紫外线处理装置的制作方法

本发明的实施方式涉及一种紫外线处理装置。

背景技术：

1、存在一种紫外线处理装置，其将紫外线照射到处理物，对包含有机物的处理物的表面进行改质，或者除去附着在处理物的表面的包含有机物的异物。

2、此处，紫外线具有使有机物的分子键解离的作用。另外，当对气体环境中所含的氧照射紫外线时，会生成臭氧，进而会生成作为活性氧原子的单重态氧原子。

3、因此，在包含氧的气体环境中，对处理物照射紫外线时，可使处理物的表面所含的有机物、或附着在处理物的表面的异物中所含的有机物的分子键解离，并使解离后的有机物的原子与臭氧或单重态氧原子键结。因此，可效率良好地对处理物的表面进行改质，或者效率良好地除去附着在处理物的表面的异物。

4、然而，为了进行此种处理，需要紫外线所引起的有机物的分子键的解离与紫外线所引起的氧分子的分解（臭氧与单重态氧原子的生成），因此需要使照射到处理物的表面的紫外线的照度稳定化为处于适当的范围内。

5、另外，有时也优选为根据处理物中所含的有机物的量、包含有机物的异物的量、有机物的种类、处理物对紫外线、臭氧及单重态氧原子的至少任一者的耐性等，使照射到处理物的表面的紫外线的照度稳定化为处于适当的范围内。

6、因此，期望开发一种可使照射到处理物的表面的紫外线的照度稳定化的紫外线处理装置。

7、[现有技术文献]

8、[专利文献]

9、[专利文献1]日本专利特开2008-101110号公报

技术实现思路

1、[发明所要解决的问题]

2、本发明所要解决的课题在于提供一种可使照射到处理物的表面的紫外线的照度稳定化的紫外线处理装置。

3、[解决问题的技术手段]

4、实施方式的紫外线处理装置包括：至少一个框体；光源，设置在所述框体的内部，能够将波长为240 nm以下的紫外线照射到处理物；定位辊，分别设置在所述框体的所述处理物的搬入侧及所述框体的所述处理物的搬出侧，并支撑所述处理物；以及移动部，能够使与所述处理物的搬送方向交叉的方向上的所述光源与所述处理物的搬送位置之间的距离发生变化。

5、[发明的效果]

6、根据本发明的实施方式，能够提供一种可使照射到处理物的表面的紫外线的照度稳定化的紫外线处理装置。

1.一种紫外线处理装置，包括：

2.根据权利要求1所述的紫外线处理装置，其中，所述移动部能够使与所述处理物的搬送方向交叉的方向上的所述定位辊的位置发生变化。

3.根据权利要求1或2所述的紫外线处理装置，其中，所述移动部能够使与所述处理物的搬送方向交叉的方向上的所述框体及所述光源的至少任一者的位置发生变化。

4.根据权利要求1或2所述的紫外线处理装置，其中，所述框体设置有多个，

5.根据权利要求1或2所述的紫外线处理装置，其中，所述移动部通过使与所述处理物的搬送方向交叉的方向上的、所述光源与所述搬送位置之间的距离发生变化，从而能够控制所述搬送位置上的紫外线的照度。

6.根据权利要求1或2所述的紫外线处理装置，还包括气体供给部，所述气体供给部能够向所述框体的内部空间供给包含氧的气体，

7.根据权利要求1或2所述的紫外线处理装置，其中，所述处理物包含聚对苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯的至少任一者，