硅片镀膜装置及电池片生产系统的制作方法

技术特征：
1.一种硅片镀膜装置，其特征在于，包括：镀膜机构(100)，所述镀膜机构(100)设有镀膜腔(110)；输送机构(200)，所述输送机构(200)用于将载具(1000)输送至镀膜腔(110)内进行镀膜后输出，所述输送机构(200)具有处于所述镀膜腔(110)后方的下料位置(210)；载具处理机构(300)，所述载具处理机构(300)位于所述下料位置(210)远离所述镀膜腔(110)的一侧，所述载具处理机构(300)设有处理腔(310)以对所述载具(1000)进行清理并对所述载具(1000)进行非晶硅膜层的沉积；下料机构(400)，所述下料机构(400)位于所述输送机构(200)与所述载具处理机构(300)之间，所述下料机构(400)用于将所述下料位置(210)处的载具(1000)转运至所述处理腔(310)内。2.根据权利要求1所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括存储机构(500)，所述存储机构(500)设有存储腔(510)，通过所述下料机构(400)将所述处理腔(310)内的所述载具(1000)转运至所述存储腔(510)内。3.根据权利要求2所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括抽真空机构，所述抽真空机构用于对所述存储腔(510)进行抽真空处理。4.根据权利要求2所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述下料机构(400)设置为升降平台(410)，所述处理腔(310)及所述存储腔(510)沿所述升降平台(410)的升降方向排布，且所述存储腔(510)设置于所述处理腔(310)的下方。5.根据权利要求4所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括第一输送件(600)，所述第一输送件(600)设置于所述升降平台(410)与所述存储腔(510)之间以使得所述载具(1000)在所述升降平台(410)与所述存储腔(510)之间进行转运。6.根据权利要求4所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括第二输送件，所述第二输送件设置于所述升降平台(410)与所述处理腔(310)之间以使得所述载具(1000)在所述升降平台(410)与所述处理腔(310)之间进行转运。7.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述镀膜机构(100)设有第一电离组件及与所述镀膜腔(110)连通的第一注气通道，所述第一电离组件设置于所述镀膜腔(110)内。8.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述载具处理机构(300)设有开关门(320)、第二电离组件(330)、与所述处理腔(310)连通的第一开口及与所述处理腔(310)连通的第二注气通道，所述第一开口朝向所述下料机构(400)设置，所述开关门(320)设置于所述第一开口处并用于控制所述第一开口的封闭与打开，所述第二电离组件(330)设置于所述处理腔(310)内。9.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括回传机构(700)及载具识别元件(800)，所述回传机构(700)与所述下料机构(400)对接以回传所述载具(1000)，所述载具识别元件(800)用于对所述回传机构(700)上的载具(1000)进行识别并进行使用次数的计数，所述载具识别元件(800)与所述下料机构(400)电性连接。10.一种电池片生产系统，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的硅片镀膜装置。

技术总结
本实用新型涉及一种硅片镀膜装置及电池片生产系统，由于载具处理机构位于所述下料位置远离所述镀膜腔的一侧，即处理腔与镀膜腔为不同的腔室，从而能够分别对镀膜腔的内壁进行清理以及对载具进行清理，而且，对镀膜腔的内壁进行清理后即可进行产线的运转而将载具的清理单独通过载具处理机构进行，占用的生产时间大大减少，保证生产效率。同时，只需在进行镀膜腔的内壁清理时进行反应气体的通入，反应气体在镀膜腔内的用量少，不会或极少在镀膜腔内残留，不会对镀膜腔造成污染，保证产品的电流效率。效率。效率。


技术研发人员：李开典 徐磊
受保护的技术使用者：通威太阳能（安徽）有限公司
技术研发日：2023.03.16
技术公布日：2023/9/1