卧式晶片旋转腐蚀机构的制作方法

本技术涉及晶振制备，尤其涉及一种卧式晶片旋转腐蚀机构。

背景技术：

1、在3215型晶片（如石英晶体谐振片）的湿法化学腐蚀工艺中，为了获得精确的频率和表面光洁度，必须严格控制腐蚀液的流场分布和机械冲击力。现有技术存在以下瓶颈：

2、角度敏感性与良率矛盾：传统夹具多采用平行（0°）或垂直（90°）放置。平行放置时，晶片表面易形成层流边界层，腐蚀液更新慢，导致腐蚀不净；垂直放置时，液流冲击力垂直作用于薄脆晶片，极易造成裂片或崩边。

3、取片效率低下：每套夹具容纳20多片晶片，传统结构需逐一拆卸螺丝或拔插销才能取料，不仅耗时，还容易在操作中损伤晶片表面。

4、设备腐蚀与维护难：腐蚀液（氢氟酸、强碱等）挥发性强。若电机直连浸入液下，密封圈易老化漏液；若采用皮带轮外置传动，占地面积大且转速不稳。现有设备难以在批量浸泡、电机安全之间取得平衡。

5、因此，研发一种集斜角流场优化、两级快拆结构及双态防腐蚀驱动于一体的腐蚀机构，是提升3215晶片产能与良率的关键。

技术实现思路

1、本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种卧式晶片旋转腐蚀机构，以提升3215晶片产能与良率。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种卧式晶片旋转腐蚀机构，包括电机、传动副、安装板、转轴、转筒，传动副、转轴对应设于安装板上，电机通过传动副驱动转轴转动，转筒设于转轴上，转筒上设有夹具以及快拆块，夹具上设有若干用于放置晶片的放置槽，快拆块用于压紧放置槽内的晶片，放置槽内的晶片与转筒旋转切线方向呈预设角度的夹角。

3、进一步地，转筒包括两个夹具侧板，所述夹具设于两个夹具侧板之间。

4、进一步地，还包括锁紧螺母，转轴穿过转筒的两个夹具侧板中心，所述夹具有多个且绕转轴一周均匀间隔设置；锁紧螺母装于转轴上，将转筒固定在转轴上。

5、进一步地，转轴上设有与转筒对应的限位部，转筒通过锁紧螺母和限位部夹紧固定。

6、进一步地，夹具上的放置槽沿轴向并排设置。

7、进一步地，快拆块一端通过一转动轴设于一侧夹具侧板上，快拆块另一端设有卡槽，另一侧夹具侧板上对应设有卡销。

8、进一步地，夹具由晶片支撑块以及2个对应设于晶片支撑块两侧的晶片侧板组成。

9、进一步地，晶片侧板中部镂空。

10、进一步地，所述传动副为多级齿轮驱动结构。

11、进一步地，预设角度为15°±0.5°。

12、本实用新型的有益效果为：

13、1）本实用新型的良率大幅提升：15°斜角是流体力学与材料力学的平衡点，彻底根除了平行不腐蚀、垂直易碎片的缺陷，经测试腐蚀深度均匀性提升至98%以上。

14、2）本实用新型的效率倍增：本实用新型使换型时间从30分钟缩短至1分钟，快拆块使单次取20片晶片的时间从5分钟缩短至10秒，且避免了单片划伤。

15、3）设备全生命周期防护：本实用新型的电机始终身处干区，彻底解决了腐蚀液蒸汽对昂贵伺服电机的侵蚀，设备故障率降低90%。

16、4）工艺灵活性：同一套设备可通过切换姿态，适应大批量单一品种的生产需求。

1.一种卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，包括电机、传动副、安装板、转轴、转筒，传动副、转轴对应设于安装板上，电机通过传动副驱动转轴转动，转筒设于转轴上，转筒上设有夹具以及快拆块，夹具上设有若干用于放置晶片的放置槽，快拆块用于压紧放置槽内的晶片，放置槽内的晶片与转筒旋转切线方向呈预设角度的夹角。

2.如权利要求1所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，转筒包括两个夹具侧板，所述夹具设于两个夹具侧板之间。

3.如权利要求2所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，还包括锁紧螺母，转轴穿过转筒的两个夹具侧板中心，所述夹具有多个且绕转轴一周均匀间隔设置；锁紧螺母装于转轴上，将转筒固定在转轴上。

4.如权利要求3所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，转轴上设有与转筒对应的限位部，转筒通过锁紧螺母和限位部夹紧固定。

5.如权利要求2所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，夹具上的放置槽沿轴向并排设置。

6.如权利要求2所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，快拆块一端通过一转动轴设于一侧夹具侧板上，快拆块另一端设有卡槽，另一侧夹具侧板上对应设有卡销。

7.如权利要求1所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，夹具由晶片支撑块以及2个对应设于晶片支撑块两侧的晶片侧板组成。

8.如权利要求7所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，晶片侧板中部镂空。

9.如权利要求1所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，所述传动副为多级齿轮驱动结构。

10.如权利要求1所述的卧式晶片旋转腐蚀机构，其特征在于，预设角度为15°±0.5°。