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一种具有N个弧面的微波天线反射面的制作方法

2021-11-03 10:38:00 来源:中国专利 TAG:

一种具有n个弧面的微波天线反射面
技术领域
1.本实用新型涉及微波天线技术领域,具体说的是一种具有n个弧面的微波天线反射面。


背景技术:

2.如图1所示,该反射面是一个通过模具旋压成形的抛物面钣金件,使用材料为3003铝型板材,主要应用于微波天线设备上,用来反射电磁波的信号。反射面的内表面常用的是光滑表面,由于旋压成形的精度影响,反射面的精度影响微波天线能量反射的效率。此外,从电性能的角度分析,由于反射面的限制,对于5g高频应用的微波天线在增益上有较大的损耗。


技术实现要素:

3.为解决上述技术问题,本实用新型提供一种具有n个弧面的微波天线反射面,提升整个微波天线的增益。
4.为实现上述技术目的,所采用的技术方案是:一种具有n个弧面的微波天线反射面,在反射面的内表面上均匀分布有n个向外凸起的弧面,该弧面与反射面的内表面之间的倾斜角为θ,θ的范围是1~5
°

5.相临的弧面之间设有间隙,间隙范围为0.1

0.2mm。
6.弧面为球面或抛物面。
7.反射面与n个弧面采用旋压工艺组合成型。
8.n个弧面排列方向微波天线的电磁波在反射面内表面上的反射方向一致。
9.本实用新型有益效果是:
10.1.电性能方面:反射面精度不受电磁波在抛物面光滑曲线中传播时的能量损耗的影响;通过调整n个小弧面与反射面的内表面倾斜角θ控制修补能量的损耗,θ的大小变化范围是1~5
°
,使得整个天线的增益有很大幅度的提升。
11.2.结构方面:该反射面的罩体和n个弧面采用旋压工艺组合起来,实现了良好的结构强度,也能保证了整个反射面精度,产品一致性高,十分适用于批量生产,具有良好的推广价值。
附图说明
12.图1为现有技术反射面的结构示意图;
13.图2为本实用新型的结构示意图;
14.图3为本实用新型的立体结构示意图;
15.图4为本实用新型的外表面图;
16.图中:1、反射面,2、弧面,3、馈源安装孔。
具体实施方式
17.一种具有n个弧面的微波天线反射面,天线反射面是指面天线中用以将馈源发出的电磁波按一定要求向某一方向集中反射,以加强发射效果的导电曲面或平面,当用于接收时,可以增强接收信号强度,改善接收效果,简称反射面。反射面材料可为铝,铜、钛、镁、不锈钢和具有金属镀层的玻璃纤维。该反射面与馈源组成微波天线,在反射面1的顶部中心设有用于安装馈源的馈源安装孔,反射面1的内表面用于反射电磁波的信号,在反射面的内表面上均匀分布有n个向外凸起的弧面,该弧面与反射面的内表面之间的倾斜角为θ,θ的范围是1~5
°
,此处反射面的内表面指的是未设有凸起弧面的原有表面,该原有表面为具有光滑曲线的抛物面。
18.反射面的设计要求来源于电、结构、环境、载体等方面。一般根据空气动力学的要求,确定反射面的罩体外形和尺寸;依照电性能指标、载荷分布、载体和环境条件(温度、湿度、高度等),选择反射面小弧面的类型,分析小弧面对天线主要电性能的影响,进行强度和结构稳定性分析,制定方案。电性能设计和结构设计密切相关,要反复优化。
19.相临的弧面2之间设有间隙,间隙范围为0.1

0.2mm,即相临的弧面之间不能有重叠,但也不能距离过大。弧面2为球面或抛物面。反射面1与n个弧面2采用旋压工艺组合成型,成形一致性好,结构精度高,适合天线的大批量生产。
20.n个弧面2排列方向微波天线的电磁波在反射面1内表面上的反射方向一致。通过对弧面大小及排列方式的限定 ,能进一步加强反射面对微波能量反射的能力。
21.该所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选方式进行描述,并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下,本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本实用新型的保护范围,本实用新型请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。


技术特征:
1.一种具有n个弧面的微波天线反射面,其特征在于:在反射面(1)的内表面上均匀分布有n个向外凸起的弧面(2),该弧面(2)与反射面(1)的内表面之间的倾斜角为θ,θ的范围是1~5
°
。2.如权利要求1所述的一种具有n个弧面的微波天线反射面,其特征在于:相临的弧面(2)之间设有间隙,间隙范围为0.1

0.2mm。3.如权利要求1所述的一种具有n个弧面的微波天线反射面,其特征在于:弧面(2)为球面或抛物面。4.如权利要求1所述的一种具有n个弧面的微波天线反射面,其特征在于:反射面(1)与n个弧面(2)采用旋压工艺组合成型。5.如权利要求1所述的一种具有n个弧面的微波天线反射面,其特征在于:n个弧面(2)排列方向微波天线的电磁波在反射面(1)内表面上的反射方向一致。

技术总结
一种具有N个弧面的微波天线反射面,在反射面的内表面上均匀分布有N个向外凸起的弧面,该弧面与反射面的内表面之间的倾斜角为θ,θ的范围是1~5


技术研发人员:窦华土 刘科种 许超磊 何汉顺 方思达 郭海兵 林学谦 冯秦栩
受保护的技术使用者:广东通宇通讯股份有限公司
技术研发日:2020.08.19
技术公布日:2021/11/2
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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