技术特征：
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：真空腔体，所述真空腔体包括真空腔室；位于所述真空腔室内，且与所述真空腔体内壁固定连接的冷阱管道；与所述冷阱管道连通的制冷器，所述制冷器设置于所述真空腔体的外部。2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述冷阱管道采用金属管道。3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述金属管道包括：铜管。4.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述制冷器的温控范围为：零下100摄氏度～零下200摄氏度。5.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述冷阱管道呈“s”形排布。6.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述冷阱管道与所述真空腔体内壁之间具有间隙。7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述间隙的尺寸范围为：大于或等于40毫米。8.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述冷阱管道通过支撑件与所述真空腔体内壁固定连接。9.如权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑件包括：陶瓷支撑件。10.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述制冷器包括：快速循环水汽深冷泵。
技术总结
一种镀膜设备，包括：真空腔体，所述真空腔体包括真空腔室；位于所述真空腔室内，且与所述真空腔体内壁固定连接的冷阱管道；与所述冷阱管道连通的制冷器，所述制冷器设置于所述真空腔体的外部。由于镀膜质量对真空度的要求较高，而镀膜设备中的水汽对抽真空的影响较大，当水汽含量较高时无法使得所述真空腔室内的真空值达到预定范围。因此通过位于所述真空腔室内的所述冷阱管道，能够迅速的将所述真空腔室内的水汽捕集并冷凝在表面，从而使系统快速获得所需要的工艺真空条件，保证了膜材分子自由程和精准的光学厚度，显著提高镀膜沉积质量和生产效率，提高膜基界面结合力。提高膜基界面结合力。提高膜基界面结合力。
技术研发人员：宗坚
受保护的技术使用者：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
技术研发日：2022.09.01
技术公布日：2022/11/29
再多了解一些
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