求2所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述微藻培养室的侧壁上设置有导流环,所述导流环靠近所述一级导流罩的底端且位于所述一级导流罩的底端的下方。5.根据权利要求2所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述微藻培养罐的顶部还设置有二级导流罩和三级导流罩,所述一级导流罩、所述二级导流罩、所述三级导流罩同轴且依次由内而外分布,所述二级导流罩与所述微藻培养罐的顶端之间具有间隔,所述一级导流罩的底端缩口,所述二级导流罩的底端扩口。6.根据权利要求1所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述微藻培养室为中空柱状体,所述微藻培养室与所述微藻培养罐同轴,所述微藻培养室通过钢筋支撑架与所述微藻培养罐固连;所述光源组件为闪光发光二极管和线缆,所述发光二级管通过线缆与电源电连接,所述线缆穿过所述微藻培养罐的侧壁,所述石英玻璃管与所述微藻培养罐之间密封连接。7.根据权利要求1所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述上清液排放管还通过回流管与所述通泥管连通。8.根据权利要求1所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述超声变幅杆与所述污泥破碎箱的底板之间具有大于1cm的间隔,所述超声变幅杆的两端分别与所述污泥破碎箱的侧壁焊接。9.根据权利要求1所述的高含固率剩余污泥培养微藻的系统,其特征在于:所述高含固率剩余污泥的含固率不低于1%,优选为1%

5%;所述高含固率剩余污泥的cod值为300

500mg/l、有机物质量分数不低于70%、生物易降解有机组分质量分数为40

60%;优选地,所述高含固率剩余污泥为来自经重金属预去除的废水二级生化处理后的剩余污泥,预去除
重金属后的剩余污泥中重金属含量达到农用污泥污染物控制标准(gb4284

2018)。10.一种高含固率剩余污泥培养微藻的方法,其特征在于:将高含固率剩余污泥通入污泥破碎箱中进行超声破碎处理后,通入微藻培养罐中,在微藻培养室中经超声破碎处理后的所述高含固率剩余污泥与二氧化碳、压缩空气和微藻一起培养,所述高含固率剩余污泥与所述微藻的混合相在进气管通入的气体的推动下从所述微藻培养室的顶端流出所述微藻培养室,然后所述混合相流经旋流破碎器被破碎,所述微藻培养罐顶部的上清液通过上清液排放管、回流管、通泥管回流至所述微藻培养罐内。

技术总结
本发明公开了一种高含固率剩余污泥培养微藻的系统及方法,包括污泥破碎箱、微藻培养罐和固设在微藻培养罐内的微藻培养室,污泥破碎箱的下方固设有超声变幅杆;污泥破碎箱的出泥口通过通泥管与微藻培养罐底部的入泥口连通,微藻培养罐的底端设置有正对进气管,进气管与气源连通,微藻培养罐的顶端设置有出气阀,微藻培养罐内的顶部设置有多个伸入微藻培养室内的石英玻璃管,石英玻璃管内均设置有光源组件;将高含固率剩余污泥依次通入污泥破碎箱和微藻培养罐,先进行超声破碎预处理,再与二氧化碳、压缩空气和微藻一起培养。本发明实现了对高含固率剩余污泥的资源化利用。现了对高含固率剩余污泥的资源化利用。现了对高含固率剩余污泥的资源化利用。


技术研发人员:陈秀荣 杨莹莹 田金乙 赵家敏 令狐珊珊 陈智翀 丁彪 潘涛 余啸 唐宇琛
受保护的技术使用者:华东理工大学
技术研发日:2021.08.04
技术公布日:2021/11/2
再多了解一些

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