含有化合物K的用于改善皮肤更新周期的组合物的制作方法

本公开涉及一种含有化合物k的用于改善皮肤更新周期的组合物。相关申请的交叉引用本申请主张2024年4月4日申请的韩国专利申请第10-2024-0045898号的优先权，其全部内容通过引用并入本申请。

背景技术：

1、随着皮肤组织的衰老，炎症反应增强，已知uvb、微尘、蓝光（高能可见光；highenergy visible light）之类的外部刺激会诱发皮肤衰老。这些外部刺激被认为会进一步加速因自然衰老而出现的反应。

2、表皮层通过不断的角质形成和角质脱落过程来维持一定的皮肤更新（turnover）周期。当皮肤更新周期得不到维持而变短或变长时，包括皮肤对刺激的防御功能在内的表皮的正常功能会丧失。皮肤更新周期是皮肤基底层中存在的角质形成细胞增殖和分化，上升到角质层形成新的角质并脱落现有的角质层，并反复该过程，角质形成细胞的增殖是调节皮肤更新周期的重要因素。当皮肤角质形成细胞因炎症或外界刺激而衰老时，可自我复制的干性降低，细胞增殖能力下降，导致无法形成新的角质，造成表皮层变薄，最终皮肤更新周期会变长。

3、因此，为了改善皮肤更新周期，需要改善角质形成细胞的增殖能力，从而提高角质生成能力。

4、【现有技术文献】

5、【专利文献】

6、（专利文献1）韩国公开专利公告第10-2014-0003198号

技术实现思路

1、技术问题

2、本公开旨在提供一种组合物，其通过增加作为表皮层中与角质形成功能和干性相关的标志物的p63和klf4的表达，能够使角质形成细胞不断地自我复制，并通过促进细胞分裂，能够持续形成角质，从而有效修复因表皮细胞增殖受到抑制而变长的皮肤更新周期。

3、技术方案

4、为了达到所述目的，本发明的一实施例提供一种含有化合物k的用于改善皮肤更新周期的组合物。

5、发明效果

6、根据本公开的用于改善皮肤更新周期的组合物，其通过增加作为表皮层中与角质形成功能和干性相关的标志物的p63和klf4的表达，能够使角质形成细胞不断地自我复制，并通过促进细胞分裂，能够持续形成角质，从而能够有效修复因表皮细胞增殖受到抑制而变长的皮肤更新周期。

1.一种含有化合物k的用于改善皮肤更新周期的组合物。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，

3.根据权利要求1所述的组合物，其中，

4.根据权利要求1所述的组合物，其中，

5.根据权利要求1所述的组合物，其中，

6.根据权利要求1所述的组合物，其中，

7.根据权利要求1所述的组合物，其中，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的组合物，其中，

9.根据权利要求1至7中任一项所述的组合物，其中，