显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏与流程

摘要: 本申请属于显示,尤其涉及一种显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏。背景技术:1、有机发光二极管(organiclightemittingdiode,oled)以...
显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏与流程

本申请属于显示,尤其涉及一种显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏。

背景技术:

1、有机发光二极管(organic light emitting diode,oled)以及基于发光二极管(light emitting diode,led)等技术的平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑、台式电脑等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。

2、但目前的oled显示产品的使用性能有待提升。

技术实现思路

1、本申请的目的是提供了一种显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏,能够提高显示屏的性能。

2、本申请第一方面提供一种显示屏的制备方法,包括:

3、提供一基板;

4、在基板的一侧形成发光层,发光层包括多个发光单元,多个发光单元呈阵列排布,多个发光单元用于发出光线;

5、在发光层背离基板的一侧形成封装层,封装层覆盖多个发光单元,封装层用于对多个发光单元进行封装;

6、在封装层背离基板的一侧形成触控功能层,触控功能层用于传输触控信号;

7、在触控功能层背离基板的一侧形成防污保护层,构成预备显示结构;

8、对预备显示结构进行切割,形成多个预备显示屏;

9、对预备显示屏进行处理,去除预备显示屏的表面的污染物;

10、在预备显示屏上形成偏光片,偏光片用于调节发光单元发出的光线。

11、在一些实施例中,对预备显示屏进行处理,去除预备显示屏表面的污染物的步骤,包括:

12、去除防污保护层;

13、优选地,在预备显示屏上形成偏光片的步骤包括:

14、在触控功能层背离基板的一侧形成偏光片;

15、优选地,去除防污保护层的步骤中,采用等离子处理工艺去除防污保护层。

16、在一些实施例中,对预备显示屏进行处理,去除预备显示屏表面的污染物的步骤,包括:

17、去除防污保护层背离基板一侧表面的污染物;

18、优选地,在预备显示屏上形成偏光片的步骤包括:

19、在防污保护层背离基板的一侧形成偏光片;

20、优选地,在触控功能层背离基板的一侧形成防污保护层的步骤中,防污保护层背离基板一侧的表面包括绒毛结构;

21、优选地,去除防污保护层背离基板一侧表面的污染物的步骤之后,还包括:

22、去除部分防污保护层;

23、优选地,去除部分防污保护层的步骤包括:去除绒毛结构的至少部分。

24、在一些实施例中,防污保护层的材料包括有机材料;

25、优选地,防污保护层的材料包括疏水材料;

26、优选地,防污保护层的材料包括氟化物、硅烷中的至少一者;

27、优选地,防污保护层的厚度h1满足:5纳米≤h1≤20纳米。

28、在一些实施例中,在触控功能层背离基板的一侧形成防污保护层之前,还包括:

29、在触控功能层背离基板的一侧形成平坦化层;

30、优选地,防污保护层背离基板一侧表面的动摩擦系数小于平坦化层背离基板一侧表面的动摩擦系数;

31、优选地,防污保护层背离基板一侧表面的动摩擦系数μ满足:0.02≤μ≤0.1。

32、在一些实施例中,在触控功能层背离基板的一侧形成防污保护层的步骤中,防污保护层呈整层设置;

33、优选地,显示屏包括显示区和非显示区,防污保护层的一部分位于显示区,另一部分位于非显示区。

34、在一些实施例中,在预备显示屏上形成偏光片的步骤,包括:

35、提供一偏光片;

36、将偏光片转移至预备显示屏,偏光片与预备显示屏连接;

37、优选地,将偏光片转移至预备显示屏,偏光片与预备显示屏连接的步骤中,偏光片与预备显示屏粘接。

38、在一些实施例中,在各预备显示屏上形成偏光片的步骤之后,还包括:

39、在偏光片背离基板的一侧形成盖板,构成显示屏;

40、优选地,盖板的材料包括透光材料;

41、优选地,在偏光片背离基板的一侧形成盖板的步骤之前,还包括:

42、在偏光片背离基板的一侧形成连接胶层。

43、本申请第二方面提供一种显示屏,采用以上任一项的制备方法制备形成。

44、本申请第三方面提供一种预备显示屏,包括基板、发光层、封装层、触控功能层及防污保护层,发光层设置于基板的一侧,发光层包括多个发光单元,多个发光单元呈阵列排布,多个发光单元用于发出光线;封装层设置于发光单元背离基板的一侧,封装层覆盖多个发光单元,封装层用于对多个发光单元进行封装;触控功能层设置于封装层背离基板的一侧,触控功能层用于传输触控信号;防污保护层设置于触控功能层背离基板的一侧。

45、在一些实施例中,所述防污保护层背离所述基板一侧的表面包括绒毛结构;

46、优选地,所述防污保护层的材料包括氟化物、硅烷中的至少一者;

47、优选地,所述防污保护层的厚度h1满足:5纳米≤h1≤20纳米;

48、优选地,所述防污保护层背离所述基板一侧表面的动摩擦系数μ满足:0.02≤μ≤0.1。

49、本申请实施例提供一种显示屏的制备方法、显示屏及预备显示屏,制备方法中,先在基板的一侧形成发光层,发光层包括阵列排布的多个发光单元,随后在发光层背离基板的一侧形成封装层,封装层覆盖多个发光单元,用于对多个发光单元进行封装,然后在封装层背离基板的一侧形成触控功能层,用于传输触控信号,之后在触控功能层背离基板的一侧形成防污保护层,以构成预备显示结构,随后将预备显示结构切割为多个预备显示屏,并对预备显示屏进行处理,以去除预备显示屏表面的污染物,从而能够在相对清洁的预备显示屏的表面形成偏光片,以提高偏光片的制备良率和质量,提升显示屏的使用性能。并且,在前述过程中,防污保护层能够在预备显示结构的切割过程中对触控功能层及其下方膜层进行防污保护,避免污染物直接粘附于触控功能层的表面,从而能够降低污染物的去除难度,减小污染物去除过程中对触控功能层及其下方膜层造成的影响,以进一步提升显示屏的使用性能。

1.一种显示屏的制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述对所述预备显示屏进行处理,去除所述预备显示屏的表面的污染物的步骤,包括:

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述对所述预备显示屏进行处理,去除所述预备显示屏的表面的污染物的步骤,包括:

4.根据权利要求1~3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述防污保护层的材料包括有机材料;

5.根据权利要求1~3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述在所述触控功能层背离所述基板的一侧形成防污保护层之前,还包括:

6.根据权利要求1~3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述在所述触控功能层背离所述基板的一侧形成防污保护层的步骤中,所述防污保护层呈整层设置;

7.根据权利要求1~3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述在各所述预备显示屏上形成偏光片的步骤之后,还包括:

8.一种显示屏,其特征在于,采用权利要求1~7任一项所述的制备方法制备形成。

9.一种预备显示屏,其特征在于,包括:

10.根据权利要求9所述的预备显示屏,其特征在于,所述防污保护层背离所述基板一侧的表面包括绒毛结构;