用于UVO清洗系统的热交换器的制作方法

本申请主张2024年6月28日申请的第63/665,517号美国临时专利申请的优先权的权利，所述申请的公开内容的全部内容以引用的方式并入本文中。本文中描述的实施例涉及紫外线-臭氧(uvo)清洗过程，且更具体来说，涉及一种用于uvo清洗过程中的热交换器。

背景技术：

1、uvo清洗系统由于其从光学组件(例如反射镜及透镜)移除有机污染物及/或碳堆积的能力而用于半导体制造中。特定来说，这些uvo清洗系统通过使氧暴露于紫外(uv)光而产生臭氧，其中臭氧与有机污染物反应以允许污染物容易地从光学组件的表面移除。

2、传统uvo清洗系统利用蒸气灯及/或激光来产生uv光。尽管有效，但这些光源产生大量热，这需要庞大的冷却系统来防止过热。此外，尤其在具有严格空间约束的系统内，这些传统uv光源及其相关联冷却系统的大小在集成方面提出挑战。因此，存在对一种包含在符合系统的严格空间约束的同时高效地传递来自uv光源的热的热交换器的uvo清洗系统的需要。

技术实现思路

1、本文中描述的实施例涉及一种用于清洗系统的热交换器。所述热交换器包含：外壳；及歧管，其耦合到所述外壳且至少部分延伸到所述外壳中。所述歧管包含：歧管主体，其在第一歧管端与第二歧管端之间延伸；及歧管通道，其形成于所述歧管主体内。所述热交换器进一步包含：光源，其可操作地耦合到所述歧管的所述第二歧管端；流体入口，其流体地耦合到所述歧管通道；及流体出口，其流体地耦合到所述歧管通道。所述流体入口经定位以将流体引导到所述歧管的所述第二歧管端上以冷却所述光源。

2、在本公开的其它实施例中，公开一种清洗系统。所述清洗系统包括：腔室，其包含多个光学组件；及热交换器，其耦合到所述腔室。所述热交换器包含：外壳；及歧管，其耦合到所述外壳且至少部分延伸到所述外壳中。所述歧管包含：歧管主体，其在第一歧管端与第二歧管端之间延伸；及歧管通道，其形成于所述歧管主体内。所述热交换器进一步包含：光源，其可操作地耦合到所述歧管的所述第二歧管端，使得所述光源将光引导到所述腔室的所述多个光学组件中的至少一者上；流体入口，其流体地耦合到所述歧管通道；及流体出口，其流体地耦合到所述歧管通道。所述流体入口经定位以将流体引导到所述歧管的所述第二歧管端上以冷却所述光源。

3、在又一实施例中，公开一种冷却用于清洗系统的热交换器的光源的方法。所述方法包含：引导流体通过流体地耦合到所述热交换器的歧管的流体入口；将所述流体从所述流体入口排出且排出到所述歧管的上面耦合所述光源的第二歧管端上；在所述歧管的所述第二歧管端上产生冲击冷却区以冷却所述光源；引导所述流体通过形成于所述歧管中的歧管通道；在所述歧管通道内产生环形对流区以冷却所述光源；及经由流体地耦合到所述歧管的流体出口从所述热交换器冲排所述流体。

4、从结合图式进行的以下描述明白这些方面及其它优点。

1.一种用于清洗系统的热交换器，所述热交换器包括：

2.根据权利要求1所述的热交换器，其中所述光源是发光二极管。

3.根据权利要求1所述的热交换器，其中多个凸缘从所述歧管的所述第一歧管端径向向外延伸。

4.根据权利要求3所述的热交换器，其中外缘形成于所述外壳上。

5.根据权利要求4所述的热交换器，其中多个紧固件延伸穿过所述歧管的所述多个凸缘及所述外壳的所述外缘以在所述外壳与所述歧管之间形成密封。

6.根据权利要求1所述的热交换器，其进一步包括流体地耦合到所述外壳的气体入口及流体地耦合到所述外壳的气体出口，使得气体可通过形成于所述外壳与所述歧管之间的腔。

7.根据权利要求6所述的热交换器，其中所述气体入口是真空配件。

8.根据权利要求6所述的热交换器，其中所述气体出口包含烧结过滤器。

9.根据权利要求1所述的热交换器，其中引导到所述歧管的所述第二歧管端上的所述流体进一步横穿所述歧管通道以产生环形对流区以冷却所述光源。

10.根据权利要求1所述的热交换器，其中所述流体入口进一步包含将流体引导到所述歧管的所述第二歧管端上的喷嘴。

11.根据权利要求1所述的热交换器，其中所述流体入口包含流体入口直径且所述歧管通道包含歧管通道直径，且所述歧管通道直径对所述流体入口直径的比率介于1.0到2.5之间。

12.根据权利要求1所述的热交换器，其中所述流体入口包含流体入口直径且所述流体入口定位成距所述第二歧管端某一距离，且所述距离对所述流体入口直径的比率介于0.1到1.0之间。

13.一种清洗系统，其包括：

14.根据权利要求13所述的清洗系统，其中所述流体入口包含流体入口直径且所述歧管通道包含歧管通道直径，且所述歧管通道直径对所述流体入口直径的比率介于1.0到2.5之间。

15.根据权利要求13所述的清洗系统，其中所述流体入口包含流体入口直径且所述流体入口定位成距所述第二歧管端某一距离，且所述距离对所述流体入口直径的比率介于0.1到1.0之间。

16.根据权利要求13所述的清洗系统，其中引导到所述歧管的所述第二歧管端上的所述流体进一步横穿所述歧管通道以产生环形对流区以冷却所述光源。

17.根据权利要求13所述的清洗系统，其中所述光源是发光二极管。

18.根据权利要求13所述的清洗系统，其进一步包括流体地耦合到所述外壳的气体入口及流体地耦合到所述外壳的气体出口，使得气体可通过形成于所述外壳与所述歧管之间的腔。

19.根据权利要求18所述的清洗系统，其中所述气体入口是真空配件。

20.一种冷却用于清洗系统的热交换器的光源的方法，所述方法包括：