一种新型抛光设备的制作方法

本技术涉及扫光机，尤其涉及一种扫光机的单个磨抛工位的新型抛光设备。

背景技术：

1、玻璃冷加工行业的抛光俗称扫光（也称磨抛，扫边，抛光）是指用抛光粉或者抛光液注射在高速玻璃抛光机工作面上，高速旋转摩擦使其玻璃表面光亮的过程，常用于手机玻璃的加工。

2、扫光机通常包括一个及以上的磨抛工位，每个磨抛工位设置磨抛装置，磨抛装置包括磨抛盘和位于磨抛盘下方的承载盘，待打磨的工件固定在承载盘上，打磨操作时，磨抛盘下压至底面的磨抛面紧贴承载盘上的工件表面，磨抛盘由驱动装置驱动绕其主轴转动进行打磨。为了打磨的更加均匀，现有技术中在磨抛盘打磨过程中承载盘同步自转实现复杂的打磨路径以提高扫光效果。但是，对于3d玻璃等，扫光效果仍存在不足。

3、此外，由于磨抛盘为易损件，在使用一段时间后需要更换。现有技术中更换时，需要停机人工更换，对人工依赖大，且对于多个磨抛工位的扫光机，即使仅需要更换其中部分工位的磨抛盘，其他工位也需要停机等待，导致生产不连续，影响生产效率。

技术实现思路

1、为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种新型抛光设备，能够提高研磨平整度，并针对性的对不同部位进行打磨。

2、一种新型抛光设备，包括：

3、下扫光组件,包括承载盘,其上设有若干与工件一一对应的工件放置位，工件固定在所述工件放置位，承载盘绕其中心自转;

4、上扫光组件,包括磨抛盘和磨抛主轴,所述磨抛盘可升降设置，磨抛盘绕磨抛主轴中心转动;

5、还包括,

6、移动平台,包括x轴移动单元和y轴移动单元,驱动上扫光组件和下扫光组件中的其中一个在xy平面内移动。

7、上述方案通过设置包含x轴和y轴移动单元的移动平台，驱动上扫光组件或下扫光组件在水平面内移动，使磨抛盘与承载盘上的工件之间不仅能通过相对反向的自转增加两者的相对摩擦，还能产生可控的、连续的平面轨迹相对运动。这种复合运动极大地丰富了磨抛路径，能够更有效地覆盖工件（尤其是3d曲面玻璃）的整个待加工表面，避免了单一旋转运动可能产生的磨削纹路重复或局部未磨到的问题，从而显著提升了工件的扫光均匀性和整体抛光效果。在磨抛盘打磨工作时可控制上扫光组件和下扫光组件在xy平面内相对移动，按阿基米德螺旋线及自转轨迹代替传统的磨抛轨迹，能够使产品表面轨迹更加均匀。此外，对于产品表面粗糙度不同的情况，可控制在xy平面内移动对产品表面指定位置进行针对性的打磨。

8、可选的，所述移动平台与下扫光组件连接，驱动承载盘在xy平面内移动。在一种可实现方案中，上扫光组件在xy平面内的相对位置固定，下扫光组件在水平面内移动，这种结构设计使得上方的磨抛主轴及磨抛盘可以保持相对简单和稳定的结构。

9、优选的，下扫光组件包括固定座，所述承载盘安装在固定座上，由驱动装置驱动自转；

10、x轴移动单元包括x轴平台和x轴驱动装置，x轴平台上沿x轴方向设有轨道；

11、y轴移动单元包括y轴平台和y轴驱动装置，y轴平台上沿y轴方向设有轨道；

12、所述x轴平台滑动安装在y轴平台上，由y轴驱动装置驱动沿y轴平台上的轨道移动；所述第二承载机架滑动安装在x轴平台上，由x轴驱动装置驱动沿x轴平台上的轨道移动。通过x轴平台、y轴平台、轨道及驱动装置的精密配合，实现了承载盘在xy平面内高精度、高稳定性的二维平动。这种模块化的移动平台设计保证了移动的直线度和定位精度，分层滑动的结构也使得整体装置结构紧凑，运动控制更加可靠。并且上述移动平台，x轴驱动装置、y轴驱动装置可贴合各层平台设置，使整体结构紧凑。进一步，按上述设置的下扫光组件，承载盘、驱动装置、固定座和移动平台构成一个整体模块，安装方便。

