一种防壁流规整填料的制作方法
本技术涉及填料,具体是指一种防壁流规整填料。
背景技术:
1、填料的壁流效应是填料塔操作中常见的流体分布问题,由于塔壁与填料间存在间隙,流体流动阻力更小,流体在填料层中未沿整个截面均匀流动,而是偏向塔壁一侧流动,导致气液接触效率降低,减少有效传质面积,影响分离效果。
技术实现思路
1、本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,而提供一种防壁流规整填料。
2、为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:
3、一种防壁流规整填料,设置在填料塔内,所述防壁流规整填料包括外圈,外圈内设置有丝网填料,所述外圈上端向上延伸,外圈上方的延伸端加工有挡圈,挡圈的外圈与填料塔内壁接触,挡圈的内圈上加工有导流板,导流板朝向丝网填料。
4、进一步的,所述挡圈包括下挡圈板和上挡圈板,下挡圈板和上挡圈板的外圈之间形成与填料塔内壁接触的弧形凸面,所述上挡圈板的内圈向内侧延伸,导流板设置在上挡圈板内圈的延伸端上。
5、进一步的,所述导流板斜向丝网填料,导流板与上挡圈板的夹角为15°~20°。
6、与现有技术相比,本实用新型的一种防壁流规整填料,通过在填料上端加工挡圈,利用挡圈与塔壁接触,减小填料与塔壁之间的间隙,同时在挡圈上增加导流板,使液体向填料一侧流动,既保证分离效果,同时可以减少液体分布器的使用。
1.一种防壁流规整填料,设置在填料塔内,其特征在于:所述防壁流规整填料包括外圈,外圈内设置有丝网填料,所述外圈上端向上延伸,外圈上方的延伸端加工有挡圈,挡圈的外圈与填料塔内壁接触,挡圈的内圈上加工有导流板,导流板朝向丝网填料。
2.根据权利要求1所述的一种防壁流规整填料,其特征在于:所述挡圈包括下挡圈板和上挡圈板,下挡圈板和上挡圈板的外圈之间形成与填料塔内壁接触的弧形凸面,所述上挡圈板的内圈向内侧延伸,导流板设置在上挡圈板内圈的延伸端上。
3.根据权利要求2所述的一种防壁流规整填料,其特征在于:所述导流板斜向丝网填料,导流板与上挡圈板的夹角为15°~20°。
版权声明:本站专利文献数据主要来源于国家知识产权局等公开渠道,由 技术新讯 进行整理汇编。页面设计及数据汇编的著作权归本站所有。全部内容仅供个人学习、科研评估与技术交流参考,严禁用于任何商业用途(包括但不限于直接生产制造、技术转让、倒卖数据等)。
免责条款:专利技术具有时效性,本站不对资料的绝对准确性、完整性和可实施性提供任何明示或暗示的担保。因参考本站内容造成的直接或间接损失,本站不承担相关法律责任。若您认为本站内容有侵权问题,请及时提供权属证明与我们联系,本站将在核实后依法处理。反馈意见:yyfuon@163.com