一种导管连续表面处理装置的制作方法

本技术涉及一种等离子处理装置，特别是一种导管连续表面处理装置。

背景技术：

1、导管表面处理技术在医疗器械、生物工程、微电子等领域具有广泛应用，常需通过等离子体处理对导管表面进行清洗、活化或功能化改性，以改善其亲水性、生物相容性、抗凝血性或与其他材料的粘结性能。现有技术中，对导管进行等离子体处理主要采用两种模式：一种是基于真空腔体的批次式处理设备，另一种是常压条件下的等离子体喷枪处理设备。真空批次式处理设备通常将单根或多根导管置于密闭的真空腔室内，抽真空后通入工艺气体，再施加电场产生等离子体进行表面处理。这种设备虽然能实现较好的处理效果，但其处理过程不连续，需要反复进行抽真空、破真空等操作，生产效率低，设备投资和运行成本高，且难以实现长尺寸导管的在线连续处理。另一种常压等离子体喷枪设备，虽可在常压环境下操作，避免了真空系统的复杂性，但其产生的等离子体为射流状或束状，在处理圆柱形的导管时，通常只能对导管正对喷枪的局部区域进行处理。

2、因此，需要设计一种等离子体处理设备，对上述问题作出改进。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种导管连续表面处理装置，包括机座，所述机座上设置有平行设置的第一介质管和第二介质管，所述第一介质管的端部连接有馈入电极，所述第二介质管的端部连接有接地电极，所述第一介质管与第二介质管之间形成供导管通过的放电通道；

2、物料收集机构，包括设置于放电通道两端的放料端、收料端，所述导管连接于放料端、收料端；

3、以及连续控制系统，所述连续控制系统与物料收集机构连接，以控制导管自放料端穿过放电通道移动至收料端。

4、进一步地，所述第一介质管与第二介质管均为陶瓷管。

5、进一步地，所述机座包括设置于放电通道两侧的两个绝缘端块，所述绝缘端块上设有供导管穿过的通道孔以及供电极安装的安装孔。

6、进一步地，所述馈入电极与接地电极的一端通过接头与电源连接或接地，另一端伸入至安装孔内并嵌入介质管的中心。

7、进一步地，所述第一介质管设置于第二介质管的上方。

8、进一步地，两个绝缘端块之间还设置有支撑梁，所述支撑梁的两端分别与两个绝缘端块通过螺栓连接。

9、进一步地，所述机座还包括集气罩，所述集气罩为半密封结构，覆盖设置在绝缘端块与支撑梁的上部。

10、进一步地，集气罩的顶部连接有通风口。

11、进一步地，所述放料端与收料端分别设置有一个固定支架，所述固定支架上转动连接有料盘，所述导管的两端分别绕设在料盘上；所述连续控制系统包括在放料端与收料端的其中一端设置的伺服电机，所述伺服电机连接在固定支架上，其输出端与对应的料盘连接。

12、本实用新型提供了一种导管连续表面处理装置，包括机座，所述机座上平行设置有第一介质管和第二介质管，第一介质管端部连接馈入电极，第二介质管端部连接接地电极，两介质管之间形成供导管穿过的放电通道；放电通道两端设置有放料端和收料端，导管两端分别绕卷在放料端和收料端的料盘上；通过伺服电机驱动料盘转动，控制导管从放料端匀速穿过放电通道移动至收料端。该装置基于介质阻挡放电原理，在放电通道内产生均匀稳定的等离子体，当导管连续通过时，其表面受到高能粒子的物理轰击和化学作用，实现高效、均匀的清洗、活化和改性处理，具有处理效率高、效果均匀、可实现自动化连续作业的优点。

13、本实用新型的导管连续表面处理装置通过创新的介质管平行布置结构和连续传输系统，实现了导管表面的高效、均匀处理。具整个装置结构紧凑合理，不仅提高了导管表面处理的效率和质量，还能适应不同规格导管的处理需求，具有自动化程度高、操作简便、安全性好等综合优势。

1.一种导管连续表面处理装置，其特征在于：包括机座，所述机座上设置有平行设置的第一介质管（3）和第二介质管（4），所述第一介质管（3）的端部连接有馈入电极（5），所述第二介质管（4）的端部连接有接地电极（6），所述第一介质管（3）与第二介质管（4）之间形成供导管（17）通过的放电通道（7）；

2.如权利要求1所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述第一介质管（3）与第二介质管（4）均为陶瓷管。

3.如权利要求1所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述机座包括设置于放电通道（7）两侧的两个绝缘端块（8），所述绝缘端块（8）上设有供导管（17）穿过的通道孔（9）以及供电极安装的安装孔（10）。

4.如权利要求3所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述馈入电极（5）与接地电极（6）的一端通过接头与电源连接或接地，另一端伸入至安装孔（10）内并嵌入介质管的中心。

5.如权利要求3所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述第一介质管（3）设置于第二介质管（4）的上方。

6.如权利要求3所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：两个绝缘端块（8）之间还设置有支撑梁（11），所述支撑梁（11）的两端分别与两个绝缘端块（8）通过螺栓连接。

7.如权利要求6所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述机座还包括集气罩（12），所述集气罩（12）为半密封结构，覆盖设置在绝缘端块（8）与支撑梁（11）的上部。

8.如权利要求7所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：集气罩（12）的顶部连接有通风口（13）。

9.如权利要求1所述的一种导管连续表面处理装置，其特征在于：所述放料端（1）与收料端（2）分别设置有一个固定支架（14），所述固定支架（14）上转动连接有料盘（15），所述导管（17）的两端分别绕设在料盘（15）上；所述连续控制系统包括在放料端（1）与收料端（2）的其中一端设置的伺服电机（16），所述伺服电机（16）连接在固定支架（14）上，其输出端与对应的料盘（15）连接。