13、可选的，所述移动平台与上扫光组件连接，驱动磨抛盘在xy平面内移动。在另一种可实现方案中，将移动平台与上扫光组件的磨抛盘连接，驱动磨抛盘进行xy平面运动。由于上扫光组件是设置在特定工位上的，这种设计，在下扫光盘组件的承载盘需要在不同工位间转移时更加适用，能够使下扫光盘组件更加轻量化，对驱动下扫光盘组件在不同工位间转移的驱动装置的要求较低。

14、优选的，上扫光组件包括第一承载机架和第二承载机架，所述磨抛盘设置在所述第一承载机架上，第一承载机架可升降滑动设置在第二承载机架上，所述第二承载机架安装在移动平台上；

15、x轴移动单元包括x轴平台和x轴驱动装置，x轴平台上沿x轴方向设有轨道；

16、y轴移动单元包括y轴平台和y轴驱动装置，y轴平台上沿y轴方向设有轨道；

17、所述x轴平台滑动安装在y轴平台上，由y轴驱动装置驱动沿y轴平台上的轨道移动；所述第二承载机架滑动安装在x轴平台上，由x轴驱动装置驱动沿x轴平台上的轨道移动。类似的，按上述设置，上扫光组件及移动平台为模块化设置，结构紧凑。

18、优选的，所述承载盘设置在回转盘上，所述承载盘绕回转盘中心公转在不同工位间切换，且承载盘绕自身中心自转。通过设置回转盘，使多个承载盘能够在不同工位（例如上下料工位、磨抛工位）间切换。结合承载盘自身的自转和磨抛盘的xy平面运动，实现了多工位连续自动化生产。当一个承载盘上的工件正在进行磨抛时，其他工位的承载盘可同步进行上下料或准备工作，极大地减少了设备等待时间，实现了生产的无缝衔接，显著提高了整体生产效率。

19、优选的，还包括控制器，所述新型抛光设备采用全伺服驱动，伺服驱动器与控制器通信连接，且将磨抛过程信息量化反馈至所述控制器。使用全伺服驱动，能够对磨抛压力、转速、进给速度等参数进行精准控制，更好的确保各部件间的协同工作，并且能够对基于转速等参数评估磨抛盘的使用寿命、剩余抛光量等参数，实现对磨抛过程的量化控制。

1.一种新型抛光设备，包括：

2.根据权利要求1所述的一种新型抛光设备，其特征在于，所述移动平台与下扫光组件连接，驱动承载盘在xy平面内移动。

3.根据权利要求2所述的一种新型抛光设备，其特征在于，下扫光组件包括固定座，所述承载盘安装在固定座上，由驱动装置驱动自转；

4.根据权利要求1所述的一种新型抛光设备，其特征在于，所述移动平台与上扫光组件连接，驱动磨抛盘在xy平面内移动。

5.根据权利要求4所述的一种新型抛光设备，其特征在于，上扫光组件包括第一承载机架和第二承载机架，所述磨抛盘设置在所述第一承载机架上，第一承载机架可升降滑动设置在第二承载机架上，所述第二承载机架安装在移动平台上；

6.根据权利要求5所述的一种新型抛光设备，其特征在于，所述承载盘设置在回转盘上，所述承载盘绕回转盘中心公转在不同工位间切换，且承载盘绕自身中心自转。

7.根据权利要求1所述的一种新型抛光设备，其特征在于，还包括控制器，所述新型抛光设备采用全伺服驱动，伺服驱动器与控制器通信连接，且将磨抛过程信息量化反馈至所述控制器。